国際特許分類[G03F7/40]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料の処理;そのための装置 (4,777) | 画像様除去後の処理,例.加熱 (1,695)
国際特許分類[G03F7/40]に分類される特許
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感光性エレメント及びこれを用いた蛍光体パターンの製造法
【課題】 エッジフュージョンの抑制及びPDP用基板の空間への埋め込み性が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを、混色なく、作業性良く形成できる感光性エレメント並びに蛍光体パターンの製造法を提供する。
【解決手段】 支持体フィルム上に、(A)感光性の熱可塑性樹脂層を有し、その上に(B)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有する感光性エレメント並びに(I)前記感光性エレメントを、バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパネル用基板上に、(B)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着する工程、(II)活性光線を像的に照射する工程、(III)現像により不要部を除去する工程、(IV)焼成により不要分を除去する工程の各工程を含む蛍光体パターンの製造法。
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パターンの形成方法
平版印刷版の製造方法
【課題】 検版性に優れた刷版を得る。
【解決手段】 基板上に少なくとも感光性の親水性膨潤層を備えた感光性平版印刷版原版を製版する際に、染色することを特徴とする感光性平版印刷版の製版方法。
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光構造化方法
光構造化方法
【目的】 二層法で寸法通りの構造物転移をまた解像限度を越える構造物の製造を可能とし、その際高い透過性、サブミクロン範囲においてもなお高い解像力及び高感度がもたらされる構造物を製造する。
【構成】 サブミクロン範囲で構造物を製造するに当たり、基板上に、第1又は第2アミンと反応する官能基及びNブロックされたイミド基を有するポリマー成分と、露光時に酸を遊離する光開始剤と、適当な溶剤 とからなるフォトレジスト層を施し、フォトレジスト層を乾燥し、フォトレジスト層を画像に応じて露光し、露光したフォトレジスト層を熱処理し、こうして処理したフォトレジスト層を水性アルカリ又は有機現像剤で現像してフォトレジスト構造物とし、フォトレジスト構造物を、第1又は第2アミンを含む化学試薬で処理し、その際現像時に一定の暗損傷を20〜100nmの範囲で起こさせる。
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