【課題】 エッジフュージョンの抑制及びＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを、混色なく、作業性良く形成できる感光性エレメント並びに蛍光体パターンの製造法を提供する。
【解決手段】 支持体フィルム上に、（Ａ）感光性の熱可塑性樹脂層を有し、その上に（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有する感光性エレメント並びに（Ｉ）前記感光性エレメントを、バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパネル用基板上に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着する工程、（II）活性光線を像的に照射する工程、（III）現像により不要部を除去する工程、（IV）焼成により不要分を除去する工程の各工程を含む蛍光体パターンの製造法。 （もっと読む）

【課題】 検版性に優れた刷版を得る。
【解決手段】 基板上に少なくとも感光性の親水性膨潤層を備えた感光性平版印刷版原版を製版する際に、染色することを特徴とする感光性平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【目的】 二層法で寸法通りの構造物転移をまた解像限度を越える構造物の製造を可能とし、その際高い透過性、サブミクロン範囲においてもなお高い解像力及び高感度がもたらされる構造物を製造する。
【構成】 サブミクロン範囲で構造物を製造するに当たり、基板上に、第１又は第２アミンと反応する官能基及びＮブロックされたイミド基を有するポリマー成分と、露光時に酸を遊離する光開始剤と、適当な溶剤 とからなるフォトレジスト層を施し、フォトレジスト層を乾燥し、フォトレジスト層を画像に応じて露光し、露光したフォトレジスト層を熱処理し、こうして処理したフォトレジスト層を水性アルカリ又は有機現像剤で現像してフォトレジスト構造物とし、フォトレジスト構造物を、第１又は第２アミンを含む化学試薬で処理し、その際現像時に一定の暗損傷を２０〜１００ｎｍの範囲で起こさせる。 （もっと読む）