説明

国際特許分類[G03F7/40]の内容

国際特許分類[G03F7/40]に分類される特許

31 - 40 / 1,695


【課題】平坦化処理における着色パターンの表面荒れを抑制することができるカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び固体撮像素子を提供する。
【解決手段】第1の着色層を第1の着色組成物により形成する工程、第1の着色層に複数の第1の貫通孔が形成されるようにドライエッチングによりパターニングする工程、第1の着色層上に第2の着色組成物による第2の着色層を積層する工程、第1の貫通孔とは別の複数の第2の貫通孔をドライエッチングによりパターニングして、複数の第1の着色画素を形成する工程、第1着色層上に、第3の着色組成物による第3の着色層を含む1層以上の着色層を積層する工程、及び第1の着色層上に積層された1層以上の着色層を第1の着色層が少なくとも露出するまで平坦化処理する工程を有するカラーフィルタの製造方法。 (もっと読む)


【課題】設備のメンテナンス性に優れ、長時間連続的に製版処理した場合でも析出物の発生が抑制され、排出される製版処理廃液の量が少ない平版印刷版の製版処理廃液のリサイクル方法を提供する
【解決手段】自動現像機から排出される製版処理廃液を、蒸発釜と冷却手段とを備える廃液濃縮装置により容量比で1/5〜1/8量となるように蒸発濃縮すること、製版処理廃液より蒸発濃縮された際に分離された水蒸気を冷却手段で凝縮して再生水とすること、再生水を自動現像機における希釈水及びリンス水の少なくとも一方として供給すること、及び、自動現像機に供給する現像補充液として、現像浴中での現像液の標準活性度を満たす条件に適合するように、少なくとも前記再生水を用いて、標準濃度より1.2倍から2倍に希釈した現像補充液を標準供給量の1.3倍〜2倍量補充すること、を含む感光性平版印刷版の製版処理廃液のリサイクル方法。 (もっと読む)


【課題】 着色画素の更なる薄膜化を達成すべく、着色剤を高濃度で含有しながらも、液中における着色剤の分散安定性に優れた着色組成物を提供する。また、耐溶剤性及び耐アルカリ現像液性に優れた着色画素を形成できることにより、他の着色層における色と重なり合うオーバーラップ領域の発生を低減でき、種々のカラーフィルタの作成工程における色の変化が少なく、その結果、高性能のカラーフィルタを製造可能な着色組成物を提供する。更に、上記着色組成物を用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】 着色剤と樹脂とを含有する着色組成物であって、前記着色組成物の全固形分に対する前記着色剤の含有量が50質量%以上であり、かつ、前記着色組成物に含有される全種の樹脂の内、固形分酸価が最も高い樹脂の当該固形分酸価が80mgKOH/g以下である、着色組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子。 (もっと読む)


【課題】未露光残膜率が高く、比誘電率が低く、ドライエッチング耐性に優れ、かつ、ITOスパッタ耐性にも優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(i)酸不安定基を有するラジカル重合性化合物、および、(ii)一般式(1)で表される不飽和カルボン酸エステルを含むラジカル重合性化合物を共重合させて得られるフォトレジスト用共重合体において、主鎖末端に芳香族基を含む基を含む構造とする。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンを所望の寸法に制御すると共に、欠陥の低減をはかり得る現像処理方法及び現像処理装置を提供することである。
【解決手段】所望のパターンが露光されたレジストを現像処理するための現像処理方法であって、レジスト膜11にデバイスパターンと共にモニタパターン30を露光しておき、モニタパターン30を第1の現像条件で現像し、現像されたモニタパターン30を検査して得られる検査画像から欠陥出現リスクを定量化する。これと共に、予め取得された欠陥出現リスク情報と欠陥数、及び欠陥数と現像条件の関係から、定量化された欠陥出現リスクの際に欠陥数が許容値以下となる第2の現像条件の許容範囲を決定する。そして、第2の現像条件の中でパターン寸法が所望の値となる第3の現像条件を決定し、該決定した第3の現像条件で前記デバイスパターンの現像を行う。 (もっと読む)


【課題】PAG(光酸発生物質)二重層を用い、残留物が無くLERも僅かな犠牲ポリマー層、及び犠牲ポリマー層の分解方法と、これを使用して改良されたエアキャビティー、又はエアギャップを作製するための方法を提供する。
【解決手段】PAG二重層はその中に光酸発生物質を組込み、上部のPAG濃度は構造物の低部より高い。PAGが非存在の犠牲層15が基板10上に形成される。犠牲層が乾燥された後、PAG単層20が形成され、層15と層20はPAG二重層25を形成する。次いで二重層25の像様暴露(光線照射35)遮蔽物30を使用して行われる。暴露部分は熱分解法によって除去されて、基板上に残った非暴露部分40を残す。次いで保護被覆層50が構造体上に配置され、部分45の分解及び保護被覆50を通る分解生成物の浸透のために適当な温度に加熱した後、エアギャップ55が形成される。 (もっと読む)


【課題】スクリーン印刷で用いるスクリーン版は近年デジタルスクリーン製版というインクジェットによる手法が用いられるがこのインクがスクリーン版に対して悪影響を及ぼす。このインクへの対策により耐水耐久性の低下の弊害が発生する。
【解決手段】本発明のスクリーン版強化液はグルタルアルデヒドと塩酸と水を主成分とし特定の添加物を添加することでスクリーン版の耐水耐久性を著しく向上させる。添加物はアルコール及びグリコールとフッ素化合物から選択しこれらの添加物を1つ又は複数添加することができる。全てのスクリーン版が本発明のスクリーン版強化液にて処理することで画像の耐水耐久性が著しく向上し細線印刷への対応を可能にする。アルコールの添加によって乾燥速度が促進されグリコールの添加によってスクリーン版の割れを防止しフッ素化合物によって全体にむら無く安定した硬膜処理が可能となる。 (もっと読む)


【課題】高感度な化学増幅型レジストとして有用な新規な酸分解性をもつ重合性単量体、これを用いて重合または共重合された重合体、およびそれを用いたレジストおよびそのパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式(1)で表される重合性単量体、およびその重合体。


(式(1)中、R〜R14は、水素、炭化水素基。) (もっと読む)


【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液を提供する。
【解決手段】(ア)基板上に、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、ポジ型レジスト組成物を塗布する工程、(イ)露光工程、及び(エ)ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液。 (もっと読む)


【課題】保存安定性に優れ、ドライエッチング耐性及び表面硬度に優れた硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(成分A)酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位(a1)及びエポキシ基及又はオキセタニル基を有する構成単位(a2)を有し、かつ式(1)で表される構成単位を有しない共重合体、(成分B)光酸発生剤、(成分C)式(1)で表される構成単位を有する重合体、並びに、(成分D)溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、水酸基又は2,3−エポキシプロポキシメチル基を表し、nは1〜5の整数を表す。
(もっと読む)


31 - 40 / 1,695