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国際特許分類[G03F7/40]の内容

国際特許分類[G03F7/40]に分類される特許

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【課題】低温硬化により製造でき、高信頼性を有するカラーフィルタを提供し、これを用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内の何れかを含む着色パターンと、アルカリ可溶性樹脂並びに下式1または下式2の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサとを用いてカラーフィルタを製造する。このカラーフィルタを用いて液晶表示素子を構成する。
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【課題】低温硬化されて色特性に優れたカラーフィルタ層を有するアレイ基板を提供し、これを用いてカラーフィルタオンアレイ構造の液晶表示素子を提供する。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料からなる群より選ばれる少なくとも1種の着色剤と、アルカリ可溶性樹脂と、式(1)または式(2)の化合物とを含有する着色組成物を用い、スイッチング能動素子8の形成された基板4上にカラーフィルタ層13を低温で形成しアレイ基板1を構成する。アレイ基板1から液晶表示素子を構成する。
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【課題】耐熱性及び高温熱履歴後の耐薬品性に優れ、現像時の膜減りが少なく、現像工程における現像マージンが大きいポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】(A)式(1)で表わされる化合物と式(2)で表わされる化合物とを加水分解・縮合反応させて得られる構造からなるシラノール基含有ポリシロキサン化合物、(B)エポキシ含有有機基を少なくとも2つ有する化合物、(C)ジアゾナフトキノン類及び(D)有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。R1はC1〜4アルキル基等、R2はC2〜10の2価炭化水素基、R3はC2〜10の2価飽和脂肪族炭化水素基、Xは特定の一般式で表される基をそれぞれ表す。
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【課題】めっき後に細線乃至小ドットの金属パターンを高解像度で形成できる金属パターン材料及び金属パターン材料の製造方法の提供。
【解決手段】特定のめっき形成用光感応材料を6μm未満のピッチで露光する際に、6μmピッチ露光時の最適パワーに対し、100%未満であり、かつ〔(ピッチ(μm)×75/6+25)−30〕〜〔(ピッチ(μm)×75/6+25)+15〕%のレーザーパワーで露光する露光工程と、露光後のめっき形成用光感応材料を現像液で現像する現像工程と、現像後のパターンが形成されためっき形成用光感応材料を、めっき浴比が10未満でめっきを行うめっき工程とを含む金属パターン材料の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】T−ゲート構造物の改良された形成法の提供。
【解決手段】a)基板を提供する工程、b)基板上に平坦化層を配置する工程、c)UV感受性第一フォトレジストの層を配置する工程、d)マスクを通してUV放射線に露光し、現像することによって、第一フォトレジストをパターン化して、T−ゲートの底部用の第一開口を規定する工程、e)パターンを平坦化層に転写する工程、f)このパターンをUV放射線に対して非感受性にする工程、g)UV感受性第二フォトレジストの層を配置する工程、h)第二フォトレジストをマスクを通してUV放射線に露光し、現像することによって、第二フォトレジストをパターン化して、第一開口の上のT−ゲートのキャップ用の第二開口を規定する工程、i)第一開口および第二開口内に導電性材料を堆積してT−ゲートを形成する工程、を含む方法。 (もっと読む)


【課題】高感度で低温硬化が可能でかつ、十分な耐熱性をもち、強靭な膜質を持つ材料を提供する。
【解決手段】(A)酸でアルカリ可溶性が増大する化合物、(B)活性光線および/または放射線照射により酸を発生する化合物、(C)架橋剤を含み、前記(C)架橋剤が下記式(I)で表され、数平均分子量が600〜2000である、化学増幅型ポジ感光性組成物。式(I)


(式(I)中、Aは、−O−および2価の有機基から構成され、かつ、少なくとも、下記式(I−2)で表される部分構造を含む。)式(I−2)


(Xは2価の有機基を示す。) (もっと読む)


【解決手段】酸不安定基によりカルボキシル基が保護された部分構造を有する繰り返し単位とラクトン構造を有する繰り返し単位とから構成される開環メタセシス重合体水素添加物をベース樹脂として含有するレジスト組成物を基板上に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤含有現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の開環メタセシス重合体水素添加物を含むレジスト組成物は、有機溶剤現像における溶解コントラストが高く、露光、加熱処理により酸不安定基が脱保護した状態においても高い耐ドライエッチング性を示す。このレジスト組成物を用いて有機溶剤現像によるネガ型パターン形成を行うことで、微細トレンチパターンやホールパターンの解像性能を向上させると共に、高い耐ドライエッチング性を発揮することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 印刷法での回路パターンの高精細化の限界、フォトリソグラフィー法での高コストおよび加熱処理工程の長さ、さらに高温焼成タイプの導電ペーストで用いる基板の制約を解決する金属微粒子含有光硬化性樹脂組成物を提供し、それを用いた電気配線回路の形成方法、およびその方法によって製造されるタッチパネル用基材、表示装置用基材、情報処理端末装置用基材等の電気配線回路形成板法の製造を容易にすることを目的とする。
【解決手段】 本発明によれば、平均粒径が5nm以上100nm未満の導電性を有する金属微粒子(a−1)を含む金属フィラー(A)と、活性エネルギー線照射で硬化する光硬化性樹脂組成物(B)とを含有組成物中の金属フィラー(A):光硬化性樹脂組成物(B)の重量比が80:20以上98:2未満の範囲であることを特徴とする金属微粒子含有光硬化性樹脂組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】現像残渣がなく、高い撥水性を有し、熱架橋度を上げることも可能な、インクジェット方式に対応可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メチル基、フェニル基又はヒドロキシフェニル基等を置換基として含有するフェノール誘導体を繰り返し単位とするフェノール樹脂、エポキシ基又は水酸基等の架橋性反応基含有モノマーを共重合したフルオロアルキル基含有アクリレートモノマーを重合したフッ素系ポリマー、感放射線性化合物及び溶剤を含有する感放射線性樹脂組成物;それを用いた有機電解発光素子絶縁膜形成用ポジ型放射線リソグラフィー用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】経時安定性に優れ且つ露光ラチチュードが広い感光性フイルムを与えることが可能なジアゾ樹脂、このジアゾ樹脂を用いた感光性樹脂組成物及び感光性フイルムを用いたスクリーン版を提供する。
【解決手段】本発明は、硫酸とリン酸の存在下で、置換されていても良い4−ジアゾジフェニルアミンの水溶性塩とホルムアルデヒドとを縮合させることにより得られるジアゾ樹脂及び水溶性ポリマーを含む水溶液に、油溶性の光重合開始剤と光活性なエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する水不溶性又は難溶性の化合物との混合物及び疎水性重合体の少なくとも一方を分散させた感光性樹脂組成物に関する。この感光性樹脂組成物は、経時安定性に優れ、露光ラチチュードが広い感光性フイルムを与える。さらに本発明は、上記感光性樹脂組成物に特定なフッ素化合物を添加することにより、放電性能が優れたスクリーン版を提供する。 (もっと読む)


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