【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、所望形状のレジストパターンの形成を確実に行えるようにする。
【解決手段】パターン描画されたレジスト膜６を現像してレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法であって、前記レジスト膜６の現像に先立ち、当該レジスト膜６に比べてエッチング耐性が高い保護膜７を当該レジスト膜６の上面に形成する保護膜形成工程と、前記保護膜７の形成後に当該保護膜７の上から現像剤を供給することにより、前記保護膜７を浸透して前記レジスト膜６まで到達した前記現像剤による当該レジスト膜６の現像を行い、当該レジスト膜６が残るパターン部分６ａ上面に前記保護膜７を有してなる前記レジストパターンを形成する現像工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】相互接続領域の具現が困難なパッドレイアウトを具現化し、オーバレイマージンを増大できる半導体素子の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体基板に被食刻層、第1のハードマスク物質層、第1の分割パターン物質層及び第2のハードマスク物質層を形成して選択食刻し第2のハードマスクパターンを形成し、これをマスクとし第1の分割パターン物質層を食刻し第1の分割パターンを形成する。第1のハードマスク物質層の上部にスペーサ物質層及び第2の分割パターン物質層を形成し、第1の分割パターンが現われるまでスペーサ物質層及び第2の分割パターン物質層を部分食刻しスペーサ物質層を露出させ、複数の第1の分割パターン間に第2の分割パターンを形成し、第1、第2の分割パターンをマスクとしスペーサ物質層及び第1のハードマスク物質層を食刻し第1のハードマスクパターンを形成し、これをマスクとし被食刻層を食刻し微細パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 各種性能に総合的に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ブトキシメチルアクリルアミド等を含むアルカリ可溶性樹脂と感放射線酸発生剤を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、所望形状のレジストパターンの形成を確実に行えるようにする。
【解決手段】レジスト膜に凹凸パターンを形成するパターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）と、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凹状部分の底部に対してエッチングを行う除去工程（Ｓ６）と、を備えるレジストパターン形成方法において、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）の後で前記除去工程（Ｓ６）の前に、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凸状部分の頂部を含む当該頂部の近傍領域に、前記除去工程（Ｓ６）での前記エッチングによる前記凹凸パターンのパターン消失を抑制する形状の保護膜を、化学的成膜処理により形成する保護膜形成工程（Ｓ５）を備える。 （もっと読む）

【課題】基板にＤＦＲをラミネートした際にエアーボイドの発生が少なく、露光、現像工程におけるレジストパターンの欠陥や、続くエッチング工程またはめっき工程において形成される回路の欠けや断線、ショートなどの欠陥の低減が可能であり、また、感光性樹脂層上に保護層を積層して感光性樹脂積層体を製造する際に、感光性樹脂層が保護層と密着しやすい感光性樹脂積層体を提供すること。
【解決手段】支持体（Ａ）、感光性樹脂層（Ｂ）、およびポリエチレンフィルムである保護層（Ｃ）からなる感光性樹脂積層体において、前記保護層（Ｃ）の膜厚が３０μｍ以上５０μｍ以下であり、かつ感光性樹脂層（Ｂ）側の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ未満であり、該感光性樹脂層（Ｂ）が（ｉ）アルカリ可溶性高分子、（ｉｉ）ビスフェノールＡ系（メタ）アクリル酸エステルモノマーの分子中にエチレンオキシド鎖を含む化合物、ビスフェノールＡ系（メタ）アクリル酸エステルモノマーの分子中にプロピレンオキシド鎖を含む化合物、及びビスフェノールＡ系（メタ）アクリル酸エステルモノマーの分子中にエチレンオキシド鎖とプロピレンオキシド鎖の双方を含む化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種であるエチレン性不飽和付加重合性モノマー、（ｉｉｉ）光重合開始剤を含有し、該（ｉ）アルカリ可溶性高分子がスチレン又はスチレン誘導体を単量体の少なくとも一部として重合して得られ、該（ｉｉｉ）光重合開始剤が２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体を含有することを特徴とする感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】高い耐刷性を有する平版印刷版を与えること。
【解決手段】支持体上に光重合開始剤、重合性二重結合基を有する化合物を含有する感光層を有し、製版後に後露光をするネガ型感光性平版印刷版であって、該感光層が前記成分に加え、更にアルキルフェノン化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】微細かつ均一なパターンの形成に好適なパターン形成方法およびパターン形成体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、レジストパターンが形成される領域は、ハードマスク層に形成した段差の領域よりも大きくし、ハードマスクの上段部は基板表面を覆うようにハードマスク層を残存させることと、下段部は基板表面の一部が露出するようにハードマスク層へ異方性エッチングを行うことで、基板に均一なパターンを形成することが出来る。 （もっと読む）

【課題】形成した樹脂パターンを熱処理した後であっても矩形又は矩形に近い樹脂パターンを製造できる樹脂パターン製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも以下の工程（１）〜（７）をこの順に含むことを特徴とする樹脂パターン製造方法。（１）感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程、（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線によりパターン状に露光する露光工程、（４）露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、（５）現像された感光性樹脂組成物にオーバーコート層を設ける塗設工程、（６）オーバーコート層が設けられた感光性樹脂組成物を熱処理する熱処理工程、（７）オーバーコート層を除去する除去工程。 （もっと読む）

【課題】大型基板への対応が可能で、材料使用効率の高いインクジェット方式を始めとする塗布方式にて、簡易で安価に製造が可能であり、機能層の白抜け、または、混色による表示不良の無い、高品質なカラーフィルタや有機ＥＬ等の光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂硬化物により形成され且つ支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画する隔壁を形成する隔壁パターン２０と、複数の領域３０にそれぞれ形成された複数の画素を有する光学素子の製造方法であって、撥インク性を有する樹脂組成物により支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画する領域区画工程と、領域区画工程で支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画した樹脂組成物にマイクロ波を照射して、樹脂組成物の硬化を促進させるマイクロ波照射工程を含む。 （もっと読む）

【課題】高温にも耐え得る矩形断面の正確な金属薄膜パターンを、簡単な工程によって製造可能とすること。
【解決手段】下記に示す感光性金属錯体を含む塗布液１を基板１０に塗布し（Ａ）マスク２０を介して所定の部分のみを露光した（Ｂ）。露光によりエステル結合が切れて易溶化した可溶部１Ａを（Ｃ）、ＴＭＡＨ水溶液により除去し（Ｄ）、不溶部１Ｂを金属化するまで加熱し（Ｅ）、Ｃｕ等の金属３０でメッキする（Ｆ）。
【化９】
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