国際特許分類[G03F7/42]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料の処理;そのための装置 (4,777) | 剥離またはそのための処理剤 (402)
国際特許分類[G03F7/42]に分類される特許
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配線構造及び配線形成方法
【課題】 電気的特性のみならず耐環境性にも優れた配線を実現し、ひいては当該配線を内装した半導体装置や配線基板等の信頼性の向上に寄与することを目的とする。
【解決手段】 絶縁層11,13に形成されたビア・ホールを介して下層の導体層12に電気的に導通するように絶縁層13と下層の導体層12とを覆って形成された金属薄膜14上に形成された配線層17の表面を、耐環境性に優れた材料からなる被覆層18で覆うように構成する。この被覆層18を構成する耐環境性に優れた材料としては、好適には、ニッケル/金、ニッケル/パラジウム、又はニッケル/パラジウム/金が用いられる。
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プリント基板のレジスト除去方法及び装置
【課題】 ホットメルトインクにより形成されたレジストを、有害な廃液を発生させず、環境を悪化させないで、簡略な装置により簡易且つ安価に除去できるプリント基板のレジスト除去方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 レジスト除去装置1は、温水Wを噴射するノズル部2、プリント基板Pを支持しするプリント基板支持機構3、ノズル部2から噴射された温水Wを受ける温水受け部4と、レジストが回収された後の温水Wを再循環させる循環パイプ9、再循環された温水Wから微細な異物を排除するフィルター6、温水Wを噴射するために加圧するポンプ7、再循環された温水Wを加熱する加熱器8を備えて構成され、レジスト回収装置5の温水受け部4で洗浄後の温水Wからレジストを回収し、レジスト除去に用いた温水を再利用する。
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