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国際特許分類[G03F9/00]の内容

物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | 原稿,マスク,フレーム,写真シート,表面構造または模様が作成された表面,の位置決めまたは位置合わせ,例.自動的なもの (761)

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【課題】透明な平板状の物体の一方主面を、他方主面側から該物体を介して撮像する技術において、特に対象物が薄い場合でも支障なく撮像を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】ブランケットBLを吸着保持する吸着ステージ51の上面510と、アライメントパターンAP2を下方から撮像するための石英窓52aの上面520とを同一平面とせず、石英窓52aの上面520を下方に後退させて配置する。ブランケットBLと石英窓52aとが部分的に接触することにより生じる干渉縞が画像に写り込むのを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】透明な平板状の物体の一方主面を、他方主面側から該物体を介して撮像する技術において、特に対象物が薄い場合でも支障なく撮像を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】ブランケットBLを吸着保持する吸着ステージ51の上面510と、アライメントパターンAP2を下方から撮像するための石英窓52aの上面520とを同一平面とせず、石英窓52aの上面520を下方に後退させて配置する。ブランケットBLと石英窓52aとが部分的に接触することにより生じる干渉縞が画像に写り込むのを防止することができる。石英窓52aの上面520の上方に形成されたギャップ空間GSに真空吸着されたブランケットBLが引き込まれて変形するのを防止するため、気体流路518およびバルブV53を介してギャップ空間GS内の気圧を調整する。 (もっと読む)


【課題】波長差に起因する計測誤差を低減して高精度な位置検出を行う位置検出装置を提供する。
【解決手段】基準マークSMを利用して被検出体WMの位置を検出する位置検出装置であって、第1の波長帯域を有する計測光を用いて被検出体WMを照明する第1の照明光学系5と、第2の波長帯域を有する基準光を用いて基準マークSMを照明する第2の照明光学系13と、被検出体WMからの光束および基準マークSMからの光束を検出する検出光学系10と、検出光学系10で検出された光束に基づいて被検出体WMの位置を検出する位置検出部48とを有し、基準光の第2の波長帯域は、計測光の第1の波長帯域の上限と下限との間に設定されている。 (もっと読む)


【課題】より安定したマークの位置の検出を可能とする。
【解決手段】テンプレートマッチングにより画像内のマークの位置を検出する検出装置は、テンプレートを用いて画像に対してテンプレートマッチングを行う処理部を有し、この処理部は、テンプレートマッチングにおいて得られた相関度が許容条件を満たさない場合に、上記テンプレートとは異なるテンプレートを用いてテンプレートマッチングを行う。 (もっと読む)


【課題】移動方向に直交する方向に複数個の露光対象領域が設けられた露光対象基材を一方向に連続的に供給して露光する露光装置において、露光対象基材がその移動方向に直交する方向に伸縮した場合に、マスクの位置を精度よく補正できる露光装置を提供する。
【解決手段】フィルム2には、その移動方向に直交する方向に複数の露光対象領域4が設けられている。光源から出射された露光光は、フィルム移動方向に直交する方向に複数枚配列されたマスク3のパターンを介してフィルムに照射される。フィルム2の露光対象領域間及び両端部には、伸縮確認用マーク2cが設けられており、この伸縮確認用マーク2cをマスクアライメントマークと共にカメラ51により観察し、制御部7は、伸縮確認用マーク2cがフィルム移動方向に直交する方向にずれたときに、駆動部6により、このずれに応じてマスク3の位置を補正する。 (もっと読む)


【課題】露光装置の経時変化等の原因により、露光時におけるマスク位置が露光対象基材の移動方向に直交する方向にずれたときに、マスク位置を精度よく補正することができる露光装置を提供する。
【解決手段】光源とマスク3との間に介在するように基準板4が配置されており、基準板4には、各マスク3毎に、マスク3が配置されるべき位置の基準を示す第1基準マーク41が設けられている。カメラ51により第1基準マーク41及びマスクアライメントマーク(スリット32)を検出し、制御部7は、検出された両者間の距離aに基づいて、フィルム移動方向に直交する方向におけるマスク3のずれを検出し、駆動部6によりマスク3の位置を補正する。 (もっと読む)


【課題】高い精度および良好な視認性を有するアライメントマークを形成し、低コストで生産性よくフラットパネルディスプレイを製造する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイの基板の位置を認識するためのアライメントマークを形成する感光性ペーストであって、アライメントマークは、基板上に前記感光性ペーストを塗布するステップと、塗布した膜を乾燥して感光性膜とするステップと、感光性膜を露光することによりアライメントマークを形成するステップとにより形成され、感光性ペーストは、視認性を良くするために黒顔料粒径とガラスフリット粒径の比率に応じて黒色顔料とガラスフリットの体積比率を選択することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基準チップ特定に用いる目印を半導体ウエハに形成する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
半導体装置の製造方法は、フォトレジスト膜の形成された半導体ウエハに、露光用マスクを介して第1、第2、第3露光を行う工程を有し、第1露光の第1ショット領域に対し、第2露光の第2ショット領域は第1方向に隣接し、第2ショット領域に対し第3露光の第3ショット領域は第1方向に隣接し、ショット領域は第1方向に交差し対向する第1、第2の辺と、第1方向に平行な第3、第4の辺を有する外周スクライブ領域を有し、第1の辺上に第1パターンが、第2の辺上で第1パターンと対向する位置に第1パターンを内包する透光領域の第2パターンが配置され、第1、第2露光は第1、第2パターンが重ならないように、第2、第3の露光は第1、第2パターンが重なるように行われる。 (もっと読む)


【課題】ステージの移動に伴って生じる振動に起因する処理精度の低下を適切に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置1は、基板Wを水平姿勢で保持するステージ10と、ステージ10に保持された基板Wに対して光を照射して基板Wにパターンを描画する光学ユニット40と、ステージ10を光学ユニット40に対して相対移動させるステージ駆動部20と、移動されるステージ10の位置の変動を計測して位置変動情報を取得する位置変動情報取得部301と、ステージ10が移動される際に生じる振動成分のうち振動数が既知である対象振動成分の位相情報を、位置変動情報から特定する位相情報特定部302と、対象振動成分の位相情報に基づいてステージ10の振動状況を予測する振動予測部303と、予測された振動状況に基づいて、光学ユニット40による光の照射位置を補正する描画位置補正部304とを備える。 (もっと読む)


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