【課題】記録ディスク媒体の原盤パターン露光のための露光システムのコストを抑制する。
【解決手段】原盤に電子線を照射してディスク状記録媒体の原盤パターンを描画する露光装置とその制御装置を含む露光システムにおいて、原盤パターンを描画するための描画データ信号が、複数の波形パターンの組合せからなるものであるとき、制御装置５０に、複数の波形パターンのうち互いに異なる波形パターンを個々の波形データ列として記憶する波形データ記憶部５１、５２と、互いに異なる波形パターンを示す波形データ列により描画データ信号を構成するための波形データ列の出力順序を記憶する出力順記憶部５３、５４とを個別に備え、さらに、波形データ列を出力順序に従って順次、露光装置に送出するデータ処理部５６を備える。 （もっと読む）

【課題】短ビット長を有する磁気信号の磁気転写においても、充分な磁気転写信号のＳＮＲを得ることを可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターンＰを表面に有し、上記凹凸パターンＰで表現された磁気信号を垂直磁気記録媒体に磁気転写する際に用いられるマスター１０であって、平坦な表面を有するマスター基板１１と、マスター基板１１の上記表面上に形成された、微細な凹凸パターンＰａを表面に有する軟磁性層１２と、軟磁性層１２の凹凸パターンＰａに沿って少なくともこの凹凸パターンＰａの凸部上面Ｓｔ上に形成された下地層１３と、軟磁性層１２の凹凸パターンＰａに沿って少なくとも下地層１３上の上記凸部上面Ｓｔに対応する領域に形成された垂直磁化膜層１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】短ビット長を有する磁気信号の磁気転写においても、充分な磁気転写信号のＳＮＲを得ることを可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターンＰを表面に有し、上記凹凸パターンＰで表現された磁気信号を垂直磁気記録媒体に磁気転写する際に用いられるマスター１０であって、微細な凹凸パターンＰａを表面に有するマスター基板１１と、このマスター基板１１の凹凸パターンＰａに沿って少なくともこの凹凸パターンＰａの凸部上面Ｓｔ上に形成された軟磁性層１２と、マスター基板１１の凹凸パターンＰａに沿って少なくとも軟磁性層１２上の上記凸部上面Ｓｔに対応する領域に形成された下地層１３と、マスター基板１１の凹凸パターンＰａに沿って少なくとも下地層１３上の上記凸部上面Ｓｔに対応する領域に形成された垂直磁化膜層２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】電鋳法を用いたモールドの製造において、剥離工程の際に、電鋳物のパターン面における異物の付着を防止することを可能とする。
【解決手段】導通リング２２が原盤１０と同心となるように固定された状態で電鋳物１４を形成し、洗浄液３１中で電鋳物１４を原盤１０から剥離し、電鋳物１４から所定形状のモールド１６となる部分を切り取るモールド１６の製造方法であって、原盤１０および導通リング２２が互いに重なり合う領域１５に原盤１０および導通リング２２についての密着領域４５が２つのみ形成されるように、原盤１０および導通リング２２の固定を行う。２つの密着領域４５は、実質的に原盤１０の中心線１０ｃに沿って互いに対向するものとする。 （もっと読む）

【課題】マスターモールドの製造方法において、金属盤からマスター基板を切取る際に生じるマスター基板の反りや歪みを低減することにより、平坦性の高いマスターモールドの製造を可能とする。
【解決手段】表面に転写情報に対応する凹凸パターンＰを有するマスターモールド１０の製造方法において、凹凸パターンＰを一方の面に有する金属盤１であって、この金属盤１のモールド領域２０の外周に外側から接する非モールド外周領域２５を有する金属盤１を用意し、非モールド外周領域２５を保持しながら、上記一方の面上に被覆層を形成し、金属盤１の他方の面上に、モールド領域２０の外周に外側から接する外周切取り領域２２を露出させかつモールド領域２０全体を被覆するフォトレジスト５を設け、フォトレジスト５をマスクとして金属盤１のエッチングを行い、フォトレジスト５を除去する。 （もっと読む）

【課題】サーボ情報を正確に読出しできるサーボパターンを形成可能な露光パターンを描画する。
【解決手段】両位相サーボ部のパターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂの描画時に、これらを構成する露光領域Ａ１および非露光領域Ａ２のうちの回転方向で並ぶ一組の領域Ａ１，Ａ２の各半径位置毎の回転方向に沿った合計長をそれぞれ第１の長さとしたときに、両パターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂの一方の領域Ａ１における回転方向と交差する辺の半径方向に対する交差角度と、他方の交差角度との同一の半径位置における角度差が最大となる半径位置を含む領域内において、１つのサーボトラックＳＴにおける第１の長さの範囲内への描画用ビームの総照射量を第１の長さで除した第１の値が、同一の半径位置において、両パターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂのうちのトラックＳＴ内の交差角度が小さい一方よりも、交差角度が大きい一方の方が大きくなるようにビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】磁気転写用スタンパの情報を磁気記録媒体に高精度で磁気転写できる信頼性が高い磁気転写方法及び磁気転写装置を提供する。
【解決手段】磁気転写装置１０は、加圧しないように第１磁気転写用スタンパ１２Ａ、第２磁気転写用スタンパ１２Ｂ及び磁気記録媒体１４を重ね合わせて第１磁気転写用スタンパ１２Ａ、第２磁気転写用スタンパ１２Ｂ及び磁気記録媒体１４が密着した磁気転写用中間体１８を作成可能である重ね合わせユニット３０と、第１磁気転写用スタンパ１２Ａ、第２磁気転写用スタンパ１２Ｂ及び磁気記録媒体１４を加圧しないように磁気転写用中間体１８を保持しつつ第１磁気転写用スタンパ１２Ａ及び第２磁気転写用スタンパ１２Ｂを介して磁気記録媒体１４に外部磁場を印加可能である外部磁場印加ユニット４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することを可能とする。
【解決手段】磁気転写用の転写ホルダー１において、第１のベース部材１１ａと、この第１のベース部材１１ａ上に固定された円環状の第１のマスター担体１３ａとを有する第１のホルダー部１０ａと、第２のベース部材１１ｂと、この第２のベース部材１１ｂ上に固定された円環状の第２のマスター担体１３ｂとを有する第２のホルダー部１０ｂとを備え、第１のホルダー部１０ａが、被転写媒体Ｍの外周部を吸引保持するための吸引口１４を有し、第１のベース部材１１ａ上に固定された状態における第１のマスター担体１３ａのＰＶ値が２ｕｍ以下であるように構成する。 （もっと読む）

【課題】所望の描画パターンにおける対角線方向に隣接する１対のエレメントについての電子ビーム描画を行った後の現像後パターンをより鮮鋭なものとする。
【解決手段】１対のエレメントＡ₁、Ａ₂の少なくとも一方のエレメントＡ₁について、一方のエレメントＡ₁についての半径方向Ｙへの偏向走査Ｄ₁の他方のエレメントＡ₂側の一端位置を、一方のエレメントＡ₁の設計上の配置における半径方向端部位置ｙよりも他方のエレメントＡ₂から離間した位置に設定し、半径方向Ｙへの偏向走査長さＬ₁が、一方のエレメントＡ₁の半径方向Ｙの設計上の長さＬよりも短くなるように描画する。 （もっと読む）

【課題】磁気転写においてパターン形成体に付着した異物を、磁気転写における生産性の低下を抑制しながら除去する。
【解決手段】磁気転写部１４は、マスタ情報記録体２００を保持する固定ホルダ３０と、固定ホルダ３０に保持されたマスタ情報記録体を超音波振動させる第１超音波振動子８１と、他のマスタ情報記録体２００を保持する可動ホルダ４０と、可動ホルダ４０に保持された他のマスタ情報記録体２００の超音波振動させる第２超音波振動子８２と、２枚のマスタ情報記録体２００および磁気記録媒体１を挟んで配置される第１磁石部材５０および第２磁石部材６０とを備え、磁気記録媒体１に対する磁気転写前に、固定ホルダ３０および可動ホルダ４０を振動させて、それぞれに取り付けられたマスタ情報記録体２００に付着した異物を払う。 （もっと読む）