被写体（５）の撮像データを高い反復速度で取得する走査式構造は、支持構造（１１）と、支持構造に固定配置される複数の走査装置（１０）と、を備え、複数の走査装置の各々は、（ｉ）放射線源（１）と、（ｉｉ）複数の１次元検出器（６ａ）から成る積層体を含む放射線検出器（６）であって、複数の１次元検出器の各々が放射線源の方を向いて、１次元検出器への放射線の放射線束（ｂ_１，．．．，ｂ_ｎ，．．．，ｂ_Ｎ）の入射を可能にする構成の放射線検出器（６）と、を含み、複数の走査装置の内の一つの走査装置の放射線経路に配置される被写体テーブル（１３）と、支持構造を被写体テーブルに対して回転させて、被写体テーブルが複数の走査装置の各の走査装置の放射線経路を連続的に横切るように当該テーブルを放射線経路に位置させるように設けられるデバイス（１４）と、を備え、当該回転の間に、複数の放射線検出器の各々における複数の１次元検出器の各１次元検出器が、被写体を透過する放射線の複数の１次元画像を記録するように適合させる。
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リソグラフィ装置が開示される。この装置は、放射線ビームを供給する照明システムと、パターン付与構造体を支持する支持構造体とを含む。このパターン付与構造体は、放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成される。この装置はまた、基板を支持する基板支持部と、パターン付与されたビームを基板の標的部分に投影する投影システムと、リソグラフィ装置の少なくとも一部分を使用する際に形成されるデブリ粒子を軽減させるデブリ軽減システムとを含む。このデブリ軽減システムは、磁場を印加し、それによって少なくとも荷電デブリ粒子が軽減されるように構成される。
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本発明は、所望波長範囲の放射波をある放出方向に発生させる方法に関する。本方法によれば、その波長が該所望範囲を含んでいる初期放射波を放射波供給源により作り出し、この初期放射波を、波長が所望範囲外の初期放射波のビームを実質的に除去するように濾波する。本発明の方法は、初期放射波のビームをその波長に応じて選択的に偏向させて、所望波長のビームを回収するように、初期放射波が通過するコントロール領域においてビームの屈折率の制御された分布を作り上げることにより濾波を行うことを特徴とする。本発明は関連する装置にも関する。
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第１のコレクタミラーおよび第２のコレクタミラーを備え；
第１のコレクタミラーが、光源から出る第１のビーム経路を、第２のコレクタミラーに達する第２のビーム経路に反射し；
第１のコレクタミラーが、凹面の垂直入射ミラーであり；
第１のコレクタミラーによって受け取られる第１の開口角が、第２の開口角よりも大きいか、またはこれに大体において等しく、この第２の開口角が、第１のコレクタミラーから出力され、かつ第２のコレクタミラーによって受け取られる：
光源、とくにＥＵＶ光源のためのコレクタシステム。 （もっと読む）

真空ポンプ排出システムが、第１のガス、例えばキセノンを真空チャンバに供給する第１のガス供給源を有する。ポンプが、チャンバからのガス出力を受け入れる。第２のガス供給源が、第１のガスと共にポンプ排出のためのパージガス、例えば窒素又はヘリウムを供給する。ガスセパレータが、ポンプにより排出されたポンプ排出ガスを受け入れて流れから第１のガス及びパージガスを回収する。回収した第１のガスを真空チャンバ経由で再循環させ、回収した第２のガスを少なくともポンプ経由で再循環させる。
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本発明は、複数のレーザーによる励起に起因するような超紫外放射源を使用することにより、超紫外放射によってフォトリソグラフィーを行うための方法および装置に関するものである。フォトエッチングされる対象物は、照射ウィンドウの背後において、変位を受ける。放射は、Ｎ回にわたっての連続した放射とされ、各放射の表面エネルギーが測定される。特に、各レーザーは、所定の持続時間を有した１量子分のエネルギーを放出する。Ｎ−１回分のパルスによって対象物が受領した放射の表面エネルギーを積算し、これにより、第ｎ回目のパルス放射に供される。感光性対象物は、照射ウィンドウの幅の１／Ｎに等しい距離の分だけ、変位を受ける。
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【課題】優れた治療性能を有する放射線治療装置を提供すること。
【解決手段】電子銃、線形加速器及びターゲットを有する照射ヘッド２２０と、この照射ヘッド２２０を予め定めた球面座標上で支持し且つ移動させる支持移動機構２１０と、床に設置されるマイクロ波発振器２３０と、一端部がマイクロ波発振器２３０に電磁気的に接続され、他端部が線形加速器に電磁気的に接続される導波管部２４０，２５０，２６０と、照射ヘッド２２０内に位置する導波管部２４０，２５０，２６０に設けられるＲＦ窓とを具備する放射線治療装置である。 （もっと読む）

【課題】 高精度な露光転写が可能な透過型のマスクを提供すること。
【解決手段】 パターンが形成されたメンブレンとこれを支持するマスク基板を有するマスクの作成方法であって、エレクトロンビームでパターンの描画する際に、該マスク基板に所定の力を与えて、マスクを露光装置に保持する際とほぼ同等の歪をメンブレンに与えてパターンの描画を行なう。 （もっと読む）