【課題】二重窓枠型電磁石において、一様磁場領域を広く取ることにより、ビーム走査範囲を確保する。
【解決手段】コイル１０１，１０８，１１１，１１８は、Ｙ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域とＹ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域の間に配置され、Ｘ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域を、コイル１０９，１１０，１１９，１２０は、Ｙ方向磁場励磁電流通過メイン領域２２１，２２２とＹ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域の間に配置され、Ｘ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域を構成し、コイル２０１，２０８，２１１，２１８は、Ｘ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域とＸ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域の間に配置され、Ｙ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域を、コイル２０９，２１０，２１９，２２０は、Ｘ方向磁場励磁電流通過メイン領域１２１，１２２とＸ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域の間に配置され、Ｙ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域を構成する。 （もっと読む）

【課題】大規模な施設を要することなくＭＲＴ用のＸ線ビームを生成することができる。
【解決手段】子ビームが照射されると制動Ｘ線をＸ線ビームＸとして出射する金属ターゲット５と、スリット状のＸ線透過部６ａを有し、Ｘ線ビームＸの一部分がＸ線透過部６ａを透過し、Ｘ線透過部６ａ以外の領域に入射したＸ線ビームＸを遮蔽するように、金属ターゲット５のＸ線ビームＸの出射方向下流側に配置されたＸ線遮蔽体６と、出射されるＸ線ビームＸの発生点の径がＸ線透過部６ａの入口部の長手方向に沿った長さより短い電子ビームを金属ターゲット５に照射する電子ビーム発生装置と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】加速電圧を切ったり又は変更したりすることなく、処理装置により放射される電子雲の寸法を変更、特に、縮小可能な容器の内壁を殺菌する装置を提供する。
【解決手段】電荷担体を生成する電荷担体源と、電荷担体を電荷担体放射窓４の方向に加速可能な加速装置とを備え、前記電荷担体放射窓４は、電荷担体を容器の内壁に作用させるために、容器の中へ導入可能な処理装置１に配置され、前記処理装置１は、開口を通り容器２の中に導入可能な媒体放射穴１２を有する媒体ライン７を備え、前記処理装置１は、電荷担体放射窓４に対して挿入方向に突出する少なくとも１つの、妨害放射線８の吸収に適する突出部５を備え、前記媒体ライン７は、媒体放射穴１２を通して、少なくとも電荷担体放射窓４から発せられる電荷担体の領域へ放出可能な媒体９の流れを通すことができ、前記媒体９は、発せられる電荷担体により形成される電荷担体雲６の寸法を変化させうる。 （もっと読む）

【課題】高エネルギーの荷電粒子ビームにより測定試料中の物質ごとに１μｍ〜０．１μｍ等といった高空間分解能で定量的に材料分析できるとともに、前述した高精度の材料分析を研究室規模の施設で可能とする材料分析装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザを射出するパルスレーザ射出部１と、前記パルスレーザが照射される金属薄膜Ｆを有し、当該金属薄膜Ｆから荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム生成部２と、前記荷電粒子ビーム生成部２から射出された荷電粒子ビームを磁場又は電場により収束して、測定試料Ｓに照射する荷電粒子ビーム収束部３と、前記荷電粒子ビームが測定試料Ｓに照射された際に生じる放射線Ｒを測定する放射線測定部４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】四極電磁石の調整時間短縮を図ることのできる調整方法を提供する。
【解決手段】ビームライン上にビーム整形板２およびビームモニタ４を設置する。イオンビームを照射し、ビーム整形孔に通過させ、格子状に整形する。四極電磁石が励磁されていない場合、ビームモニタ４により、格子状配列形状のビーム形状が計測される。Ｘ方向においてイオンビームが集束するように、磁石３Ａを励磁する。励磁電流が増すごとに、格子状配列のＸ方向間隔は狭くなり、Ｘ方向配列の５つの格子点は一つの略長円となり、Ｙ方向に1つの点列（1×５）が形成される。点列形成を確認すると、Ｘ方向長さを計測する。励磁電流が増すごとに、Ｘ方向長さは短くなる。励磁電流を漸増し、各点（５点）の平均が基準サイズ以下になると、適切にビーム集束されたと判断し、端末７を介して、Ｘ方向集束調整完了指令を行ない、そのときの励磁電流値を記憶する。 （もっと読む）

【課題】電子線（Ｘ線）の漏出を確実に減衰させる。
【解決手段】第１〜第３遮蔽室Ｒ１〜Ｒ３内で第１〜第３旋回経路Ｌ１〜Ｌ３に沿って容器を搬送中に、容器の外側と内側からそれぞれ電子線を照射して殺菌する外面、内面殺菌ゾーンＺ２，Ｚ３を具備し、内面殺菌ゾーンＺ３の第３−４接続開口部Ｐ３−４に設置された出口トラップゾーンＺ４に、第４〜第６旋回経路Ｌ４〜Ｌ６を接続するとともに、第４〜第６旋回経路Ｌ４〜Ｌ６をそれぞれ収容する第４〜第６遮蔽室Ｒ４〜Ｒ６を設け、外面、内面殺菌ゾーンＺ２，Ｚ３の第１〜第３旋回経路Ｌ１〜Ｌ３の内周部に沿って、金属製遮蔽体からなる第１〜第３内周遮蔽体Ｓ１〜Ｓ３を設置し、出口トラップゾーンＺ４に接続された第４旋回経路Ｌ４と、第４旋回経路Ｌ４に接続された第５旋回経路Ｌ５の内周部に沿って、金属製遮蔽体からなる第４，第５内周遮蔽体Ｓ４，Ｓ５をそれぞれ設置した。 （もっと読む）

【課題】高エネルギーの荷電粒子ビームにより測定試料中の物質ごとに１μｍ〜０．１μｍ等といった高空間分解能で定量的に材料分析できるとともに、前述した高精度の材料分析を研究室規模の施設で可能とする材料分析装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザを射出するパルスレーザ射出部１と、前記パルスレーザが照射される金属薄膜Ｆを有し、当該金属薄膜Ｆから荷電粒子ビームを生成する荷電粒子ビーム生成部２と、前記荷電粒子ビーム生成部２から射出された荷電粒子ビームＩＢを磁場又は電場により収束して、測定試料Ｓに照射する荷電粒子ビーム制御部３と、前記荷電粒子ビームＩＢが測定試料Ｓに照射された際に生じる放射線Ｒを測定する放射線測定部４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】きわめて高い加速電圧の使用を回避するプラスチック材料製の容器の殺菌方法を提供する。
【解決手段】電荷担体発生装置１２を有する殺菌装置を、容器１０の開口１０ｂを通じて容器１０へと導入する工程と、容器１０の内壁１０ａを電荷担体を作用させることによって殺菌する工程とし、電荷担体発生装置１２が、少なくとも部分的に容器１０へと導入され、容器１０の内部で電荷担体を発生させる殺菌方法とした。また少なくとも殺菌処理の前または最中の或る時間において、容器１０の内部に負圧が生成されるようにした。 （もっと読む）

【課題】低コストのパルス電子ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】パルス電圧が印加される一次コイル、及び、この一次コイルとコアを共有する二次コイルを備え、樹脂モールドされ、大気側に設置された高圧パルス電圧発生部と、前記高圧パルス電圧発生部の前記二次コイルに電気的に接続されたエミッターと、前記エミッターから電子ビームを引き出すアノードと、前記エミッターと前記アノードとの間に位置し、前記エミッターに電気的に接続されるとともに前記エミッターから引き出した電子ビームを収束するウエネルトと、前記エミッター、前記ウエネルト、及び、前記アノードを真空状態の内部に収容する真空容器と、を備えたことを特徴とするパルス電子ビーム発生装置。 （もっと読む）

【課題】適切な生物学的重み付けをもって、ハドロンおよび／またはプロトンビームによる放射線治療を用いる治療計画の方法に関し、ビームの線に沿った生物効果比（ＲＢＥ）の変動性を決定し、中でも特に、病状に苦しむ患者の治療部位に所望の生物学的線量を得るために適用すべきプロトンまたは炭素イオンビーム等のハドロンビームの強度を計算するための、治療計画の方法を提供する。
【解決手段】通常は、ビーム線に沿った３箇所または４箇所の空間的に分散した間隔に対応する、３つまたは４つのＲＢＥ値を計算する。一実施形態においては、治療部位の拡大ブラッグピーク（ＳＯＢＰ）領域に対して２つのＲＢＥ、すなわち、１つは近位区画、および、もう１つは遠位減衰区画に対するものが計算される。ＳＯＢＰの遠位末端領域に対して第３の異なるＲＢＥ値を決定することができる。ｐｒｅ−ＳＯＢＰ領域に対して第４の値を計算することもまたできる。 （もっと読む）