【課題】１５０℃以下の低い基板温度の成膜によっても、比抵抗が５×１０^-3Ω・ｃｍ以下、可視波長（４００ｎｍ〜８００ｎｍ）において９８％以上の高い透過率を有する結晶性の透明導電膜を提供する。
【解決手段】Ｓｎ／Ｉｎが０．０１９〜０．１０２であり、かつ、Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｓｎ＋Ｃｏ）が０．７７１〜０．９６７、Ｓｎ／（Ｉｎ＋Ｓｎ＋Ｃｏ）が０．０１６〜０．０９１、Ｃｏ／（Ｉｎ＋Ｓｎ＋Ｃｏ）が０．０１５〜０．１５であり、相対密度が９８％以上、比抵抗が５×１０^-3Ω・ｃｍ以下である酸化物焼結体をスパッタリングターゲットとして成膜して透明導電膜を得る。 （もっと読む）

【課題】安価なフイルム基板上にロール成膜可能とされた、高透明性、高導電性を両立した有機電子デバイス用の透明導電フイルムを得る。
【解決手段】プラスチック支持体１２上に、マスク蒸着された、膜厚が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、平面視における線幅が０．３ｍｍ以上１ｍｍ以下の金属もしくは合金からなる導電性ライン１４ａが複数、間隔３ｍｍ以上２０ｍｍ以下で配置されてなる導電ストライプ１４と、プラスチック支持体１２と導電ストライプ１４を覆うように設けられた、比抵抗が４×１０^−３Ω・ｃｍ以下であり、膜厚２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である透明導電材料層１８とから透明導電フィルムを構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明においては、所定の量の酸化アルミニウム及び酸化ケイ素を添加した、酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物層を用いることにより、膜厚を薄くした場合においても導電性・透明性・耐久性に優れた透明電極付き基板を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物層を有する透明電極付き基板において、該透明導電性酸化物層は、酸化ケイ素を１．２重量％以上２．１重量％以下、酸化アルミニウムを０．２重量％以上１．０重量％未満含有しており、該透明導電性酸化物層の抵抗率は、４．５×１０^-3Ωｃｍ以下であり、かつ８５℃・８５％ＲＨの環境下で１０００時間放置した時の抵抗率の変化△Ｒが、温度（Ｔ）がＴ＝３００Ｋ、膜厚（ｄ）が２０ｎｍ≦ｄ≦１２０ｎｍのとき、ΔＲ＝ａ×ｅｘｐ（−ｂ×ｄ／Ｔ）＋１．０ ［１．２≦ａ≦３．０、１５≦ｂ≦４５、ａ，ｂは実数］（式１）を満たすことを特徴とする透明電極付き基板。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗が低く、広い波長範囲で高い透過率を有する光透過型金属電極、電子装置及び光学素子を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、複数の第１金属線と、複数の第２金属線と、を含む光透過型金属電極が提供される。複数の第１金属線は、第１方向に沿って並ぶ。第１金属線は、第１方向と交差する第２方向に沿って延びる。複数の第２金属線は、第１方向と第２方向を含む平面に対して平行で第１方向と交差する第３方向に沿って並び、第１金属線と接触する。第２金属線は、その平面に対して平行で第３方向と交差する第４方向に沿って延びる。複数の第１金属線の第１方向における中心どうしの第１距離は、可視光を含む波長帯の最短の波長以下である。複数の第２金属線の第３方向における中心どうしの第２距離は、波長帯の最長の波長を超える。第１金属線と第２金属線の厚さは、最短の波長以下である。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングターゲットに利用された場合には異常放電等が抑制され、蒸着用タブレットに利用された場合にはスプラッシュ現象が抑制されるZn-Si-O系酸化物焼結体とその製法等を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とし、Siを含有するZn-Si-O系酸化物焼結体であって、Siの含有量が、Si／(Zn + Si)原子数比で0.1〜10原子％であり、Si元素がウルツ鉱型酸化亜鉛相に固溶していると共に、SiO₂相および珪酸亜鉛（Zn₂SiO₄）であるスピネル型複合酸化物相を含有していないことを特徴とする。上記焼結体の製法は、原料粉末であるZnO粉末とSiO_２粉末から得られた造粒粉を成形し、その成形体を焼成して上記焼結体を製造する際、700〜900℃の温度域を昇温速度5℃／分以上の速さで昇温させる工程と、成形体を焼成炉内において900℃〜1400℃で焼成する工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造コストが低く、透明層の不可視性に優れた透明層付き基板を提供する。
【解決手段】透明な基板１の一方の面に、透明導電層（第１の透明層）２と、これに隣接する透明隣接層（第２の透明層）３を、基板１側から透明導電層２、透明隣接層３の順に形成する。透明導電層２の屈折率（Ｒ１）と透明隣接層３の屈折率（Ｒ１）の比（Ｒ２／Ｒ１）を０．９以上１．１以下とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の解決しようとする課題は、導電層のパターンが形成されていても、パターン同士の隙間を生じさせず、パターン同士の境界部を目立ち難くすることを可能とした透明導電性積層体およびその製造方法を提案するものである。
【解決手段】透明基板と、該透明基板の少なくとも一方の面に形成され外表面に凹部が成形されたハードコート層と、該凹部に形成された導電層とを有し、前記ハードコート層と前記導電層の屈折率の差が０．０５以下であることを特徴とする透明導電性積層体である。 （もっと読む）

【課題】導電性に優れ、かつ透明性及び膜強度の高い導電性部材及びその製造方法、該導電性部材を用いたタッチパネル及び太陽電池を提供する。
【解決手段】基材上に、カーボンナノチューブを含み、平均短軸径が９０ｎｍ以下の導電性繊維束と、珪素酸化物と、を含む導電性層を有する導電性部材。珪素酸化物が、オルガノアルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物、オルガノアルコキシシランとテトラアルコキシシランとを加水分解及び重縮合して得られるゾルゲル硬化物を含む。 （もっと読む）

【課題】平均粒径が５０ｎｍ以下かつ耐酸化性及び分散安定性に優れた銅ナノ粒子を提供すること。
【解決手段】平均粒径５０ｎｍ以下の銅ナノ粒子が重量平均分子量１００００以下のコラーゲンペプチドで被覆されたコラーゲンペプチド被覆銅ナノ粒子。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性及び導電性を兼ね備える透明導電性部材を生産性良く製造することができる透明導電性部材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る透明導電性部材１の製造方法は、金属箔２上にグラフェン層３を蒸着法により形成するステップ、前記グラフェン層３の前記金属箔２とは反対側の面を透明な基材４に接合するステップ、及び前記金属箔２にパターニング処理を施すことで第一の導体層５を形成するステップを含む。 （もっと読む）