【課題】 簡単に電子線光学系のアライメントを行う電子線光学系の調整方法を提供する。
【解決手段】 標準パターンのうち１個だけが他の標準パターンと異なった特殊パターンである標準パターン面を使用し、電子レンズＬ１のパワーを変調することにより、この特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１の中心を通るように、標準パターン面の位置合わせを行う。そして、電子レンズＬ２のパワーを変調することにより、特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１、Ｌ２の中心を通るように偏向器Ｄ１を調整する。その後、電子レンズＬ３のパワーを変調することにより、特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１、Ｌ２、Ｌ３の中心を通るように偏向器Ｄ２を調整する。その後、特殊パターンの像が結像面の中心に形成されるように偏向器Ｄ３を調整する。 （もっと読む）

【課題】
光学条件を変更した場合や、装置の状態変化によって荷電粒子線のビーム中心軸が移動した場合において、容易にビーム中心軸の調整を可能とする荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、一次荷電粒子線のビーム中心軸調整を偏向器（アライナー）で行う際に、前記アライナーの感度を計測する処理ステップ（１）と、前記一次荷電粒子線の中心と前記対物絞りの中心とのずれを検出する処理ステップ（２）を設け、前記処理ステップ（１）で計測したアライナー感度と前記処理ステップ（２）で検出したずれ量を用いて、前記一次荷電粒子線が前記対物絞りの中心を通過するように前記アライナー設定値を決定し、このアライナー設定値を用いてアライナーを制御する手段を設けていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 本発明はイオンビーム源装置において、引き出されたイオンによって空間電荷が形成され、引き出し電流密度が大きくなると、それに比例した大きな電場が発生し、その結果イオンビームが自己発散するような問題点を除去することを課題とする。
【解決手段】 メッシュ構造、あるいは１個ないし多数の孔を持った電極を用いて、プラズマ源からイオンを引き出すイオンビーム源装置において、プラズマ源とは反対のビーム引き出し方向から、光、あるいはＸ線を照射することにより、照射された電極背面から光電子を放出させて、電極孔から引き出されたイオンの空間電荷を中和して、イオンビームの発散を抑制することを特徴とするイオンビーム源装置である。 （もっと読む）

【課題】短時間で容易に、かつ、精度良くアパーチャの中心軸の位置調整が可能な荷電粒子ビーム装置、及び、アパーチャの軸調整方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置１は、荷電粒子源９と、アパーチャ１８と、対物レンズ１２と、観察手段３２と、アパーチャ駆動部１９と、制御部３０とを備える。制御部３０は、荷電粒子ビームＩを照射することで、試料Ｎの表面Ｎ１に複数のスポットパターンを形成させるスポットパターン形成手段３３と、スポットパターンのスポット中心の位置、及びハローの幾何学的な中心位置を算出する解析手段３４と、各スポットパターンにおけるスポット中心の位置とハローの中心位置とを結んだ線同士が交差する位置に基づいて調整位置を算出する調整位置決定手段３５とを有し、調整位置にアパーチャ１８の中心軸を移動させることでアパーチャ１８の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】
アパーチャの寿命を長くでき、カラムバルブを閉じた際にも、コンタミの増加を防止し、また、再起動も短時間で行える集束イオンビーム装置を提供することにある。
【解決手段】
高圧電源制御器１８１は、カラムバルブ１４の閉動作時に、引出電極１７に印加する引出電圧を下げ、または、制御電極１６に印加する制御電圧を下げて、エミッションを０μＡにする。また、カラムバルブ１４の開動作時に、引出電極１７に印加する引出電圧を元に戻し、または、制御電極１６に印加する制御電圧を元の電圧に戻す。 （もっと読む）

【課題】 注入位置でのリボン状イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を高めることができるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】 このイオン注入装置は、リボン状のイオンビーム４を発生させるイオン源２内に原料ガス３４を導入するものであってＹ方向に配列された複数のガス導入部３８と、それから導入する原料ガス３４の流量を調節する複数の流量調節器３６とを備えている。更に、イオンビーム４のＹ方向におけるビーム電流密度分布を測定するビーム測定器４６と、それによる測定情報に基づいて各流量調節器３６を制御して、注入位置でのイオンビーム４のＹ方向におけるビーム電流密度分布を均一化する制御装置５０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 開口が形成されたシリコン板とライン・スペースパターンが形成されたシリコン板とを用いた、イオンビーム装置における荷電粒子の入射角モニタ素子を提供する。
【解決手段】
荷電粒子を通過させるための開口を有する部材と、寸法を計測するためにパターン構造を形成した荷電粒子を照射させる面を持つ部材とから構成され、それらを空隙を介して配設したことを特徴とする荷電粒子の入射角モニタ素子。 （もっと読む）

【目的】高精度なビーム分解能を測定する方法、および方法を具現化する描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のビーム分解能測定方法は、マーク上を荷電粒子ビームで照射しながら走査する走査工程（Ｓ１０２）と、マークからの反射信号を計測する計測工程（Ｓ１０４）と、所定のマーク形状関数と誤差関数とを用いて定義された近似式を用いて反射信号に基づく波形をフィッティングして、ビーム分解能を測定するビーム分解能測定工程（Ｓ１０８）と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、高精度なビーム分解能を得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、粒子線によって対象物（５）の画像を生成するための方法および装置（１）に関する。この方法または装置（１）では粒子線が対象物（５）上にラスタ走査される。本発明は、粒子線によって対象物（５）の画像を生成するための方法および装置（１）において、良好な画像が常に保証されているように冷陰極電界エミッタ（２）と共に使用可能であるものを提案することを課題としている。この課題は、本発明による方法において、ビームのパラメータが変化した場合に、補正されたパラメータにより対象物（５）のラスタ走査を繰り返すことにより解決される。本発明による装置（１）は、このために対応する手段（４，６，７）を有している。
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イオンビーム電流の均一性を監視するモニタ、イオン注入装置及び関連の方法を開示する。一実施形態では、イオンビーム電流均一性モニタ（１５）は、複数のロケーションにおけるイオンビーム（１２）の電流を測定する複数の測定デバイス（１７）を有するイオンビーム電流測定器と、イオンビーム電流測定器によるイオンビームの電流の測定値に基づいてイオンビーム電流の均一性を維持する制御器（１８）とを備える。 （もっと読む）