【課題】電子ビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に計測する際、長い伝送経路に重畳するノイズの影響を低減し、また、マルチビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に効率よく計測する技術を提供する。
【解決手段】電子ビーム検出素子１０９と検出信号用伝送経路１２４を遮断・接続するスイッチ１１０を用いて、ビーム電流計測の間、電子ビーム検出素子１０９を検出信号用伝送経路１２４から遮断し、電子ビーム検出素子１０９内に検出信号を蓄積し、計測終了と同時に電子ビーム検出素子１０９と検出信号用伝送経路１２４を接続し、蓄積信号を計測する。また、同様な計測方法を複数同時に行うため、電子ビーム検出素子と複数のスイッチとを用いて、複数本の電子ビームを同時に高精度に計測する。 （もっと読む）

【課題】基板へ不純物イオンを注入する際に不純物濃度の均一性を向上させることができるオン注入装置を提供する。
【解決手段】チャンバー内に設け主面にイオンを注入すべき基板１０を搭載した円板と、この円板を主面に平行な方向に移動させる移動手段と、円板に取り付けてある基板１０にイオンを注入するイオンビーム発生部２とを備えたイオン注入装置１であって、イオンビーム発生部２から出射するイオンビームが基板１０に到達するまでの間の進行路上に設置し、イオンビーム径の形状を少なくとも一方向に拡大させるビーム成形手段５を備えている。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐放射線性及び二次電子放出特性に優れている量子ビームモニタ用電極を提供すること。
【解決手段】本発明の量子ビームモニタ用電極１は、複数のリボン状のカーボングラファイト薄膜２１０が所定間隔おきに一方向に沿って並設されたモニタターゲット２１を備えている。カーボングラファイト薄膜２１０は、厚さが０．５〜１００μｍ、幅が０．０５〜５０ｍｍであることが好ましく、隣接するカーボングラファイト薄膜２１０間の距離は、０．０１〜１００ｍｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】イオンビームのプロファイルを決定するためのシステム、方法及び装置が提供される。
【解決手段】装置は、イオンビーム１１０の経路に沿って配置される測定装置１４０、駆動機構１７５、及び駆動機構に回転可能に連結された第１プレート１６５を含む。駆動機構は、イオンビームの経路中、第１軸の周囲に第１プレートが回転するように操作可能であり、測定装置に達するイオンビームを選択的に阻止する。装置は、さらに、駆動機構に回転可能に連結された第２プレート１９３を含み、駆動機構は、第１プレートの回転から独立してイオンビームの経路中、第１軸の周囲で第２プレートが回転するように操作可能であり、さらに、測定装置に達するイオンビームを選択的に阻止する。駆動機構は、さらにイオンビーム中、第１プレート及び／あるいは第２プレートを、直線上、平行移動させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線分析装置を備える電子顕微鏡において専門的な知識や能力がなくても試料の観察および分析において精度の高い結果を得ることができるようにする。
【解決手段】 ＳＥＭハードウェア１と、Ｘ線検出器およびエネルギー分散型Ｘ線分析装置で構成されるＥＤＸハードウェア２とを制御するコンピュータ３に、ＳＥＭ制御データ８,７１の通信を高速化し、ＥＤＸ側の測定結果をフィードバックしてＳＥＭ側の条件をリアルタイムに制御するデータ共有オブジェクト７を追加して、ＳＥＭアプリケーション５を介さずに、ＳＥＭ制御データ８,７１を直接ＥＤＸアプリケーション６へ送信する構成とした。 （もっと読む）

【課題】 同軸度がよく、素粒子やイオン等の家電粒子のビームに乱れを生じさせることがなく、荷電粒子を所定の速度に安定的に加速することができる加速管を提供すること。
【解決手段】 加速管は、複数の環状絶縁部材１と複数の環状電極２とが同軸状に交互に接合されるとともに、環状電極２には両主面間を貫通する貫通孔２ａが設けられており、貫通孔２ａに当接する環状絶縁部材１の端面には凹部１ａが設けられており、止め部材７が貫通孔２ａを挿通するとともに凹部１ａに嵌入されて、環状絶縁部材１の端面と環状電極２の主面とが接合されている。接合時に治具等を用いずに組立可能で、同軸度も向上できる。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム描画装置において、幅広い領域に渡ってビームサイズを高精度に計測することが可能な電子ビーム計測技術を提供する
【解決手段】
電子ビーム検出器２１８には、スリット開口やナイフエッジが形成されており、スリットを用いる第１のビームサイズ計測方法とナイフエッジを用いる第２の計測方法を切り替えて使用することにより、広い範囲のビームサイズで高精度な計測を行うことが可能となる。この計測値を元に、ビームサイズ校正を行い、描画制御装置２１１にフィードバックすることで高精度な描画を行う。 （もっと読む）

【課題】不連続的放出パターンを有する荷電粒子エミッタによる荷電粒子装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置及び方法。装置は、少なくとも２つの放出ピークを含む放出パターンを有するエミッタ（１０２）と、ガンレンズ（１１９、５１９、９１９）と、ダイヤフラム（１２０）とを含み、ガンレンズは、デフレクタ・ユニット（１１０）を含み、デフレクタ・ユニットは、少なくとも２つの放出ピークのうちの放出ピークをダイヤフラムの開口部に向け、それによって少なくとも２つの放出パターンから放出ピークのうちの放出ピークを選択するようになっている。 （もっと読む）

【課題】 装置の運転中に、生産を中断することなく、ピアス式電子銃から発せられる電子ビームの状態をリアルタイムでモニタし、その結果を電子ビームの状態を適正なものに改善や維持するためにフィードバックすることで、優れた効率性と安定性のもとに、基板の表面に蒸着被膜を形成することができる、電子ビーム蒸着装置、当該装置を用いて行う基板の表面への蒸着被膜の形成方法、ビーム状態のモニタが可能なピアス式電子銃、および、ピアス式電子銃のビーム状態のモニタ方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の電子ビーム蒸着装置は、電子ビームに起因乃至由来する電子を捕捉するためのセンサがビームパスの近傍に設置され、センサによって捕捉された電子に基づく電流および／または電圧を検出することで、ビーム状態をモニタするようにしたピアス式電子銃を備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】本発明は、電子線ビームで試料を照射して走査し、質量に対応して多くなる反射電子を検出・増幅して反射電子線像を生成する検査装置および検査装置の照射ビームサイズ調整方法に関し、電子線ビームで試料を照射して走査し、質量に対応して多くなる反射電子を検出・増幅して生成した反射電子線像を生成する際に、電子線ビームで試料を照射して走査する条件を倍率変更前と倍率変更後でほぼ同じにし、倍率可変しても適切な濃淡を持つ反射電子線像を生成することを目的とする。
【構成】 倍率の変更指示があったときに、変更指示された倍率にしたときに変更前の条件がほぼ同一となるように電子線ビームのスポットサイズを調整する手段と、調整された後の電子線ビームで変更指示された倍率に対応して試料を照射して走査する手段とを備えた検査装置である。 （もっと読む）