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国際特許分類[H01J37/04]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | 放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの (7,637) | 細部 (4,344) | 電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置 (2,068)

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【課題】ターゲットでの実質的に均一な投与分布を得るために、均一なビームを得ること。
【解決手段】本発明はイオンビーム208全体(例 リボン状ビームのより広い部分)にわたって、種々の位置で入射角およびビーム電流の均一性を検出することによって、半導体装置の製造を容易にする。多くの要素からなる1以上の均一性検出器が、イオン注入システム内(単一のウエハ及び/あるいは複数のウエハに基づくシステム)で使用される。各要素は、入射するイオンビームの関数として、ビーム電流を測定する一対のセンサ202、204と、入射するイオンビームからビームレット210を選択的に得るマスク206の開口214とを含む。特定の要素に対する入射角は、センサ対による測定されたビーム電流から少なくとも部分的に決定される。結果としてイオンビームの生成は均一性が改善され、イオン注入は、改善された均一性と、厳しいプロセス制御の下で実行される。
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【課題】イオンビームの照射位置を正確に求め、イオンビームによる加工時の加工精度、試料の分析の精度等を向上させる。
【解決手段】イオンビームをワークに照射するイオンビーム照射方法において、ワークに固定された基準部5,5’の位置を基準位置として、ワーク4の形状を測定する形状測定工程と、ワークを、イオンビームを照射するイオン銃1に対してワークを移動させるためのステージ7上に載置する載置工程と、ステージ上に配置された検出器3により、イオンビームの照射位置を検出する照射位置検出工程と、検出器3と基準部5,5’の相対位置を測定する相対位置測定工程と、基準位置に対するワークの形状の測定結果と、イオンビームの照射位置の検出結果と、検出器と基準部の相対位置の測定結果とに基づいて、イオンビームの照射位置をワークの所望の位置に位置合せする位置合せ工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】
マルチビーム形成部でのビームアライメントを効率よく行うことを可能にする荷電粒子ビーム露光装置を提供する。
【解決手段】
マルチビーム形成部下流でマルチビームを偏向し、縮小光学系内に設置した絞りBA上を走査した像を観察する。絞りの光学的位置を、最上段投影レンズの後側焦点位置BFからずらすことで、マルチビーム数を反映した像が観察できる。マルチビーム形成部内の角度調整機構および像回転調整機構を操作して所望の数のマルチビーム像になるように調整することで、マルチビーム形成部内のビームアライメントを行う。また、ビームアライメントに伴い変化するマルチビーム形成部からの射出角度は、走査像が視野略中心にくるようにアライナを調整することで、下流の投影光学系内で遮蔽されることなく検出できる。 (もっと読む)


加工物の表面に対するイオンビーム(110)の2つの入射角度を特定するためのシステム、装置、及び方法が提供される。第1センサ(202)及び第2センサ(204)を有する測定装置(104)は、移動機構(140)に結合されており、第1センサは移動方向に直交する第1方向に延在し、第2センサは第1センサに対して傾斜角を有して延在する。第1及び第2センサは、それぞれ対応する第1時刻及び第2時刻においてイオンビームを通過するときに、イオンビームの1つ又は複数の特性を検知する。コントローラ(106)は、第1時刻及び第2時刻に第1センサ及び第2センサにより検知されたイオンビームの1つ又は複数の特性に少なくとも部分的に基いて、イオンビームの入射に関する第1ビーム角度及び第2ビーム角度を特定するように動作可能である。
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【課題】荷電粒子ビームカラムの自動アライメント及び非点収差の自動補正を高精度でかつ短い時間で実施できるようにする。
【解決手段】ビームを絞りの2つのエッジに向けて偏向し、消光を得るために必要な信号から計算した補正偏向フィールドを偏向部に与えて自動アライメントを行なう。更に、加速電圧の変調(ウォブリング)によってデフォーカシングを行い、これにより生じた画像シフトに基づいて計算された信号を偏向部に与えて自動アライメントを行なう。更に、加速電圧と非点補正コイル励磁電流を変えながら測定した一連のフレームに対して鮮鋭度を評価し前記非点補正コイル励磁電流を最適値に設定して非点収差を自動補正する。 (もっと読む)


【課題】 電子ビームの軌道の調整作業を容易化して調整精度を向上させると共に,装置の稼動中における電子ビームのずれを容易に検出すること。
【解決手段】 加速器Y1から出射されたイオンビームLのビーム電流を測定する分割電極10或いはファラデーカップ20等のビーム電流測定手段を試料分析装置の測定室73aに設け,このビーム電流測定手段によるビーム電流の測定値に基づいてイオンビームLの軌道位置を検出する。これにより,測定されたビーム電流を電流計測器等でモニタリングしながらイオンビームLの軌道調整を行うことが可能となる。 (もっと読む)


本発明は、複合静電抑制ファラデー・エネルギー汚染モニタ、および、その使用のための関連方法を提供する。本発明の装置は、例えば、減速されるイオンビームにおける電流およびエネルギー汚染を含む、イオンビームの2つの特性を選択的に測定することができる。本発明の第1の態様は、イオンビームを受ける一の開口と、該開口に隣接して配置される一の負にバイアスされる電極と、該負にバイアスされる電極に隣接して配置される一の正にバイアスされる電極と、該正にバイアスされる電極に隣接して配置される一の選択的にバイアスされる電極と、一のコレクタとを含むイオンビーム測定装置を提供し、選択的にバイアスされる電極は、負または正に選択的にバイアスされてよい。 (もっと読む)


【課題】 荷電粒子線光学系の収差を分離して測定できるようにし、荷電粒子線光学系の有効領域における収差をバランスよく調整することが可能な収差測定装置を提供する。
【解決手段】 荷電粒子線光学系の収差を測定するために、複数の荷電粒子線を互いに異なる入射角で前記荷電粒子線光学系の物体面に入射させる荷電粒子生成手段と、前記複数の荷電粒子線が、前記荷電粒子線光学系の像面上に結像する位置を検出する検出手段とを有し、前記荷電粒子生成手段は、各荷電粒子線に対応した電子光学系を有し、各電子光学系の瞳位置に、対応する荷電粒子線が互いに異なる入射角で前記物体面に入射するような開口絞りを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】セラミック部材に強固にネジ止めしてもセラミック部材を破損させることがなく、セラミック部材にネジにより強固に固定できる絶縁支柱を提供すること。
【解決手段】 絶縁支柱は、両端面にメタライズ層が形成されたセラミックスから成る絶縁柱1と、絶縁柱1の両端面にロウ付けされた、平板状でロウ付け面と反対側の他端面に突出させて形成されたネジ受け部3aを有する金属接合部材3と、両主面間を貫通し、ネジ受け部3aが嵌挿されるネジ挿通用の貫通孔2aが形成されるとともに、一主面が金属接合部材3の他端面に当接されるようにネジ4を介して金属接合部材3に固定された電極部材2を具備する。 (もっと読む)


【課題】 コンピュータ制御された電子光学機器において、電子ビーム軌道を可視化することにより操作性を向上させる。
【解決手段】 電子光学系の設計値及び/又は軸調整データに基づいて作成される電子ビーム軸軌道の内部データと、電子光学系の設定パラメータとに基づいて電子ビーム軌道を計算する演算手段と、前記演算手段により求められた前記電子ビーム軌道を表示する表示手段とを備え、変更された設定パラメータを読み取り、電子ビーム軌道をリアルタイムでシミュレーション計算し、可視化して表示する。 (もっと読む)


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