本発明は、スキャンされるビームの平面に直交するイオンビームの入射角度値及び発散を得ることによって半導体素子の製造を容易にする。発散検出器は、マスク（310）とプロファイラー／センサ（314）を含み、入来イオンビーム（308）からビームレット（312）を得るために使用され、多数の垂直位置（316,318）でのビーム電流を測定する。これらのビーム電流測定値は、垂直入射角度値を与えるために使用され、かつイオンビームを特徴づけるために役立つ垂直方向の発散プロファイルを与える。これらの値は、イオンビーム発生機構によって使用され、これらの値が所望の値からすれている場合に、加工物の位置または発生したイオンビームに関する調整が実行される。
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【課題】 露光転写を行っている途中でも、電子線の電流密度を推定することができる方法を提供する。
【解決手段】 電子線源１から放出された電子線２は、照明光学系３を介してレチクル４の所定の領域を照明する。照明された領域にあるパターンの像が、投影光学系５を介して、ウエハ６上に形成されたレジスト上に形成される。それと共に、ウエハ６とレジストからは、反射電子７が発生するが、この反射電子７が電極板８ａに入射し、その電流値Ｉ_ｒが反射電子検出器８で検出される。反射電子検出器８で検出された電流値Ｉ_ｒは、制御装置０に送られ、制御装置９は、この値から、ウエハ６上のレジストに入射する電子線の電流密度を算出する。 （もっと読む）

【課題】露光／非露光部にて電子ビームを高速にＯＮ／ＯＦＦして描画する電子ビーム描画装置において、ビームＯＮ時間に対するビーム照射量の非直線性により、試料上に形成される描画パターンの寸法精度が悪化するという課題がある。
【解決手段】露光／非露光部にて電子ビームを高速にＯＮ／ＯＦＦして描画する電子ビーム描画装置において、ビームＯＮ時間に対するビーム照射量の特性を予め計測し、ビームＯＮ時間の補正データを作成しておき、描画時には前記補正データに基づいて、所望のビーム照射量が得られるようにビームＯＮ時間を補正する。 （もっと読む）

【課題】所望のパターン寸法精度を得られる荷電粒子線露光装置を提供する。
【解決手段】露光される基板に対して荷電粒子線の遮蔽と露光を繰り返すブランキング手段を用いて前記基板を露光する荷電粒子線露光装置において、ブランキングの方向を調整する。ブランキングの方向は、例えばラスタースキャン方向と垂直な方向または荷電粒子線の基板上でのビーム径が最も短い方向となるように調整する。 （もっと読む）

従来システムの低い解像度及び甚だしい直線性要求を克服する高データレート電子ビームスポット格子アレー像形成システムが提供される。実施形態は、像形成されるべき物体の表面上に互いに離間されたスポットのアレーを同時に照射するための電子ビーム発生器と、上記スポットと上記物体の表面との相互作用の結果として放出される後方散乱電子及び又は二次電子を収集して、上記物体表面の照射部分の像を形成するための検出器とを備えた像形成システムを含む。機械的システムが、上記スポットのアレーの軸にほぼ平行な方向に基板を移動し、その基板が走査方向（ｙ方向）に上記スポットアレーを横切って移動されたときに、上記スポットは、機械的な交差走査方向（ｘ方向）にギャップを残さない経路をたどる。サーボ又は可動ミラーのような補償装置が、可動ステージにおける機械的な不正確さを補償し、これにより、像形成精度を高める。他の実施形態では、基板に対して異なる角度で配置された多数の検出器が電子を収集し、基板表面の多視点像形成を与える。
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【課題】 素子特性の劣化を防止できるイオン注入装置を提供すること。
【解決手段】 イオン注入装置は、主面を有する試料２１が設置される試料台２２と、複数のイオンを生成するためのイオン生成手段１１であって、イオン源ガスが導入される容器、および、前記容器内に設けられ、熱電子を放出するフィラメントを含むイオン生成手段１１と、前記複数のイオンを含むイオンビームを、試料２１の主面中に注入するための注入手段１３−１９と、前記イオンビームの重心の偏心方向と前記主面の法線方向とが一致するように、試料２１の位置を制御するための制御手段２３−２５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】試料に対してビームを傾斜しても分解能低下の少ない荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】複数のレンズ６，７に対して一次ビーム４の軌道を軸外に通し、その軸外軌道を制御することにより、ビーム傾斜時に対物レンズ７で発生する収差を他のレンズ６の収差でキャンセルする手段を備え、対物レンズを含む複数のレンズの励磁を同時に変調する手段を設けた。 （もっと読む）

【課題】従来とは異なる原理および手段によるコマフリー軸調整法を提供する。
【解決手段】収束レンズ系を用いて試料の近傍に入射電子を収束し、対物レンズおよび結像レンズ系を用いて電子顕微鏡像を観察する、透過電子顕微鏡において、前記試料を結晶性試料とし、前記入射電子の入射方向を前記試料のほぼ晶帯軸とし、試料によって散乱された散乱電子により形成され、前記電子顕微鏡像に観察されるブラッグ回折斑点が、点対称となるように、前記入射電子の入射方向を調整することを特徴とする、透過電子顕微鏡のコマフリー軸調整方法。 （もっと読む）

【課題】 従来の大型化、大電力化、エネルギーの可変性等の改良余地が残されている問題を解決したイオン注入装置を提供する。
【解決手段】 イオン源２０と、このイオン源２０からのイオンの低エネルギー入射が可能な第１のＩＨ型線形加速器３０と、この第１のＩＨ型線形加速器３０に直列的に接続される第２のＩＨ型線形加速器４０とを備え、イオン注入エネルギーを完璧に可変とするように構成した。
この場合、イオン源２０として、大気圧型ターミナル２２を具備したＥＣＲイオン源２０を用い、第１及び第２のＩＨ型線形加速器３０、４０としては、それぞれ、ＡＰＦ−ＩＨ（四重極収束系を含む）型線形加速器とするとよい。 （もっと読む）

ガスクラスタイオンビーム処理のためのシステム（３５０）と方法は改良ビームと対象物中和機器（１２２）を利用することで達成される。大きなＧＣＩＢ電流運搬はＧＣＩＢの空間荷電の低エネルギー電子中和によって提供される。電流が大きくなるほどＧＣＩＢのガス量は増大する。高ガス運搬量にも拘わらず通気型ファラデーカップビーム測定システム（３０２）はビーム量測定精度を維持する。
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