国際特許分類[H01J37/04]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | 放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの (7,637) | 細部 (4,344) | 電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置 (2,068)

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ガスクラスタイオンビーム処理のためのシステム(350)と方法は改良ビームと対象物中和機器(122)を利用することで達成される。大きなGCIB電流運搬はGCIBの空間荷電の低エネルギー電子中和によって提供される。電流が大きくなるほどGCIBのガス量は増大する。高ガス運搬量にも拘わらず通気型ファラデーカップビーム測定システム(302)はビーム量測定精度を維持する。
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【課題】リボン状連続イオンビームの電流密度の均一性を調整可能とする組立体で操作が簡単で、単純な構造の電力消費量を削減できるイオン注入装置が望ましい。
【解決手段】連続イオンビームに加えられる連続磁場を生成するための電磁制御体が記載される。制御体は、強磁性材からなる支持棒と支持棒上に独立し、かつ隣接して設けられたコイルで構成される直線状の多極アレイと多極アレィと所定距離はなれ平行に設けられた強磁性境界板とからなり、リボン状の移動する連続ビームの均一性を制御するために構築され、電流の均一性を高めるためのパラメータとして磁場の磁場勾配を直接調整することを可能にする。 (もっと読む)


【課題】より適正なリフォーカス量を決定する。
【解決手段】 ステンシルマスク40Aには、荷電粒子ビームのエッジぼけ量δaを実質的に測定するためのライン形アパーチャ41と、δaのクーロン相互作用以外の成分が無視できる程度にアパーチャ41と離間して形成され、アパーチャ41と同時に荷電粒子ビームが通されるアパーチャ42とが、同時露光するためのブロックパターンとして形成されている。ステンシルマスク40A及び40Bを用い、その各々についてアパーチャ41を通った荷電粒子ビームのエッジぼけ量を実質的に測定し、エッジぼけ量が最小になるように、荷電粒子ビームに対するリフォーカス量を決定し、ステンシルマスク40A及び40Bの各々の開口面積合計に対し決定されたリフォーカス量に基づいて、ステンシルマスク上の任意のブロックパターンの開口面積に対するリフォーカス量の関係を直線近似する。 (もっと読む)


【課題】 複数台の荷電ビーム描画装置のそれぞれの諸特性を一致させることができない。
【解決手段】 同一のメンテナンスエリアに複数の荷電ビーム描画装置(電子ビーム描画装置100,200)を設置する場合において、各電子ビーム描画装置100,200で必要とする基準装置300を、共通に用いる構成とする。つまり、1台の基準装置300を用いて、複数の電子ビーム描画装置100,200の基準とする。このことにより、電子ビーム描画装置100,200間の諸特性を一致させて、描画誤差を低減でき、互換性が高くなり、電子ビーム描画装置100,200によるミックスアンドマッチ様でのパターン描画が可能となり、半導体デバイスに組み込む高精度なパターン回路を効率的に描画できる。 (もっと読む)



【目的】 電磁場分布の空間変化が場所により大きく異なる試料を観察した場合でも、視野の各部分に適したコントラストで像を得ることができる顕微鏡を提供する。
【構成】 走査型透過電子顕微鏡に、電子線を分離するバイプリズム、電子線の干渉縞の透過できるスリット、および電子線の強度および偏向を検出できる検出器を付加した。
【効果】 1つの顕微鏡を走査ローレンツ電子顕微鏡と走査干渉電子顕微鏡として使うことができ、両者を使いわけることにより、視野の各部分に適したコントラストで像を得ることができる。 (もっと読む)


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