【課題】カソードの長寿命化を図ることが可能な電子銃の駆動方法と、この機能を備えた電子ビーム描画装置、さらには、カソードの長寿命化を図ることが可能な電子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】所定間隔毎に、電子ビームの電流密度を測定し、この値から得られる輝度が目標輝度のスペック内でない場合に、エミッション電流を調整して輝度がスペック内となるようにする。電子ビームの開き角の測定値が設定範囲内となるように調整してから、エミッション電流の調整を行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線が照射される位置の安定性を容易に評価することができる変位検出回路を提供する。
【解決手段】ヘテロダイン干渉計と、該ヘテロダイン干渉計の基準信号と測定信号のそれぞれの光ビート回数をカウントするデジタルカウンタと、前記基準信号と前記測定信号との差分をとる減算器と、前記基準信号の波形の位相をシフトさせる位相シフト回路と、該位相シフト回路で位相シフトされた位相シフト信号の波形から特定の１つの信号波形を選択するスイッチ回路と、前記基準信号と前記測定信号との位相差を検出するゲートと、該ゲートの出力からヘテロダイン周波数の信号を取り除くローパスフィルタと、を構成とする。 （もっと読む）

【課題】平行化レンズを用いずに、ガラス基板に対してのイオン注入を実現するＣООに優れたイオン注入装置を提供する。
【解決手段】本発明のイオン注入装置は、リボン状のイオンビーム３をガラス基板７に照射する質量分析型のイオン注入装置１であって、さらに、イオン源２から質量分析マグネット４までのイオンビーム３の輸送経路にイオンビーム発散手段を備えている。イオンビーム発散手段は、イオンビーム３の長辺方向（Ｙ方向）とイオンビームの進行方向（Ｚ方向）からなる平面において、ガラス基板７上に引かれた垂線とガラス基板７に入射するイオンビーム３との成す角度であるイオンビーム３の照射角度が０度よりも大きくデザインルールに基づいて設定される許容発散角度以下となるように、イオンビーム３をその長辺方向に発散させる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置において、短時間かつ高精度にビーム電流を測定することおよび設定することが可能な計測技術を提供すること。
【解決手段】荷電粒子源を試料に照射し、その試料から発生する信号を検出する荷電粒子線装置において、荷電粒子ビームを試料上に収束または照射する荷電粒子光学系と、荷電粒子線の走査によって試料から発生する信号を検出する検出手段と、荷電粒子ビームの電流を測定するための検出素子と、荷電粒子の走査を実現する偏向電極、あるいは偏向コイルを備え、これを制御する電圧もしくは電流を印加する制御部と、荷電粒子ビームの光学条件を記憶可能な演算装置を具備し、予めビーム電流のピーク電流が得られる条件を記憶しておくことで、光学条件に応じてビーム偏向範囲を参照することで、ビーム偏向を検出素子近傍のみに制限し、荷電粒子ビームの電流値を計測する。 （もっと読む）

【課題】試料ステージが傾いている場合や試料表面にうねりを有するような場合に起こり得る弊害を解消し、正確な画像を取得することができる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置において、試料８表面の傾きを検出する傾き検出手段２８、２９と、検出された試料８の傾きに応じて、照射荷電粒子線を試料８表面に垂直に照射させ、同時に照射光学系の光軸中心および結像光学系の光軸中心に荷電粒子線軌道を合わせる電界と磁界を重畳させたＥ×Ｂ偏向器５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】電子源の交換後、蛍光板上で電子線の位置を確認することができないような光軸のずれがある状態でも光軸の自動調整が可能な電子顕微鏡を提供する。
【課題手段】蛍光板の電流を測定して電子線が蛍光板に照射されているか否かを判断し、照射されていない場合は、偏向器を制御して電子線が蛍光板に照射されるように電子線を移動させ、照射されている場合は、当該電流の大きさが極大であり、かつ蛍光板に照射されている電子線の画像から得られる輝度の大きさが極大となるように、偏向器を制御するものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は対物レンズ絞り上で散乱する電子の量を制限し、主電子線軌道から外れ、分析点以外に照射される電子を制御することでシステムピークを抑制し、試料の元素スペクトルの信憑性または定量精度の高い走査電子顕微鏡または走査電子顕微鏡による試料検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、電子線から放出された一次電子線を集束レンズで集束し対物レンズ絞りに照射し、コンデンサー絞りで該照射のビーム径を絞り、対物レンズの孔中心を通過し集束させ、前記電子線の照射によって試料から発生した二次電子または散乱電子を検出し前記試料を検査する際に、前記対物レンズ絞り、前記コンデンサー絞り及び前記集束レンズを含む電子光学系の有するシステムピーク強度を抑制するように前記ビーム径を定めることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明はエミッタアレイを用いた電子プローブ装置に関し、プローブの径を保持したままでプローブ電流を増加させる電子プローブ装置を提供することを目的としている。
【解決手段】リング状に並べられたＦＥエミッタアレイ１と、該ＦＥエミッタアレイ１のビームを回折面に集束させるためのレンズ２と、回折面に配置された絞り３と、該絞り３の絞り面の縮小像を試料６に照射させるための光学系５とからなり、装置のプローブ径を保ったままでプローブ電流値を増大させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】撮像画像に評価精度を悪化させる要因がある場合であっても、高精度に分解能を評価することが可能な、電子顕微鏡の分解能評価方法、プログラム、及び情報記憶媒体を提供すること。
【解決手段】微粒子を蒸着させた試料を撮像した画像から電子顕微鏡の分解能を評価するためのプログラムであって、前記撮像した画像を複数の部分領域に分割する分割部と、前記撮像した画像の信号強度ヒストグラムと、前記各部分領域の信号強度ヒストグラムとに基づいて、前記複数の部分領域から、評価対象とする１又は複数の部分領域を抽出する抽出部と、前記抽出された１又は複数の部分領域を周波数解析することで分解能を算出する分解能算出部としてコンピュータを機能させる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上に照射された複数本のイオンビームによる重ね合わせ領域において、各イオンビームのビーム電流密度分布を効率的に調整する。
【解決手段】このイオン注入方法は、予め決められた順番で、複数本のリボン状イオンビームの各々が所定の電流密度分布となるように調整されるビーム電流密度分布調整工程と、ビーム電流密度分布調整工程の間であって、２本目以降の各イオンビームに対してビーム電流密度分布の調整がなされる前に、先になされたビーム電流密度分布の調整結果を用いて、これからビーム電流密度分布の調整がなされるイオンビームに対する調整目標とされるビーム電流密度分布を修正する目標修正工程と、複数本のリボン状イオンビームの長辺方向と交差する方向にガラス基板を搬送させるガラス基板搬送工程と、を行う。 （もっと読む）