【課題】３枚の多孔板電極からなる引き出し電極を備えたイオンビーム発生装置において、第３電極を損傷することなく、第３電極に付着した付着膜を除去する技術を提供する。
【解決手段】第１電極７ａを正電位に、第２電極７ｂを負電位に、第３電極７ｃを接地電位にそれぞれ設定し、第３電極７ｃに流れる電流値を電流計９で測定しながら、該電流計９で測定された電流値が設定値を超えた場合には、フィードバック制御部１０によって第２電極７ｂに印加する電圧の絶対値を上げる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は，追加的な装置を要せず，汎用性が高く，迅速な演算を行うことができるビームプロファイルモニターを提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明のビームプロファイルモニターは，ビームスイープ手段と，アパーチャーと，ビーム検出手段と，台形波形取得手段と，ビームプロファイル取得手段とビーム照射積算プロファイル取得手段を有する。
ビームプロファイルモニターは，台形波形マッピングデータを用いてビームプロファイルを求めるため，追加的な装置を必要とすることない。さらに，台形波形マッピングデータは，情報量が小さいので演算処理を迅速に行うことができる。しかも，本発明のビームプロファイルモニターは，ビームスイープ手段，アパーチャー，及び検出系が存在すれば，全てのビーム系において利用できるため，汎用性が高い。 （もっと読む）

【目的】荷電粒子ビームの光軸が偏向器内の中心付近をできるだけ垂直に進むように調整する装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、電子ビーム２００を放出する電子銃２０１と、試料１０１を載置するＸＹステージ１０５と、電子ビームを偏向して、試料上の所望の位置へと荷電粒子ビームを照射する偏向器２０８と、偏向器２０８に流れる電流値を測定する電流測定部１２２と、電流値を用いて、偏向器２０８内を通過する電子ビームの光軸をアライメントする第１と第２のアライメントコイル２１２，２１４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】絶縁部及び導電部を含む回路パターンが形成された基板に対して、導電部であるべき部位が絶縁部となっている欠陥の検査を高精度に行うこと。
【解決手段】絶縁部及び導電部を含む回路パターンがその表層部に形成された基板（ウエハＷ）を真空容器２１内の載置台２２に載置する。次いで前記ウエハＷに対して電荷密度が６．７×１０^-３Ｃ／ｎｍ^２以下の電子線を照射し、前記電子線の照射により放出された２次電子を検出する。電子線の照射位置と載置台とを相対的に移動させて、ウエハＷの検査対象領域全体において、放出された２次電子の検出結果と、ウエハＷ上の電子線の照射位置とを対応付けたデータを取得し、このデータに基づいて、導電部であるべき部位が絶縁部となっている欠陥の有無を検査する。 （もっと読む）

イオンを加速し、同時に分散イオン源における電界を弱く維持し、それによって分解能を向上させるために、イオン・ビーム・システムが、抵抗管などの別個の加速電極を使用する。イオン源として磁気光学トラップを使用することができる。
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【課題】相対位置が固定された二段のコンデンサレンズから収束レンズが構成される場合に、各コンデンサレンズと対物レンズのそれぞれの中心に電子ビームの光軸が通るように軸合わせを行うことを可能とする。
【解決手段】それぞれ焦点調整が可能な二段の収束レンズ３１、３２と電子銃１との間に入口側ビーム偏向部２を、収束レンズ３１、３２と対物アパーチャ板５との間に出口側ビーム偏向部４を配置する。各ビーム偏向部２、４はそれぞれ軸Ｃ方向に配置された二段の偏向器からなる。収束レンズ３１、３２のレンズ中心が軸Ｃ上にない場合でも、入口側ビーム偏向部２でビームを二段階に偏向させることで両収束レンズ３１、３２のレンズ中心に光軸を合わせることができ、さらに、出口側ビーム偏向部４でビームを二段階に偏向させることで対物レンズ７の中心に光軸を合わせることができる。 （もっと読む）

【課題】粒子ビームのビーム電流の正確な調整を良好に行い、粒子ビームのモジュールとは無関係のビーム経路を限定する絞りユニットおよび絞りユニットを備える粒子ビーム装置を提案する。
【解決手段】粒子ビーム装置は、粒子を生成する粒子ビーム発生器（２）と、試料（１６）に粒子ビームを集束する対物レンズ（１０）と、第１コンデンサレンズ（６，６ａ，６ｂ，６ｃ）および第２コンデンサレンズ（７，７ａ，７ｂ，７ｃ）と、粒子ビーム発生器（２）と第１コンデンサレンズとの間に配置した第１絞りユニット（８）と、第１コンデンサレンズと第２コンデンサレンズとの間に配置した第２絞りユニット（９）とを備える。第１コンデンサレンズ（６）は、相互に無関係に第２絞りユニットに対して調整可能な第１極および第２極片（６ａ，６ｂ）を備え、第２絞りユニットは、第１圧力を有する真空の第１領域と、第２圧力を有する真空の第２領域とを相互に分離する圧力段階絞りである。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子線照射装置の電子線安定化方法及び装置に関し、フィールドエミッション形電子銃を用いた場合でも照射電流を安定化することができる電子線照射装置の電子線安定化方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電流を検出可能な絞りを複数用意し、これら複数の絞りの絞り検出電流と、対応する電子線照射電流との関係をテーブルとしてメモリ２１に記憶させておいて、電子線照射電流が小さい領域では、前記複数の絞り検出電流を加算したものを絞り検出電流とし、電子線照射電流が大きい領域では、前記複数の絞りのうち、特定の絞りの検出電流をそれぞれ検出電流として用いて、電子線照射電流のフィードバック制御を行なうように構成する。 （もっと読む）

【課題】ガスクラスターイオンビーム処理システムにおいて、空間電荷現象や試料帯電の低減および照射電流量の測定精度を改善する。
【解決手段】通気型ファラデーカップ３０２は、ガスクラスタイオンビーム１２８を受領する表面を有した導電性衝撃プレート３０８と、該衝撃プレート３０８を包囲し、その前方で延びてカップ形状を提供し、間隔を開けて配置された複数の同軸導電リング電極を含んだ通気型容器と、該衝撃プレート３０８によって回収された電流を電流測定システム３５８に導く導電手段と、を含んで構成されており、前記導電リング電極は少なくとも２体のリング電極で成る少なくとも３群で構成されて電気的に接続されており、それぞれの群は独立的にバイアスされており、本カップ内外への不都合な荷電粒子漏出を防止する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、種々の要因で対物レンズの光軸等に、ビームが斜めに入射されたときに生ずる諸問題を解決する荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子線の走査領域を試料上で移動する第１の偏向器に対し、第２の偏向器によって、荷電粒子線の第１の偏向器に対する入射位置を調整し、第１の偏向器は、前記入射位置の調整が行われた荷電粒子線を、対物レンズの光軸に沿って前記試料に入射するように偏向する方法、及び装置を提案する。当該方法、及び装置によれば、荷電粒子線を対物レンズの光軸に沿って適正に試料に入射することが可能となる。 （もっと読む）