説明

国際特許分類[H01J37/04]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | 放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの (7,637) | 細部 (4,344) | 電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置 (2,068)

国際特許分類[H01J37/04]の下位に属する分類

国際特許分類[H01J37/04]に分類される特許

51 - 60 / 226


冷却式荷電粒子源及び方法を開示する。いくつかの実施形態では、荷電粒子源を、固体窒素等の固体クライオジェンに熱結合する。熱結合は、荷電粒子源を所望の低温で維持するための良好な熱伝導率を提供するよう設計することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は荷電粒子ビーム描画方法及び装置に関し、可変ビームの断面のエッジにおけるビーム電流密度と、露光量裕度とを露光量決定に反映させ、被描画材料に形成されたレジストパターンの線幅線形性を向上させることを目的としている。
【解決手段】成形偏向器12によりビーム断面寸法を変化させながら、電流検出部17でビーム電流を測定し、ビーム電流とビーム断面積とからビーム電流密度分布を求め、ビーム電流密度分布に基づいて、ビーム断面寸法ごとにビーム断面のエッジにおけるビーム電流密度を決めるように構成する。 (もっと読む)


【課題】 オペレータによる目視に基づく操作を行うことなく、自動的に、初期設定した大きさの断面の電子ビームを蒸発材料表面上に照射することが出来るようにする。
【解決手段】 蒸発材料3を収容した坩堝4と基板6が設けられたチャンバー1、及び、電子銃7、集束レンズ8、9、走査コイル11が設けられた鏡筒2を備えており、温度検出器18が取り付けられたアパーチャ10を集束レンズ8による電子ビーム集束位置の近傍に配置し、温度検出器18からのアパーチャ温度信号値を基準値と比較し、その差分を制御装置13に送る演算回路19を設け、制御装置13からの指令により集束レンズ8の集束作用をコントロールする様に成している。 (もっと読む)


【目的】電子銃及び高圧電源回路の異常を検知することが可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置100は、電子ビーム200を放出する電子銃201と、電子銃201に電子の加速電圧を印加する高圧電源回路110と、高圧電源回路110内に配置され、電子銃201のエミッタ抵抗の変動を検知するエミッタ抵抗変動検知回路54と、高圧電源回路110内に配置され、検知されたエミッタ抵抗の変動を記録する記録回路80と、電子銃201から放出される電子ビーム200を試料の所望する位置に照射する電子光学系と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の状態が変化した場合、高精度かつ高速に光軸調整を可能とする荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】試料に荷電粒子線を照射し、該試料から発生する二次信号から画像を生成する荷電粒子線装置として、荷電粒子線を試料へ集束させる電磁界重畳レンズと、荷電粒子線を試料に対して減速させるリターディング電極と、記試料から発生する二次信号を検出器へ引上げるブースティング電極と、荷電粒子線の光軸調整を、リターディング電極に印加する電圧の可変制御による調整とブースティング電極に印加する電圧の可変制御による調整のいずれかを選択的に実行するコンピュータとを搭載するものを提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ビーム条件が変化するごとにエネルギー幅や分解能等を測定することなく、これらのパラメータを容易に把握することが可能な電子顕微鏡の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、電子銃と、当該電子銃から放出される電子の条件を調整する調整素子と、当該調整素子条件を設定する設定装置を備えた電子顕微鏡において、前記設定装置によって設定される調整素子条件に対する前記電子銃から放出される電子のエネルギー幅、或いは分解能に関する情報、或いは前記調整素子条件と前記エネルギー幅、或いは分解能との関連式を記憶する記憶媒体と、前記設定装置による前記調整素子条件の設定に基づいて、前記記憶された、或いは前記関連式に基づいて演算されるエネルギー幅、或いは分解能に関する情報を表示する表示装置を備えたことを特徴とする電子顕微鏡を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は透過型電子顕微鏡のアライメント装置に関し、高精度でかつ自動的にアライメントを行なうことができる透過型電子顕微鏡のアライメント装置を提供することを目的としている。
【解決手段】透過型電子顕微鏡において、透過電子線が蛍光板14に投影された場合、その像を取り込む像取得装置16と、該像取得装置16を回転させる回転手段と、前記像取得装置の回転を制御する回転制御手段と、像取得装置16で得た像信号を記憶する記憶手段21と、該記憶手段21に記憶された像情報を演算処理する演算手段20とを有し、自動でアライメントを行なう際、前記像取得装置16を予め決められた回転角に回転させることにより、アライメント偏向器の移動方向と像の移動方向を一致させ、得られた像を取得・演算処理し、全てのアライメント偏向器の適切な設定値を自動で算出するように構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は冷陰極電子銃の自動入射軸合わせ方法に関し、電子ビームのアノード電極A2に対する入射軸を自動で最適化することができる冷陰極電子銃の自動入射軸合わせ方法を提供することを目的としている。
【解決手段】集束レンズ群と、対物レンズ群と、中間レンズ群と、投影レンズ群と、1個以上の対物絞りを備え、電子銃の第1のアノード電極A1及び第2のアノード電極A2に電界を印加することによってエミッタから電子ビームを発生させる冷陰極電子銃を備え、該電子銃のアノード電極A2に対する機械的位置を調整するためのモータを備えた透過型電子顕微鏡において、前記モータを駆動して電子銃を機械的に走査させ、環状のアノード電極A2の開口に対する電子ビームの入射軸を調整し、アノード電極A2の開口を通過する電流量が最大となる時の前記電子銃の最適な機械的位置を自動的に取得するように構成する。 (もっと読む)


【課題】描画中の電流密度分布の自動調整が可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム描画方法は、荷電粒子銃より荷電粒子ビームを照射し、荷電粒子ビームを第1のアパーチャで第1の成形を行い、第1の成形がなされた荷電粒子ビームを、第2のアパーチャのエッジのいずれかに所定の面積がかかるように照射することにより第2の成形を行い、第2の成形がなされた荷電粒子ビームの電流値を測定し、第2の成形および電流値の測定を、複数のエッジについて同様に行うことにより得られた各電流値より、荷電粒子ビームの中心位置のズレ情報を取得し、ズレ情報に基づき、アライメント調整を行う。 (もっと読む)


【課題】本発明は、人為的な判断基準を定量化し、当該定量化された判断基準に基づいて、荷電粒子線の軸調整の要否判断を行う荷電粒子線の光軸調整方法、及び装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、荷電粒子線を調節する光学素子の調整条件を変化させ、当該異なる調整条件にて複数の画像を取得し、取得された複数の画像の中から、その画質を許容できる画像、或いは許容できない画像を選択し、選択された画像に基づいて第1の画質評価値を取得し、当該取得された第1の画質評価値と、前記荷電粒子ビームの走査によって得られる画像から求められる第2の画質評価値とを比較し、当該第2の画質評価値が、第1の画質評価値以下、或いは当該第1の画質評価値を下回ったときに、光軸調整を行う方法、及び装置を提案する。 (もっと読む)


51 - 60 / 226