【課題】高速かつ頻繁なビーム電流測定を提供することが可能である荷電粒子ビーム装置及び方法を提供する。
【解決手段】 荷電粒子ビーム装置が記載されている。荷電粒子ビーム装置は、１次荷電粒子ビームを放射するために適合したエミッタと、２次および／または後方散乱荷電粒子が１次荷電粒子ビームの衝突時に放出される試料を保持するために適合した試料場所と、２次粒子および／または２次粒子を検出するために適合した検出ユニットと、１次荷電粒子ビームを検出ユニットに衝突させるため１次荷電粒子ビームを検出ユニットへガイドするために適合したビームガイドユニットとを含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、ガス電界電離イオン源の安定性向上に関する。
【解決手段】
本発明は、ＧＦＩＳにおいて、引き出し電極の孔の孔径を少なくとも２種類の値に可変にすること、あるいは、該エミッタ先端から該引き出し電極までの距離を少なくとも２種類の値に可変とすることに関する。また、本発明は、ＧＦＩＳにおいて、固体窒素を利用して冷却することに関する。本発明によると、引き出し電極の孔に対する大角度放出イオンの通過と差動排気の観点からの孔の小径化が両立できる。また、冷却手段の機械振動が低減できる。その結果、高安定なＧＦＩＳとこれを搭載した走査荷電粒子顕微鏡を提供できる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲でかつ適切に加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置は、ワークの加工を行うためのビームを出射するビーム出射源３と、ビーム出射源３から出射されたビームが通過するビーム通過路８を有する真空チャンバー４と、ビーム通過路８に連通しビーム通過路８を通過したビームが通過する通過空間２０およびワークに向けてビームを出射する出射孔１７ａを有する局所真空チャンバー９と、ワークに照射されるビームの焦点を調整するために出射孔１７ａの下方に配置される被照射部材３５を有する焦点調整手段７とを備えている。このビーム加工装置１は、ビームを用いて真空チャンバー４および局所真空チャンバー９の外部の大気圧中に少なくとも一部が配置されるワークの加工を行う。 （もっと読む）

【課題】試料に対してビームを傾斜しても分解能低下の少ない荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】複数のレンズ６，７に対して一次ビーム４の軌道を軸外に通し、その軸外軌道を制御することにより、ビーム傾斜時に対物レンズ７で発生する収差を他のレンズ６の収差でキャンセルする手段を備え、対物レンズを含む複数のレンズの励磁を同時に変調する手段を設けた。 （もっと読む）

【課題】自動チップ形成を備える帯電粒子源を提供する。
【解決手段】帯電粒子デバイスは、エミッタチップ１３を含むエミッタユニットと、エミッタチップに安定な引出電界を生成するための定電圧を供給するように構成された電圧供給ユニット２２２と、安定引出電界に加えてパルス引出電界を生成するためのパルス電圧を供給するように構成されたパルス電圧供給部品２２４と、エミッタ特性を測定するための測定ユニット１４２、１４２’、１４２”と、測定ユニットから信号を受け取るように構成され、かつパルス電圧供給部品を制御するように構成された制御ユニット１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】特にアライメント補正用のパターンを備えた試料でなくても、自動的にアライメント補正が行える場合にはアライメント補正を自動的に行えるようにする。
【解決手段】電子線装置の補正に際して、対物レンズの励磁状態に対応した複数のパターン像データを取得するパターン像データ取得ステップ（ＳＴ１１）と、観察領域のシフト量を求めるシフト量取得ステップとパターン像データが前記観察領域でレンズアライメントの補正に適しているかを判定する補正適否判定ステップ（ＳＴ１３，１６）と、前記シフト量取得ステップで求めたシフト量に基づいてレンズアライメント補正を実行する必要があるかどうかを判定する補正実行判定ステップと（ＳＴ１８）、前記シフト量からアライメント補正量を求める補正量算出ステップ（ＳＴ１９）と、前記アライメント補正量に基づいてアライメント補正を行うアライメント補正ステップ（ＳＴ２０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、永久磁石により構成されるコンデンサレンズを使用した走査電子顕微鏡において、プローブ電流の大きさを可変できる走査電子顕微鏡を提供することを目的とする。
【解決手段】上記目的を解決するために、本発明の一実施態様は、コンデンサレンズが永久磁石により構成されている走査電子顕微鏡において、電子源とアノード電極との間の距離を可変可能とする機構を設けたことを特徴とする。さらに、電子源とアノード電極との間の距離を可変可能とする機構は、アノード電極の下部にスペーサを挿入可能な構成としたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子ビーム描画装置のビーム電流検出方法に関し、オンライン動作させながら、電子ビームの電流密度を測定することができるようにした電子ビーム描画装置のビーム電流測定方法を提供することを目的としている。
【解決手段】第１のスリットと第２のスリットを組み合わせることで、任意の形状の電子ビームを作り、その電子ビームを描画材料１２上に照射して所定のパターンを描画するようにした電子ビーム描画装置のビーム電流測定方法であって、第２のスリットを電子ビームが開口部を通過しないようにして、第２のスリットを流れる電流Ｉａを求め、次に第２のスリットの部分で電子ビームの一部が開口部を通過するようにして第２のスリットを流れる電流Ｉｂを求め、前記電流ＩａとＩｂの差分に基づいて材料面上の電流密度を測定するように構成する。 （もっと読む）

【課題】 試料の局所的な帯電電位計測機能を備えた荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】 ミラー状態におかれた試料に対して一次荷電粒子ビームを走査して、画像を取得する。取得画像は、試料の画像であるまたは荷電粒子光学系の構成部品の画像であるとを問わない。得られた画像と標準試料の画像とを比較して、局所的な帯電電位を計測する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、試料側の状態に由来する調整誤差を抑制し得る軸調整，非点補正法、及びこれを実現するためのＳＥＭの提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するための第１の態様では、標準サンプル上での自動軸調整結果と観察対象となるサンプル上での自動軸調整結果の最適値の差を求め、標準サンプル上で調整を行った最適値を補正する。上記目的を達成するための第２の態様では、標準サンプルにて最適なスティグマ値（非点補正信号）を取得し、その値をデフォルト設定値として記憶させ、観察対象サンプルのパターン高さに応じて、デフォルト値を重畳し、当該デフォルト値が重畳されたスティグマ値に基づいて、非点補正を行う。 （もっと読む）