国際特許分類[H01J37/04]の内容

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【課題】
Langmuir制限を越える高輝度が確実に得られる荷電流子線装置を得る事及びその様な装置の設計方法を確立する事。
【解決手段】
荷電粒子線源、荷電粒子引出し電極、及び荷電粒子制御電極を有する荷電粒子線装置で、Langmuir制限を越える高輝度を得るため、荷電粒子線源から放出されるビームを初段レンズの拡大率を調整することで、Langmuir limit をこえる最適輝度のビームにする。高輝度の利点は、2段以降のレンズでクロスオーバを縮小し、試料面にその縮小像を形成すれば保持出来る。
荷電流子線装置の設計は最適輝度をあらかじめ算出し、その輝度が得られるよう、初段レンズの拡大率を調整する。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】本発明は、上記目的を達成するために、光学素子に対して軸調整を行うアライメント偏向器を備えた荷電粒子線装置において、前記光学素子の条件を少なくとも2つに変化する手段と、前記アライメント偏向器の条件を少なくとも2つの状態に変化させたときに、それぞれのアライメント偏向条件にて、前記設定手段によって前記光学素子の条件を変化させたときに得られる2つの画像内のパターン間のずれを検出する手段と、前記少なくとも2つのずれと、前記アライメント偏向器の偏向条件との関係に基づいて、前記アライメント偏向器を調整する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】 荷電粒子線の特性の計測精度の点で有利な照射装置を提供する。
【解決手段】 複数の荷電粒子線を物体に照射する照射装置は、複数の開口を有する遮蔽板と、前記複数の開口をそれぞれ通過した複数の荷電粒子線をそれぞれ検出する複数の検出器とを含み、前記複数の荷電粒子線の強度を計測する計測器と、前記複数の荷電粒子線がそれぞれ前記複数の開口のエッジを横切るように前記複数の荷電粒子線と前記計測器との間の相対的な走査を行う走査手段と、前記走査手段と前記計測器とを制御して前記複数の荷電粒子線それぞれの特性を求める制御部と、を備える。前記走査の期間において、前記複数の荷電粒子線の前記遮蔽板によって遮断されるエネルギーが時間とともに変動しないように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 描画に使用する荷電粒子線の強度を計測する精度の点で有利な描画装置を提供する。
【解決手段】 荷電粒子線のパルスで基板に描画を行う描画装置は、入射した荷電粒子線に応じた電流を出力する検出器と、入射した前記パルスに応じた前記検出器の出力電流で充電されるキャパシタを含み、前記キャパシタの電圧値を検出し、前記キャパシタの容量値および前記電圧値に基づいて前記検出器に入射した前記パルスの強度を求める処理部と、を有する。前記処理部は、抵抗を含み、入射した荷電粒子線に応じた前記検出器の出力電流を前記抵抗での電圧降下を介して検出し、該検出に基づいて決定された電流値を有する電流を前記キャパシタに供給して前記キャパシタの電圧値を検出し、該電圧値と前記キャパシタに供給された前記電流の前記電流値とに基づいて、前記容量値を求める。 (もっと読む)


【課題】 ビームモニタを構成するビーム検出器の不良をチェックする不良チェック方法を提供する。
【解決手段】 ビームモニタ10をイオンビーム2の経路に入れてそれにイオンビーム2が入射している状態で、まず最初に、複数のビーム検出器12の内の任意の1個のビーム検出器12によってイオンビーム2のビーム電流を測定してそのビーム電流値を記憶手段に記憶し、その後、ビームモニタ10をX方向にビーム検出器12の間隔ずつ移動させて、最初の測定と同じ位置において、複数のビーム検出器12の内の残りのビーム検出器12によってイオンビーム2のビーム電流を順次測定してそのビーム電流値を記憶手段にそれぞれ記憶し、その後、記憶したビーム電流値同士をそれぞれ比較して、所定の許容範囲内から外れたビーム電流値があるか否かを判定し、外れたビーム電流値があれば当該外れたビーム電流値を測定したビーム検出器12は不良であると判定する。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の特性の維持に有利な描画装置を提供する。
【解決手段】この荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置は、荷電粒子線源2、40と、荷電粒子線源2、40から放射された荷電粒子線の一部を通過させる開口30が形成された開口部材11と、開口部材11に設けられ、開口部材11の開口30以外の領域に向かう荷電粒子線が入射する複数の熱電変換素子32と、開口部材11に配置されて複数の熱電変換素子32の出力を検出する検出部34と、検出部34の出力に基づいて、荷電粒子線源2、40から放射された荷電粒子線の特性に関する制御を行う制御部6(35)とを有する。 (もっと読む)


【課題】フォーカスのための基板の正確な位置決めの点で有利なマルチ電子線描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子線を基板に対して射出する荷電粒子光学系と、基板を保持し、荷電粒子光学系の光軸の方向と光軸に垂直な方向とにそれぞれ可動なステージ103と、基準反射面を含み、光軸の方向におけるステージの位置を計測する干渉計と、荷電粒子線の特性を計測する計測器201と、補正情報を用いて干渉計の計測結果を補正する制御部と、を備える。制御部は、光軸に垂直な方向におけるステージの複数の位置それぞれに関して干渉計による計測としての第1計測と計測器による計測としての第2計測とを並行して行わせ、複数の位置それぞれに関して得られた第1計測および第2計測の結果に基づいて、補正情報を求める。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線レンズアレイを構成する絶縁体表面が帯電することによって生じる荷電粒子線の収差を補正することが可能な荷電粒子線レンズアレイを提供する。
【解決手段】荷電粒子源から放射された複数の荷電粒子線の光学特性を制御する荷電粒子線レンズアレイは、絶縁体2A、2Bを介して互いに光軸3の方向に離間して支持された複数の電極1A、1B、1Cを有する。電極は荷電粒子線5が通過するための複数の貫通孔4を有する。複数の貫通孔の配置が、2つの並進ベクトルで規定されるそれぞれの基準位置8から、荷電粒子線レンズアレイ内で生じる荷電粒子線の収差を補正する方向にずれている。各貫通孔の基準位置からのずらし量は、基準位置が絶縁体の表面6A、6Bに近い程大きく、絶縁体の表面から遠ざかるに従って小さくなる。 (もっと読む)


【課題】ビームを正確に計測するのに有利なビーム計測装置を提供する。
【解決手段】ビーム計測装置は、エッジを有する遮蔽部材22と、該遮蔽部材22で遮蔽されなかったビーム24を検出する検出器とを含む検出部と、エッジをビーム24が横切るように遮蔽部材22とビーム24との間の相対移動を生じさせる相対移動機構と、制御部とを有する。ここで、制御部は、検出部と相対移動機構とを制御して、エッジ上の複数の箇所それぞれに関し、エッジをビーム24に横切らせて検出器で信号列を得、複数の箇所でそれぞれ得られた複数の信号列から、相対移動における相対位置が対応する信号どうしを加算して、加算信号列を得、加算信号列からビーム24の強度分布を求める。 (もっと読む)


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