【課題】 電界放出型電子源の寿命を延長するために、拡散補給源であるジルコニアの容積あるいは、重量を増すと、拡散補給源自体やタングステン針にダメージを与えやすくなるという課題がある。更なる課題として、上記課題を避けるために拡散補給源を薄膜で形成することも考えられるが、８，０００時間を越える実用的な寿命を安定して得ることは困難である。
【解決手段】 拡散補給源の欠けや割れがなく、少量の拡散補給源の増量で寿命を延長可能な電界放出型電子源を提供し、８，０００時間を越える実用的な寿命を安定して得ることを明らかにした。 （もっと読む）

【課題】低コストのパルス電子ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】パルス電圧が印加される一次コイル、及び、この一次コイルとコアを共有する二次コイルを備え、樹脂モールドされ、大気側に設置された高圧パルス電圧発生部と、前記高圧パルス電圧発生部の前記二次コイルに電気的に接続されたエミッターと、前記エミッターから電子ビームを引き出すアノードと、前記エミッターと前記アノードとの間に位置し、前記エミッターに電気的に接続されるとともに前記エミッターから引き出した電子ビームを収束するウエネルトと、前記エミッター、前記ウエネルト、及び、前記アノードを真空状態の内部に収容する真空容器と、を備えたことを特徴とするパルス電子ビーム発生装置。 （もっと読む）

【課題】構造物にイオン照射によるダメージを与えずに、また、ボンバード処理の効率を向上させることにより、生産工程の短縮およびメンテナンス時間を短縮させることができる。
【解決手段】電子線発生部に対向して配置された引出電極と前記電子線発生部との間の第一の電位差により前記電子線発生部から放出された電子線が、前記引出電極を通過し、前記引出電極からみて前記電子線発生部とは反対側に配置された加速電極と前記引出電極との間に前記電子線に対する負の第二の電位差を形成し、前記引出電極から前記加速電極側に放出される電子線を前記引出電極側に引き戻し、当該引き戻された電子線により前記引出電極の加速電極対向面に吸着したガス分子を除去する電子銃の脱ガス方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】電子銃における引出電極に設けた絞りで発生する二次電子の量を減らして、フレアの発生を抑制することにある。
【解決手段】電子銃における最も電子源１に近い引出電極５の絞り７Ａに炭素など二次電子放出率の小さい薄膜をコーティングすると、二次電子の発生量を減少させることができる。フレアの発生原因である引出電極で発生する二次電子が減少するので、結果的にフレアが減少する。また、引出電極５に２枚の絞り７Ａ，７Ｂを組み込み、この２枚の絞りに引出電極と等電位となる電位を与えることで、引出電極の下部から上部へ染み出す電界をなくすことができる。この結果、電子ビームが引出電極に衝突したときに発生する二次電子は引出電極から通過する方向の力をうけなくなり、結果的にフレアが減少する。 （もっと読む）

【課題】ＭＣＰを支持する絶縁支持部に紫外線が照射された場合に生じる放電を防止する。
【解決手段】電子線照射装置は、紫外線を出射する紫外線出射部３１、電子を増幅する複数のマイクロチャネルを２次元的に配列して有するＭＣＰ３３、ＭＣＰ３３の外縁部に当接してＭＣＰ３３を支持する絶縁支持部３４、および、紫外線出射部３１とＭＣＰ３３との間における紫外線の経路上に配置されるマスク３５０を支持するマスク支持部３５を有する。マスク支持部３５は、マスク３５０の周囲における紫外線を遮蔽する環状部３５２を有することにより、マスク支持部３５にマスク３５０が非装着の状態において、紫外線出射部３１からの紫外線が照射されるＭＣＰ３３上の照射領域が、絶縁支持部３４に重ならない範囲に制限される。これにより、絶縁支持部３４に紫外線が照射された場合に生じる放電が、マスク３５０の有無にかかわらず防止される。 （もっと読む）

【課題】冷電極を用いてシート状のビームを発生させることのできる、シート状ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】平板型電極１と、接地電極７と、平板型電極１と接地電極７との間に電圧を印加する電源３と、平板型電極１と接地電極７が収容される真空容器４と、真空容器４の外部に設けられ平板型電極１から発生する粒子ビームを誘導する磁場を発生させる磁場発生コイル６とを備えた。平板型電極１の表面に粒子ビームを発生させるための粒子ビーム発生部２を形成した。粒子ビーム発生部２は略均一の粗さを有する。 （もっと読む）

【課題】簡便にパルス光を整形することができるパルス整形装置、パルス整形方法、及びそれを用いた電子銃を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかるパルス整形装置は、パルス光の直交する偏光成分間に時間遅延を与える複屈折素子１２３と、複屈折素子１２３からのパルス光のパルス形状を調整する可変ミラー４０と、複屈折素子１２３から出射したパルス光の直交する偏光成分の一方を他方の偏光成分から取り出すＰＢＳ１２５と、可変ミラー４０によりパルス形状を調整するために、ＰＢＳ１２５によって取り出された一方の偏光成分に応じた測定を行うビームモニタ５５と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】放出電流が安定で低雑音の電子顕微鏡用の冷陰極電界放出型電子源を提供する。
【解決手段】冷陰極電界放出型エミッタ先端５０３の後方に配置された開口５５４を有するエミッタ包囲電極５５２と、引出電極５０８とにより閉空間を形成し、閉空間の内部に配置された円形フィラメント５３０を加熱する事により放出される電子５２０による衝撃と熱的励起により、引出電極５０８とエミッタ包囲電極５５２の吸着物質５２２、５２６を離脱させ、ギャップ５６０より排気し除去する。 （もっと読む）

【課題】冷陰極装置の真空容器内の真空度を高めるため、容器内の真空排気時に冷陰極から吸着ガスを追い出すためにその冷陰極を昇温させることを実現できる冷陰極装置を提供する。
【解決手段】電圧の印加により電子を放出する冷陰極３と、冷陰極３を加熱するフィラメント４と、冷陰極３を支持する導電性を有した支持軸６と、冷陰極３、ヒータ４及び支持軸６を包囲する真空容器であるガラス管２と、ガラス管２の外部に出ておりフィラメント４につながっているヒータ端子７ａ，７ｂと、ガラス管２の外部に出ており支持軸６につながっている支持体端子７ｃとを有した冷陰極装置１である。ヒータ端子７ａ，７ｂと支持体端子７ｃとは互いに電気的に独立しており、それらに独自に所望の電圧を正確に印加できる。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、集束イオン・ビーム（ＦＩＢ）システムなどの集束粒子ビーム・システム用の荷電粒子源を提供すること。
【解決手段】この源は、荷電粒子システムの軸を中心とすることができる小さな領域内にある独立してアドレス指定可能な多数の放出器を使用する。１つのチップから放出させ、または２つ以上のチップから同時に放出させることを可能にするため、これらの放出器は全て、個別に制御することができる。１つの放出器だけが活動化されるモードは高輝度に対応し、複数の放出器が同時に活動化されるモードは、高い角強度およびより低い輝度を提供する。単一の放出器を逐次的に使用することによって源の寿命を延ばすことができる。全ての放出器に対する機械／電気組合せアラインメント手順が記載される。 （もっと読む）