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国際特許分類[H01J37/08]の内容

国際特許分類[H01J37/08]に分類される特許

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【課題】FIB動作用のイオン・モードまたはSEM動作用の電子モードで動作するユーザが選択可能な構成を有する単一カラム誘導結合プラズマ源を提供すること。
【解決手段】X線検出器が装着されていれば、エネルギー分散型のX線分光分析が可能である。ユーザは、イオン・モードまたはFIBモードで試料を調製するようにICPを選択的に構成し、次いで電子モードまたはSEMモードを選択するスイッチを実際に動かし、EDSまたは他のタイプの分析を使用して試料を分析することができる。 (もっと読む)


【課題】熱による厚み方向への変形を防止する引き出し電極を備えたイオンミリング装置を提供する。
【解決手段】加速電極20aに形成され加速電極20aの取り付け位置を位置決めする基準穴25aと、加速電極20aに形成され加速電極20aの取り付け位置を案内する案内穴26aと、電極取り付け板に立設された基準穴25aと係合する加速電極保持軸40と、電極取り付け板に立設された案内穴26aと係合する加速電極案内軸41と、基準穴25aおよび案内穴26aの周囲を加速電極20aの厚み方向に押圧する圧縮コイルバネと、を有し、案内穴26aは基準穴25aの中心と加速電極20aの中心を結ぶ直線上に設けられ、直線に沿って長穴形状に形成されている。 (もっと読む)


【課題】効率的にイオンミリング加工を行えるイオンミリング装置を提供する。
【解決手段】プラズマを生成するプラズマ生成室10と、プラズマ生成室10に連通する処理室40と、プラズマ生成室10から処理室40へイオンビームを引き出す複数の引き出し電極20,21,22と、複数の引き出し電極20,21,22から選択された一つの引き出し電極をプラズマ生成室10の開口部18に移動させるスライドテーブル30と、を備える。 (もっと読む)


【課題】
Langmuir制限を越える高輝度が確実に得られる荷電流子線装置を得る事及びその様な装置の設計方法を確立する事。
【解決手段】
荷電粒子線源、荷電粒子引出し電極、及び荷電粒子制御電極を有する荷電粒子線装置で、Langmuir制限を越える高輝度を得るため、荷電粒子線源から放出されるビームを初段レンズの拡大率を調整することで、Langmuir limit をこえる最適輝度のビームにする。高輝度の利点は、2段以降のレンズでクロスオーバを縮小し、試料面にその縮小像を形成すれば保持出来る。
荷電流子線装置の設計は最適輝度をあらかじめ算出し、その輝度が得られるよう、初段レンズの拡大率を調整する。 (もっと読む)


【課題】イオン電流量の低下を抑えつつ、原料ガスの使用量を低減させることが可能なイオン注入装置及びイオン注入方法を提供する。
【解決手段】イオン注入装置10は、イオンビ−ムを引き出すイオン源12と、半導体基板30(ターゲット)にイオン注入を行う注入室20と、注入室20へガスを導入するガス導入部11を備えている。そして、注入室20へ導入されるガスは、原料ガスと不活性ガスとの混合ガスであり、原料ガスのみを注入室20へ導入したときのイオン電流量が最大となる流量をXaとしたときに、混合ガスの総流量が0.7Xa以上、且つ、原料ガスの流量が0.4Xa以上(原料ガスがBFを主体として構成される場合は、原料ガスの流量が0.3Xa以上)となるように設定されている。 (もっと読む)


【課題】
複数枚のスリット電極を有するイオン源において、電流量と制御性のバランスの取れたイオンビームの引出しを行う。
【解決手段】
この発明のイオン源1は、引出し電極系として複数枚のスリット電極7〜10を有するイオン源1である。そして、スリット電極7〜10は、開口部15を有する電極枠体14と開口部15内に並設された複数本の電極棒16とから構成されているとともに、イオン源1より発生されるイオンビーム2の進行方向に沿って最も上流側に位置するスリット電極5を構成する電極棒16において、隣り合う電極棒16間に形成されるスリット状開口部17の形状がイオンビーム3の進行方向に沿って略テーパー状となるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング装置を提供する。
【解決手段】 引出し電極系10の相対向する二つの電極11、12間にクリーニングガス48を供給して当該電極間のガス圧をグロー放電を発生させるガス圧に保つクリーニングガス源42等の手段と、両電極11、12間に直流電圧を印加してグロー放電80を発生させるグロー放電電源60とを備えている。かつ、所定時間内の電極11、12間の異常放電の発生回数Nを測定する異常放電測定器84と、それで測定した異常放電の発生回数Nを用いてグロー放電電源60の出力電流Ig を所定幅ずつ増減させる制御を行う電源制御器86とを備えている。 (もっと読む)


【課題】電界の染み出し量を小さくして、イオン源より所望するイオンビームの引出しを容易に行うことのできるイオンビーム引出し用電極とこれを備えたイオン源を提供する。
【解決手段】イオン引出し用電極1は、中央に開口部3を有する電極枠体2と、開口部3内に少なくとも一方の端部が移動可能に支持されて、一方向に沿って互いに隙間を開けて並べられた複数のイオン引出し孔形成部材7とを有している。そして、イオン引出し孔形成部材7の少なくとも一つは、略棒状の本体部5と本体部5から延設された渡り部6とを有する構造体であって、1つのイオン引出し孔形成部材7を構成する渡り部6は隣りに配置された別のイオン引出し孔形成部材7に当接している。また、イオン源の構成としては、内部に陰極を備えたプラズマ容器に隣接して、上記のイオン引出し用電極1を少なくとも1枚以上備えている。 (もっと読む)


【課題】ビームを形成する目的に対して望ましい小さなエネルギー幅を得るために、荷電粒子ビーム・システム内でのプラズマとの容量結合を低減させる。
【解決手段】集束荷電粒子ビーム・システム用の誘導結合プラズマ源200は、プラズマとの容量結合を低減させるため、プラズマ室102内に導電性シールド202を含む。この内部導電性シールドは、バイアス電極106またはプラズマ104によってプラズマ源と実質的に同じ電位に維持される。この内部シールドは、プラズマ室の外側においてより幅広いさまざまな冷却方法を使用することを可能にする。 (もっと読む)


【課題】ガス電界電離イオン源を用いて試料へのダメージが小さく、かつ、効率よく微細加工を行うこと。
【解決手段】イオンビーム1を放出するエミッタ41と、エミッタ41を収容するイオン源室40と、イオン源室40に窒素を供給するガス供給部46と、窒素をイオン化し、窒素イオンを引き出す電圧を印加するための引出電極49と、エミッタ41を冷却する温度制御部34と、を有するガス電界電離イオン源を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 (もっと読む)


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