【課題】
マルチビーム型の荷電粒子線応用装置において、試料の特性に応じて試料表面における電界や電圧を変更すると、試料表面における複数の一次ビーム、検出器上における複数の二次ビームの配置が変化する。
【解決手段】
試料の特性に応じて試料表面における電界や、試料に印加する電圧などの検査条件等の動作条件の変更に対応し、試料表面における一次ビーム110を理想的な配置に調整するため、キャリブレーションを行う。試料表面における一次ビーム110の配置を、画像表示部136に表示した、ステージ117上の基準マーク116の画像として取得する。この画像から、基準マーク116の理想状態からのずれ量を計測し、一次電子光学系108他の調整によって補正する。同様に、複数の二次ビームが二次ビーム検出器121に照射される位置を、二次ビーム検出器121の出力を用いて調整して、キャリブレーションを行う。 （もっと読む）

透過型電子顕微鏡を提供する。透過型電子顕微鏡は、顕微鏡の電子光軸上のターゲット本体位置と、顕微鏡の軸外の導電性本体とを有する。顕微鏡はまた、軸方向電子ビームを生成するための電子源を有する。使用中に、ビームは、ターゲット本体位置に位置するターゲット本体上に衝突する。顕微鏡は、更に、別の軸外電子ビームを同時に生成するためのシステムを有する。使用中に、軸外電子ビームは、導電性本体に衝突してそこから２次電子を放出させる。導電性本体は、放出２次電子がターゲット本体上に衝突し、ターゲット本体上に蓄積する可能性がある正電荷を中和するように配置される。 （もっと読む）

【課題】 高性能透過型電子顕微鏡において、アクチュエータに圧電素子を用いたシャッタ装置の駆動による機械的振動をより減少させる。
【解決手段】 圧電素子２６ａと２６ｂに正電圧が印加されると圧電素子２６ａと２６ｂは固定部材２７の中心方向に曲がる。圧電素子２６ａの曲がりによって生じる力点２３ａの微小移動はテコ体２３により拡大され、シャッタ板２５に伝達されて電子線通過孔２２を覆う。圧電素子２６ａが変形するとき、圧電素子２６ｂは圧電素子２６ａと反対向きに変形し圧電素子２６ａと逆位相の振動を発生させるので、固定部材２７上でシャッタ板２５の駆動により発生する振動を打ち消すことができる。 （もっと読む）

【課題】
二次粒子を所望のエネルギー領域でバンドパス弁別し，なおかつ高収量で検出できる走査電子顕微鏡を提供することを課題とする。
【解決手段】
対物レンズ１８より電子源側にレンズ２３を設け，このレンズより電子銃側で一次電子線がいかなる光学系を形成していた場合でも，一次電子線を特定の位置である収束点２４に収束させるように動作させる。一次電子線の収束点２４には，試料２から発生する二次粒子の軌道に作用する場を供給する検出部用ExB１６を設け，特定のエネルギー範囲の二次粒子のみを検出部１３に導く。二次粒子の軌道に作用する場が供給される位置が一次電子線１９の収束点であるため，一次電子線１９の収差を拡大させずに所望のエネルギーの二次粒子のみを検出部に導くこと，更にはエネルギーのバンドパス弁別を効果的に行うことが可能になり，観察目的に応じた信号電子を弁別して検出することができる。 （もっと読む）

【課題】
電子顕微鏡の電子光学系毎の機差補正を複雑にすることなく行う。
【解決手段】
電子銃１１０から放出された電子線を集束するためのコンデンサレンズ１１１と、不要な領域を除去する絞り孔１５２と、サンプル１４１上に微小スポットとして照射する対物レンズ１１５と、サンプルから発生した信号を検出する検出器１３０と、信号増幅変換器２３０と、信号を記憶する記憶部２６１と、記憶された信号を表示する表示部２６２と、を備えた電子顕微鏡において、複数の絞り孔１５２が形成された絞り板１５０と、絞り板１５０を移動する対物絞り可動ユニット２５０と、を備え、複数の絞り孔１５１から１５３のうちいずれかを選択可能とした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低エネルギーの反射電子も検出することができ、反射電子と２次電子を別々に、かつ同時に検出することができる走査形電子顕微鏡を提供することを目的としている。
【解決手段】電子源１と、該電子源１から発生した１次電子ビーム２を観察試料５上に集束する対物レンズ４と、前記電子源１と対物レンズ４との間に配置された少なくとも１つの集束レンズ３と、前記１次電子ビーム２をＸＹ方向に２次元走査しながら観察試料表面に照射するための走査偏向器とを有する走査形電子顕微鏡において、前記集束レンズ３は、対物レンズ４との間に１次電子ビームが１回クロスオーバを有するように動作し、かつクロスオーバ位置ないしクロスオーバ位置より観察試料５側に、第１の荷電粒子検出器１１を備え、かつ前記クロスオーバ位置より電子源側に第２の荷電粒子検出器１２を備えて成される。 （もっと読む）

電子顕微鏡システム３及びイオンビーム加工システム７を備える粒子光学装置であって、電子顕微鏡システムの対物レンズを備え、この対物レンズは、被検査対象物の位置１１に最も近い位置に配置されている、電子顕微鏡システムの構成要素としての環状電極を有する。この環状電極と、イオンビーム加工システム７の主軸９との間には、シールド電極８１が配置されている。
（もっと読む）

【課題】荷電粒子露光装置を提供する。
【解決手段】粒子ビーム投影処理装置において、投影システム（１０３）を使用して、ターゲットステージによって位置保持されたターゲット（４１）に、パターン決定手段（１０２）で提供されたパターンを撮像するために、ターゲット（４１）が、高エネルギー荷電粒子のビーム（ｐｂ）によって照射され、ターゲット自体以外の要素は、投影システムの光学素子の後方のビームの経路を遮断しない。ターゲット空間から投影システムへの汚染を低減するために、保護隔壁（１５）が、投影システムとターゲットステージとの間に設けられ、パターン化されたビームの経路を囲む中央開口部を有し、この場合、少なくとも、中央開口部を規定する隔壁の部分は投影システム（１０３）の後方のフィールドフリースペース内に配置される。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム描画装置において、試料ステージの案内および駆動機構に永久磁石を用いた場合における上記永久磁石からの漏洩磁場により電子ビーム軌道が影響を受けるのを防止すること。
【解決手段】
試料ステージ１６の案内機構にエアベアリングガイド等を用い、定盤１８上に浮上したステージ１６を永久磁石１７で定盤１８側に引き付けてステージ姿勢を保持する。永久磁石１７からの漏洩磁場が試料７上への電子ビーム４の照射位置に影響を及ぼすのを避けるために、永久磁石１７をシールド部材２１で磁気シールドする。また、電子レンズ５からの漏洩磁場中をシールド部材２１が移動することによって生じる試料７上方での磁場変動を小さく抑えるために電子レンズの下方にもシールド部材２２を設ける。 （もっと読む）

【課題】絞り装置の交換や洗浄を必要とせず、絞り装置のカーボン等のコンタミネーションを除去することができるようにする。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置の内部に設けられた絞り装置に付着するカーボン等のコンタミネーションを除去するために、絞り装置にフッ素化合物系ガスを注ぐ。それにより、絞り装置に付着したコンタミネーションを除去する。 （もっと読む）