【課題】電子銃における引出電極に設けた絞りで発生する二次電子の量を減らして、フレアの発生を抑制することにある。
【解決手段】電子銃における最も電子源１に近い引出電極５の絞り７Ａに炭素など二次電子放出率の小さい薄膜をコーティングすると、二次電子の発生量を減少させることができる。フレアの発生原因である引出電極で発生する二次電子が減少するので、結果的にフレアが減少する。また、引出電極５に２枚の絞り７Ａ，７Ｂを組み込み、この２枚の絞りに引出電極と等電位となる電位を与えることで、引出電極の下部から上部へ染み出す電界をなくすことができる。この結果、電子ビームが引出電極に衝突したときに発生する二次電子は引出電極から通過する方向の力をうけなくなり、結果的にフレアが減少する。 （もっと読む）

【課題】 本願の目的は、ゲッタポンプを用いて荷電粒子源周辺を排気する構成において、荷電粒子源駆動中の排気性能の低下を抑制する。
【解決手段】 荷電粒子線の成形を行うアパーチャであって、前記アパーチャは表面に非蒸発型ゲッタポンプを有し、前記非蒸発型ゲッタポンプが前記荷電粒子線の照射を受ける位置に設置される。 （もっと読む）

【課題】リボン状のイオンビームの長辺方向におけるビーム電流密度分布を電界レンズにより調整する場合に、従来の電界レンズで発生していたイオンビームの長辺方向における伸縮作用を低減させる。
【解決手段】このイオン注入装置は、リボン状のイオンビーム２の長さ方向におけるビーム電流密度分布の計測結果に応じて、イオンビーム２の長辺方向における少なくとも一部を略短辺方向に向けて偏向させる偏向電極５と偏向されたイオンビーム２を部分的に遮蔽する遮蔽部材６を備えている。また、偏向電極５はイオンビーム２の短辺方向からイオンビーム２を挟んで対向配置された１枚の平板電極１１と電極群１２で構成されている。そして、平板電極１１は電気的に接地されているとともに、電極群１２を構成する複数の電極１３〜１７は互いに電気的に独立していて、各電極には電位設定を行う為の複数の電源Ｖ１〜Ｖ５が個別に接続されている。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、試料ホルダーが有する固有振動を少しでも緩和するゴニオステージを提供することにある。
【解決手段】
本発明のゴニオステージは、試料ホルダーの固有振動を低減するための制振手段を有することを特徴とする。本発明のゴニオステージの好ましい実施態様において、前記制振手段が、コレット機構によるものであることを特徴とする。本発明のゴニオステージの好ましい実施態様において、前記コレット機構が、前記試料ホルダーの軸重心位置で前記試料ホルダーをクランプすることを特徴とする。また、本発明の電子顕微鏡は、本発明のゴニオステージを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来構造に比して少ない使用量のシールド材により、高い磁気シールド効果を実現する。
【解決手段】カラム軸方向に又は同心円上に、カラム及び若しくは電子レンズの一部全周に亘り配置される、又は、カラム及び若しくは電子レンズの一部外壁の全周に沿って配置される、透磁率の高い方向がカラム軸の方向とは異なる異方性構造を設ける。 （もっと読む）

【課題】鏡筒自身の重量を増加させることなく、鏡筒を高剛性化し、鏡筒へ作用する振動を低減させる荷電粒子装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子装置は、筒形の鏡筒と、該鏡筒の内部に設けられた荷電粒子線光学系と、該鏡筒に設けられた試料ステージと、前記鏡筒を支持する支持装置と、を有し、前記支持装置は、前記鏡筒の軸線方向に沿って設定された複数の支持点にて前記鏡筒を単純支持する単純支持構造を有し、前記鏡筒の支持点は、前記鏡筒を両端が自由端である梁と看做したときの梁の振動の節の位置に対応する位置に設けられている。 （もっと読む）

【課題】位相差像におけるアーティファクトを低減することが可能な位相板を提供する。
【解決手段】位相板１００は、第１面１０ａと、第１面１０ａとは反対側の第２面１０ｂと、を有する第１電極層１０と、第２面１０ｂと対向する第３面１２ａと、第３面１２ａとは反対側の第４面１２ｂと、を有する第２電極層１２と、第４面１２ｂと対向する第５面１４ａと、第５面１４ａとは反対側の第６面１４ｂと、を有する第３電極層１４と、少なくとも第１電極層１０の第１面１０ａに形成された被覆層２０と、を含み、第１電極層１０、第２電極層１２、および第３電極層１４は、透過波W１の上流側から第１電極層１０、第２電極層１２、第３電極層１４の順に配置され、貫通孔２を有する積層体として形成され、被覆層２０の材質は、タンタル、タングステン、レニウム、またはモリブデンである。 （もっと読む）

【課題】本発明の一つの実施形態の目的は、ダミーウェハを使用することなく、ウェハが装着されない装着部の劣化を防止可能なイオン注入装置およびイオン注入方法を提供すること。
【解決手段】実施形態によれば、イオン注入装置が提供される。イオン注入装置は、イオン注入部と、複数の装着部と、傾斜機構とを備える。イオン注入部は、ウェハへイオンビームを照射して該ウェハへイオンを注入する。装着部は、ウェハをそれぞれ装着可能に構成され、前記イオンビームが照射される照射領域へ順次移動する。傾斜機構は、ウェハが装着されない前記装着部を前記イオンビームが照射されない位置まで傾斜させる。 （もっと読む）

【課題】検査精度を向上させ、５〜３０ｎｍのデザインルールにも適用できる検査方法及び検査装置を提供すること。
【解決手段】本発明の検査装置は、荷電粒子又は電磁波の何れか一つをビームとして発生させるビーム発生手段と、ワーキングチャンバ内に保持した検査対象に前記ビームを導き照射する１次光学系と、可動式のニューメリカルアパーチャ、および前記検査対象から発生して当該ニューメリカルアパーチャを通過した二次荷電粒子を検出する第１検出器を有する２次光学系と、前記第１検出器によって検出された二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系と、前記可動式のニューメリカルアパーチャと前記第１検出器の間に設けられ、前記検査対象から発生する二次荷電粒子のクロスオーバ位置における位置及び形状を検出する第２検出器とを備える。 （もっと読む）

【課題】最近のナノテクノロジー技術の進展に伴う透過電子顕微鏡に対する新たなニーズにおいて、例えば電子線の平行性を維持したまま数ｎｍ領域に照射して、同サイズの物体の精密な構造解析や三次元可視化像の構築法が提案されているが、そのためには、孔径が１μｍ程度の超微小孔絞りが必要であり、このような超微小孔保有の絞り用プレート板を実現することを目的とする。
【解決手段】イオンビーム加工を用いた製造技術により、電子線を遮蔽するために要求される１００μｍ程度の厚みを有する金属板７に対して、多段の円筒形状の空洞からなる孔１１の加工を施し、目的の超微小の孔を逆方向から加工することにより得て、直径１μｍ程度の超微小孔径を有する顕微鏡用絞りプレート板とその製造方法を提供する。 （もっと読む）