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国際特許分類[H01J37/09]の内容

国際特許分類[H01J37/09]に分類される特許

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【課題】検査精度を向上させ、5〜30nmのデザインルールにも適用できる検査方法及び検査装置を提供すること。
【解決手段】本発明の検査装置は、荷電粒子又は電磁波の何れか一つをビームとして発生させるビーム発生手段と、ワーキングチャンバ内に保持した検査対象に前記ビームを導き照射する1次光学系と、可動式のニューメリカルアパーチャ、および前記検査対象から発生して当該ニューメリカルアパーチャを通過した二次荷電粒子を検出する第1検出器を有する2次光学系と、前記第1検出器によって検出された二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系と、前記可動式のニューメリカルアパーチャと前記第1検出器の間に設けられ、前記検査対象から発生する二次荷電粒子のクロスオーバ位置における位置及び形状を検出する第2検出器とを備える。 (もっと読む)


【課題】最近のナノテクノロジー技術の進展に伴う透過電子顕微鏡に対する新たなニーズにおいて、例えば電子線の平行性を維持したまま数nm領域に照射して、同サイズの物体の精密な構造解析や三次元可視化像の構築法が提案されているが、そのためには、孔径が1μm程度の超微小孔絞りが必要であり、このような超微小孔保有の絞り用プレート板を実現することを目的とする。
【解決手段】イオンビーム加工を用いた製造技術により、電子線を遮蔽するために要求される100μm程度の厚みを有する金属板7に対して、多段の円筒形状の空洞からなる孔11の加工を施し、目的の超微小の孔を逆方向から加工することにより得て、直径1μm程度の超微小孔径を有する顕微鏡用絞りプレート板とその製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】一次電子ビームのエネルギー幅を低減し、低電圧SEMの解像度を改善するモノクロメーターを実現する。
【解決手段】光軸Zに添って、標準エネルギー及びエネルギー偏差を有する荷電粒子ビームを偏向させるための第1の分散ユニット200、第2の分散ユニット400、それらの中間面310に配置されたエネルギー制限アパーチャ300及び荷電粒子ビームの焦点を調整するためのビーム調整素子100を備えるモノクロメーター500を形成し、荷電粒子ビームの仮想的なクロスオーバーS6を第1の分散ユニット200とエネルギー制限アパーチャ300との間に形成する。 (もっと読む)


【課題】 複数の荷電粒子線の間の不均一性の補償に有利な描画装置を提供すること。
【解決手段】 照射系(140)と、アパーチャアレイ(117)と、複数のクロスオーバーを形成するレンズアレイ(119)と、複数の開口を備えた素子(122)と複数の投影ユニットとを含む投影系(170)と、を有する。レンズアレイ(119)は、上記複数のクロスオーバーのそれぞれの位置が上記素子における対応する開口に整合するように、該開口に対して偏心している集束レンズを含む補正レンズアレイ(162)と、上記複数のクロスオーバーを形成するように、補正レンズアレイにより形成された複数のクロスオーバーをそれぞれ拡大して結像する拡大レンズアレイ(163)と、を含む。 (もっと読む)


【課題】活性種の生成量を多くしてアパーチャの側面のクリーニングを可能にしつつチャンバ内の圧力の上昇を抑える。
【解決手段】クリーニングユニット200は、第1個数よりも少ない第2個数の放出孔を有する放出孔プレート202を含む容器203と、前記容器の中で活性種を発生する活性種源と、前記容器を移動させる駆動機構220とを含み、前記チャンバ115の中に配置された前記容器の内部空間の圧力と前記容器の外部空間の圧力との差によって前記活性種が前記第2個数の放出孔から放出され、前記駆動機構は、前記第1個数よりも少ない前記第2個数の放出孔から放出される活性種によって前記第1個数のアパーチャのすべてがクリーニングされるように、前記電子光学系に前記放出孔プレートが対面した状態で前記容器を移動させる。 (もっと読む)


【課題】低コストで高精度かつ高分解能の荷電粒子ビーム用収束光学系を提供する。
【解決手段】ビーム軌道を輪帯状に制限し、電磁界をそのビーム軌道軸の中心方向に集中させる分布を作る。その結果、電子レンズの球面収差に代表される外側で大きな非線形の作用を打ち消す。具体的には、軸上に電極を置き電圧を印加すれば、容易に電界集中が発生する。また、磁界の場合は、回転方向に角度等分割した面に径方向に分布巻きしたコイルを形成すれば、磁束密度の集中を制御することができる。 (もっと読む)


【課題】複数のイオン源から所望のイオン種を色収差なく選別する集束イオンビーム装置用の質量フィルタを提供する。
【解決手段】イオン源114により生成された複数のイオン110は、上部レンズ106により略平行なビーム310となり質量フィルタ304に入射する。質量フィルタ304は、互いの中心軸がオフセットされた上部EXBフィルタ306Uおよび下部EXBフィルタ306Lより構成され、ビーム310を質量毎に分離偏向した後、光軸380に平行な軌道として出射する。この際、上部EXBフィルタ306Uにより生じる色収差は下部EXBフィルタ306Lにより打ち消される。その後、質量分離アパーチャ342により所望のイオン332のみを通過させ下部レンズ108により基板112上に集束する。 (もっと読む)


【課題】絞り孔の形状が安定し、絞りの寸法精度が保たれた電子顕微鏡に用いる絞り装置を提供する。
【解決手段】シリコン基板上に、前記シリコン基板側から順にシリコン酸化膜、自立薄膜が積層された構造であり、前記自立薄膜は前記シリコン酸化膜よりもヤング率が大きく、かつ引張応力を有することを特徴とする電子顕微鏡に用いる絞り装置。また、シリコン基板上に、前記シリコン基板側から順にシリコン酸化膜、シリコン膜が積層されたSOI基板からなり、前記シリコン基板及び前記シリコン酸化膜の一部は切欠かれており、前記シリコン膜は前記シリコン酸化膜に支持されていない領域において前記シリコン基板側に露出面を有し、前記シリコン基板及び前記シリコン酸化膜に支持されていない前記シリコン膜の厚さが0.2μm以上50μm以下であることを特徴とする電子顕微鏡に用いる絞り装置。 (もっと読む)


【課題】試料室空間に突き出た対物レンズを有する構造であっても、磁気シールド機能を高めることが可能な電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子線を収束させて試料4に照射する対物レンズ6と、試料4を収納する試料室を形成する試料室容器5と、試料室容器5の内部に設けられた試料室磁気シールド7と、対物レンズ6の周囲を囲む筒形の対物レンズ磁気シールド8とを備える。試料室容器5の上部壁となる上板10と試料室磁気シールド7の上部シールド9には、電子線の進行方向で対向する第1、第2の穴が設けられる。対物レンズ6は、上板10に設けられた第1の穴の内側で保持される。対物レンズ6の下端は、上板10の下端よりも低い位置に、かつ上部シールド9に設けられた第2の穴の位置またはこの位置に接近した位置に配置される。対物レンズ磁気シールド8は、第1の穴の内側に位置して、その下端が上部シールド9と接続される。 (もっと読む)


【課題】試料の実像だけでなく、電子回折像も観察することができる光電子顕微鏡を提供すること。
【解決手段】光源からの光を試料に照射することにより前記試料から放出される光電子を対物レンズを介して結像し、拡大像を得る光電子顕微鏡において、前記対物レンズに、2以上の電極を備えさせ、2以上の前記電極を、前記光が2つの電極間を通るように設置する。このような構成をした光電子顕微鏡は、試料の実像だけでなく、電子回折像も観察することができる。 (もっと読む)


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