【課題】電子顕微鏡装置の所望の結像解像度を維持しながら、一度に形成される一次電子ビームスポットの数や、密度を高める。
【解決手段】荷電粒子源と、ビーム経路中に配置された多孔プレートとを備えた粒子光学装置である。前記多孔プレートは、所定の第１のアレイパターン状に形成された複数の開孔を有し、下流側で前記荷電粒子ビームから複数の荷電粒子小ビームが形成され、前記複数の小ビームにより、第２のアレイパターン状に配置された複数のビームスポットが前記粒子光学装置の像平面に形成される。前記粒子光学装置は、前記荷電粒子ビーム及び／又は前記複数の小ビームを操作するための粒子光学素子をさらに備える。前記第１のアレイパターンは、第１の方向に第１のパターン規則性を有し、前記第２のアレイパターンは、前記第１の方向に電子光学的に対応する第２の方向に第２のパターン規則性を有し、前記第１のパターン規則性よりも高い。 （もっと読む）

【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ１と、チップ１にガスを供給するイオン源用ガスノズル２とイオン源用ガス供給源３からなるガス供給部と、チップ１との間で電圧を印加し、チップ１の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極４と、イオンを試料１３に向けて加速させるカソード電極５からなるイオン銃部１９を備え、イオン銃部１９とレンズ系の間に配置された第二のアパーチャ１０と、試料１３にイオンビーム１１を集束させる集束レンズ電極６と対物レンズ電極８からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ１と、チップ１にガスを供給するイオン源用ガスノズル２とイオン源用ガス供給源３からなるガス供給部と、チップ１との間で電圧を印加し、チップ１の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極４と、イオンを試料１３に向けて加速させるカソード電極５からなるイオン銃部１９を備え、イオン銃部１９より試料１３側に位置し、イオン銃部１９から放出されたイオンビーム１１の照射方向を調整するガンアライメント電極９と、試料１３にイオンビーム１１を集束させる集束レンズ電極６と対物レンズ電極８からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

透過型電子顕微鏡は、電子ビームを生成する電子ビーム源(20)を有する。前記電子ビームを収束させるようにビーム光学系が供されている。収差補正装置(90)は、少なくとも球面収差について前記電子ビームを補正する。前記電子ビームのビーム路中に試料(40)を保持する試料ホルダが供される。検出器(80)は、前記試料を透過する前記電子ビームを検出するのに用いられる。当該透過型電子顕微鏡は、前記電子ビームのゼロ次ビームが検出されない暗視野モードで動作する。当該透過型電子顕微鏡はまた、インコヒーレントな照射モードで動作することもできる。
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【課題】 電子顕微鏡の性能や取扱性を阻害することなく作業台や観察台を兼用し得るテーブル面を備えたコンパクトなシールドカバー付きの電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 電子顕微鏡であって、鏡筒部２００の下方に配置される凹部空間部３５０と、架台筐体１００に形成される凹状の下肢空間部３６０とを有し、前記凹部空間部３５０と下肢空間部３６０との間には中央が凹状に切り欠かれ、その両側が前方に張り出したテーブル面３８０を備えるようにする。 （もっと読む）

【課題】ウェハなどの試料の欠陥を検出する検査速度を向上させる。
【解決手段】電子ビームを検査試料に照射する一次電子光学系と、ウェハから放出された二次ビームを検出器に入射する二次光学系と、検出器と、検出器を制御するための制御装置とを備えた、電子線検査装置において、電子線検査装置は、一次コラム、二次コラムおよびチャンバーを有し、一次コラムには、電子銃、一次電子光学系が配置されており、チャンバーには、ステージが設置され、その上に試料が載置されており、二次コラムには、光軸上に、カソードレンズ、ニューメニカルアパーチャ、ウィーンフィルタ、第２レンズ、フィールドアパーチャ、第３レンズ、第４レンズおよび検出器が配置されており、開口部が電子ビームの集束位置およびカソードレンズの焦点位置になるように配置されて、カソードレンズと前記ニューメニカルアパーチャとは、テレセントリックな電子光学系を構成している。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子顕微鏡の可動絞り位置制御方法及び装置に関し、絞りを移動させる場合に直感的な操作を行なうことができるようにした電子顕微鏡の可動絞り位置制御方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子顕微鏡の可動絞りの位置を制御する装置であって、絞りの移動方向を指定する操作部１０と、該操作部１０からの指定に基づいて絞りの移動方向の補正制御を行なうＣＰＵ１２と、絞りの移動方向データと絞りの移動方向に対する位置ずれを補正するための補正データが記憶された光学系条件テーブル１１よりなり、前記ＣＰＵ１２は前記操作部１０からの移動方向の指定に応じて前記光学系条件テーブル１１を参照して、可動絞り１４の位置が前記操作部１０で指定した移動方向になるように補正演算を行ない、該補正演算の結果の駆動データで可動絞り用モータ１３を駆動するように構成する。 （もっと読む）

【課題】電子レンズの球面収差による制約を受けることなく高散乱角の散乱電子を検出し、深さ分解能を向上させることができる透過型電子顕微鏡及び試料観察方法を提供する。
【解決手段】試料５に電子線２を照射する電子銃１と、試料５を透過して散乱する散乱電子を検出する電子検出器１３と、この電子検出器１３と試料５との間に位置し試料５からの散乱電子の通過範囲の内径及び外径を制限するリング状のスリットを有する第１の検出側環状絞り１５と、この第１の検出側環状絞り１５と電子検出器１３との間に位置し第１の検出側環状絞り１５を通過した散乱電子の通過範囲の内径及び外径をさらに制限するリング状のスリットを有する第２の検出側環状絞り１６とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

一実施形態は、基板の欠陥検査及び／又は点検、或いは基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置に関する。この装置は、電子銃及び電子柱を含む。電子銃は電子源及び調整可能なビーム制限開口部を含み、電子源は、電子ビーム用の電子を発生させるように構成されており、調整可能なビーム制限開口部は、多様な開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用するように構成されている。別の実施形態は、装置に電子ビームを供給することに関する。高感度と高処理能力の両方を得るように大きいビーム電流を維持しながら、本開示の装置及び方法はスポットのぼやけを有利に低減する。 （もっと読む）

【課題】誘導結合プラズマ・イオン源を使用した集束イオン・ビーム（ＦＩＢ）システムにおいてミリングおよび画像化を実行する方法を提供すること。
【解決手段】本方法では、ＦＩＢシステムをミリング・モードで動作させるための最適化されたパラメータを表す第１のセットと、画像化モードで動作させるための最適化されたパラメータを表す第２のセットの２つのＦＩＢシステム動作パラメータ・セットが利用される。これらの動作パラメータは、ＩＣＰ源内のガス圧、ＩＣＰ源へのＲＦ電力およびイオン抽出電圧を含むことができ、いくつかの実施形態では、レンズ電圧およびビーム画定アパーチャ直径を含むＦＩＢシステム・イオン・カラム内のさまざまなパラメータを含むことができる。最適化されたミリング・プロセスは、基板の表面から材料をバルク（低空間分解能）高速除去する最大ミリング速度を提供する。最適化された画像化プロセスは、ミリング中の基板領域の画像化を改善するため、最小化された材料除去およびより高い空間分解能を提供する。 （もっと読む）