国際特許分類[H01J37/09]の内容

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【課題】改善されたイオンビームにより基板を加工するための方法、及び基板を加工するためのイオンビーム装置を提供する。
【解決手段】本発明は、イオンビーム装置(1) のイオンビーム源(1.1) によって発生し、基板(2) を加工するために基板(2) の表面(2.1) を向いたイオンビーム(I) により基板(2) を加工するための方法に関する。イオンビーム(I) は、炭素含有材料から少なくとも部分的に形成されたオリフィス板(1.3) によって導かれる。本発明によれば、炭素と反応する遊離体(E) が、イオンビーム(I) によってオリフィス板(1.3) から放出された炭素が酸化するように方向性のある流れでオリフィス板(1.3) と基板(2) との間に導かれる。 (もっと読む)


【課題】改良されたビーム画定絞り構造および製作方法を提供すること。
【解決手段】支持基板の空洞の上に配置された薄い導電膜に絞り開口を形成する。絞り開口のサイズおよび形状は、基板によってではなく、導電膜の開口によって決定される。 (もっと読む)


【課題】2重極要素に静電4重極および静電6重極励起が追加された多要素静電シケイン・エネルギー・フィルタを提供すること。
【解決手段】絞りの位置に線焦点を形成することができる2重極、4重極および6重極要素の組合せを備える本発明に基づく荷電粒子エネルギー・フィルタは、空間電荷効果および絞りの損傷を低減させる。好ましい一実施形態は、このフィルタが、共役ブランキング・システムの役目を果たすことを可能にする。このエネルギー・フィルタは、エネルギー幅を狭くし、その結果としてビームをより小さくすることができる。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の軌道の安定化に有利な荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】この荷電粒子線装置は、荷電粒子線を被処理体に導く電子光学系の少なくとも一部を収容する第1の筐体10と、被処理体を保持して移動可能な基板保持部を収容する第2の筐体11と、第1の筐体10と第2の筐体11との接続部分に設けられ、第2の筐体11から第1の筐体10に流れる電流を低減する絶縁体31と、第1および第2の筐体10、11を通じた閉磁路を形成し、かつ、接続部分を介して第1および第2の筐体10、11の外部から内部に向かう電磁波を低減する機構20、30とを備える。 (もっと読む)


【目的】マルチビーム形成アパーチャによって散乱した荷電粒子によるブランキング偏向器アレイへの帯電とコンタミ成長を抑制する装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置100は、荷電粒子ビームを放出する電子銃201と、マルチビームを形成するマルチビーム形成アパーチャ部材203と、マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーが配置されたブランキングプレート204と、マルチビーム形成アパーチャ部材203とブランキングプレート204との間に配置された、電磁レンズ212,214と、電磁レンズ212,214の間であってマルチビームの集束点位置に配置され、集束点から外れた荷電粒子の通過を制限する制限アパーチャ部材216と、複数のブランカーによってビームoffの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する制限アパーチャ部材206と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線装置の制御回路と制御対象機器との間で偏向信号及び検出信号に対するノイズが生じる。一方で、ノイズ対策のために制御回路と制御対象機器とを接続するケーブルを短くすると試料室内部のメンテナンスが困難になる。本発明の目的は、メンテナンス性を損なうことなく、ノイズの影響を低減した高画質の画像が得られる荷電粒子線装置を提供することにある。
【解決手段】荷電粒子線を試料に照射するカラムと、前記カラムの内部の機器を制御する制御ユニットと、前記制御ユニットを移動させる移動機構とを備えることを特徴とする。制御ユニットを荷電粒子線照射による画像取得時にはカラムの近傍に配置し、保守時にはカラムから離れるように移動可能にする。 (もっと読む)


【課題】極小径の貫通孔を有するプレートに1回のプラズマ成膜処理で薄膜を成膜するための成膜処理用治具を提供する。
【解決手段】本発明に係る成膜処理用治具は、貫通孔を有するアパーチャープレート107を挟むことにより前記貫通孔、前記アパーチャープレートの表面及び裏面を露出させた状態で前記アパーチャープレートを保持する保持部材39と、前記保持部材が取り付けられた電極部材と、を具備する成膜処理用治具8であって、前記電極部材は、プラズマCVD装置のプラズマ電力が印加される電極に電気的に接続されるものであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高密度の荷電粒子小ビームを用い、高精度で荷電粒子小ビームを操作することのできる粒子光学システムを提供する。
【解決手段】粒子光学装置であって、荷電粒子ビームを発生させる少なくとも1つの荷電粒子源301と、複数の開孔を有し、その下流側で荷電粒子ビーム309から複数の荷電粒子小ビーム3が形成され、その集束領域に荷電粒子小ビームのそれぞれが焦点323を有する少なくとも1つの多孔プレート313と、荷電粒子小ビームの焦点が形成される多孔プレートの集束領域で視野レンズの効果を有する焦点レンズ装置307と、粒子光学装置の物体面内に位置決め可能な物体上に多孔プレートの集束領域をおおむね結像させるための対物レンズ102とを備える。 (もっと読む)


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