【課題】変形が生じる部材からの所定方向の応力の静電偏向器の電極支持部などへの伝達を抑制し、複数の荷電粒子ビームの偏向ばらつき等を低減することができる荷電粒子光学系を提供する。
【解決手段】荷電粒子光学系は、熱による変形が生じる可能性がある第１の部材１１２と、第１の部材を通過した荷電粒子ビーム１を偏向する静電偏向器１１３と、を含む。静電偏向器は、第１の部材に固定された固定部７を介して第１の部材と組み立てられ、静電偏向器は、電極支持部５と、電極支持部に支持される第一の電極と２第二の電極３を有する。第一及び第二の電極間には、第１の部材を通過した荷電粒子ビーム１を偏向するための電界を発生させるギャップ１１が形成されている。電極支持部５は、第１の部材１１２からの電界方向の変形応力の固定部７を介する電極支持部５への伝達が低減されるように、固定部７に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】スキャン歪や荷電粒子線のランディング角度のばらつきに起因する測長値器差を低減し、荷電粒子線の絶対的な傾斜角度を高精度に測定する。
【解決手段】試料面上に形成されたピラミッドパターン９０のＳＥＭ画像の撮像する際に、スキャン方向及び／又は試料５の搭載向きを、正および逆向きに変えた像を取得し、それぞれの結果を画像間で平均化することにより荷電粒子線の傾斜角度を高精度に測定する。これによりスキャン歪の影響や荷電粒子線のランディング角度のばらつきに起因する測長値器差を低減する。 （もっと読む）

【課題】電子線を走査して試料を観察するにあたって、高い分解能を有するとともに、電子線の走査に要する時間を短くできる試料観察装置を提供する。
【解決手段】ステージに載置された試料ＳＭに電子線ＩＢを照射して、試料ＳＭからの電子線を検出することにより試料を観察する電子線検査装置に於いて、１つの電子筒体５０は、試料ＳＭに照射される複数の電子線ＩＢ及び試料ＳＭからの電子線が通る電子線路を形成する複数の電子線照射検出系により構成される。ここで、複数の電子線照射検出系を同時に用いることで、検査の高速化を実現する。 （もっと読む）

【課題】リボンビームの角度均一性およびドーズ量均一性を向上させる方法を提供する。
【解決手段】リボンビームの均一性向上装置は第一の補正器―バーアセンブリ３０２と、その下流に距離Ｄだけ離れた位置に配置された第二の補正器―バーアセンブリ３０４とから構成される。各補正器は磁心部とその周りに配された複数のコイルを含み、コイルは個々に励起される。リボンビーム３０の各ビームレット３１〜３７は第一の補正器で個々に偏向される。例えば、ビームレット３２は小さな角度θで偏向される。各ビームレットは第二の補正器の位置で空間的に再配置され、ドーズ量均一性を向上できる。さらに、各ビームレットは第二の補正器で偏向されて平行にされる。すなわち角度均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、上記課題に鑑み、広い領域で高精細な加工ピッチを実現し、広い領域を高精度に観察を行うことができる荷電粒子線装置及び加工・観察方法を提供することを目的とする。
【解決手段】偏向量の緻密な高精細スキャンと偏向量の大きなイメージシフトという２種類以上のＦＩＢ偏向制御を同期させ、従来よりも広い領域を高密度でスキャンする。また、ＦＩＢのイメージシフトを用いて加工された位置にＳＥＭのイメージシフトを追従させる。作製した一つの断面に対し複数枚のＳＥＭ像を取得し、それをつなぎ合わせることによって高精細な画像を作成する。本発明により、従来よりも広い領域を高精細スキャンで加工し、高精細な三次元構築用データを取得することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】フレーム周期よりはるかに早い周波数の機械振動や電磁場変動などの外乱ノイズの障害を簡易な方法により抑制する。
【解決手段】２つの走査パターンについて、回転、シフト、或いは重み付け因子を用いて走査位置の調整により、各々がある角度をなすように交差し、複数の交差点群を構成するようにした上で、上記交差点群について、メモリを用いて画像データを重畳積算する。解像度を満たすために交差点以外の座標については内挿／外挿されたデータで埋めることも出来る。前記2つの走査パターンのうちの一の走査パターンに係る線は、前記2つの走査パターンのうちの他の走査パターンに係る線と垂直であることが好ましい。それにより一の走査パターンの1本の線上での複数の走査点の時間的コヒーレンスを利用して、他の走査パターンのラインの位置合わせ及びその逆が可能となる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置の制御回路と制御対象機器との間で偏向信号及び検出信号に対するノイズが生じる。一方で、ノイズ対策のために制御回路と制御対象機器とを接続するケーブルを短くすると試料室内部のメンテナンスが困難になる。本発明の目的は、メンテナンス性を損なうことなく、ノイズの影響を低減した高画質の画像が得られる荷電粒子線装置を提供することにある。
【解決手段】荷電粒子線を試料に照射するカラムと、前記カラムの内部の機器を制御する制御ユニットと、前記制御ユニットを移動させる移動機構とを備えることを特徴とする。制御ユニットを荷電粒子線照射による画像取得時にはカラムの近傍に配置し、保守時にはカラムから離れるように移動可能にする。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】本発明は、上記目的を達成するために、光学素子に対して軸調整を行うアライメント偏向器を備えた荷電粒子線装置において、前記光学素子の条件を少なくとも２つに変化する手段と、前記アライメント偏向器の条件を少なくとも２つの状態に変化させたときに、それぞれのアライメント偏向条件にて、前記設定手段によって前記光学素子の条件を変化させたときに得られる２つの画像内のパターン間のずれを検出する手段と、前記少なくとも２つのずれと、前記アライメント偏向器の偏向条件との関係に基づいて、前記アライメント偏向器を調整する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム方式の描画装置で、異常な荷電粒子線が存在しても描画に有利な技術を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子光学系と制限部と制御部とを備える。荷電粒子光学系は、第１方向に沿って第１ピッチで配置されたｎ以上のＮ本の荷電粒子線を含む行が、第１方向に直交する第２方向に沿って第２ピッチでｍ以上のＭ行存在し、Ｍ行のうち１番目からｍ番目の行は、各行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置が第１ピッチの（１／ｍ）ずつずれ、かつ、（ｍ＋ｉ）番目の行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置がｉ番目の行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置と同じに配列された（Ｍ×Ｎ）本の荷電粒子線を生成する。制御部は、（Ｍ×Ｎ）本の荷電粒子線の中に異常線が存在する場合、該異常線を含まず連続するｎ本の荷電粒子線を含む行が、ｍの約数分の行だけ第２方向に沿って連続して使用できるように、制限部を制御する。 （もっと読む）

【課題】イメージシフトによる電子線のビーム径増大の影響を抑えた高速かつ高精度な試料の観察、測定を行う方法、及び装置を提供する。
【解決手段】電子線が所定の走査幅よりも小さい領域を走査する場合には、試料上の電子線の照射対象位置が、イメージシフトを制御可能な第一の範囲よりも小さな第二の範囲内にあるときにはイメージシフトを用いた視野移動を行い、前記第二の範囲を超えるときにはステージ移動を行う。このような構成によれば、ビーム径の影響を受けない条件下においてステージ移動に対する相対的なイメージシフトによる視野移動量を増大させることができるため、高速かつ高精度に試料の観察、測定を行うことが可能になる。 （もっと読む）