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国際特許分類[H01J37/153]の内容

国際特許分類[H01J37/153]に分類される特許

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【課題】 試料の局所的な帯電電位計測機能を備えた荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】 ミラー状態におかれた試料に対して一次荷電粒子ビームを走査して、画像を取得する。取得画像は、試料の画像であるまたは荷電粒子光学系の構成部品の画像であるとを問わない。得られた画像と標準試料の画像とを比較して、局所的な帯電電位を計測する。 (もっと読む)


【課題】
回転対称系における従来の収差補正システムの問題を解決し、低コストで高精度かつ高分解能の荷電粒子ビーム用収束光学系を提供する。
【解決手段】
荷電粒子線源から発生する荷電粒子ビームのビーム放射軸を回転軸として分割数2より大きい自然数で分割した角度を有する放射状の平面内に、ビーム放射軸に沿って配置されたコイル群を配置し、荷電粒子ビームの入射軸上に重畳磁界を発生させて荷電粒子ビームの軌道を制御する。 (もっと読む)


【課題】負の球面収差を生じさせ、且つ高次の収差を補正する電子顕微鏡用の収差補正装置を提供する。
【解決手段】光軸に対してそれぞれが三回対称場を生じる三段の多極子21、22、23を備え、中段の多極子22は、光軸に垂直な面内において三回対称場を生じさせ、後段の多極子23は、光軸に垂直な面内において三回対称場を生じさせ、どの二段の多極子同士も三回場を打ち消す方向に配置されていないが、三段では三回非点を打ち消すように配置させる。 (もっと読む)


【課題】
組立て精度がよく部品点数、調整箇所が少ない収差補正器とその応用装置を提供すること。
【解決手段】
複数の極子間をセラミック材を介してロウ付け一体化した極子組を複数個、位置決めブロックを使って光軸の周りに配置して多段多極子を形成する。 (もっと読む)


【課題】
荷電粒子線装置において、非点収差調整に用いるパターンまたは試料に依存せず、作業者のスキルに寄らず安定した像質を得ることができる高精度の非点収差補正調整方法を提供する。
【解決手段】
荷電粒子線装置の非点収差補正コイルのX方向とY方向の励磁量を同時に変化させてデジタル画像を取得し、その画像を数値規格化処理を行い、画像の像質を数値化し、その数値を近似処理によってノイズや振動等の影響による誤差成分を除去し、非点収差の少ない非点収差補正量を推定する。 (もっと読む)


【課題】
荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、上記目的を達成するために、荷電粒子源と、当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線を調節する光学素子と、当該光学素子に対して軸調整を行うアライメント偏向器を備えた荷電粒子線装置において、前記光学素子の条件を変化させた際に得られる2つの画像のパターンの重心を検出する手段と、前記2つのパターンの重心のずれを検出する手段と、前記2つのパターンの重心のずれに基づいて、前記アライメント偏向器の偏向量を算出する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。 (もっと読む)


【課題】観察像の歪みを簡単に低減することができる試料観察装置とその補正方法を提供すること。
【解決手段】電磁レンズ系13を透過した電子ビームEBを、補正用パターン101が形成された標準試料Sに当てるステップS1と、標準試料Sに当てられた電子ビームEBをSTEM検出器17で検出することにより、補正用パターン101の観察像を得るステップS2と、電磁レンズ系13に起因して発生した観察像の歪みにより、該補正用パターン101の複数の交点(基準点)Pstが前記観察像においてどの程度位置ずれしたかを算出するステップS3と、上記位置ずれが無くなるように、観察像の画像データD2を補正するステップS4とを有する試料観察装置の補正方法による。 (もっと読む)


【課題】本発明は透過電子顕微鏡の収差補正方法に関し、レンズ緩和によりレンズのヒステリシスの影響を無くして高精度の画像を得ることができるようにした透過電子顕微鏡の収差補正方法を提供することを目的としている。
【解決手段】照射系Csコレクターを搭載した透過電子顕微鏡において、モードをTEM系からSTEM系に変化させた場合に、透過電子顕微鏡を構成するレンズに所定の値を中心として正負にその振幅が漸次減少していくような所定の周波数によるレンズ緩和処理を行なう、ように構成する。 (もっと読む)


【課題】 収差補正にかかる時間を短縮する。
【解決手段】 焦点位置が異なる複数の二次元画像データを検出器20に取得させる補正用画像取得指示部52と、焦点位置が異なる複数の二次元画像データのそれぞれに関して、複数の方向における方向性微分値を求める方向性微分演算部53と、複数の二次元画像データのそれぞれに関する複数の方向における方向性微分値を用いて、予め定められた手法に従って、各収差パラメータを求める収差パラメータ算出部54と、各収差パラメータを用いて、各収差に対する補正値を求める収差補正値算出部55と、補正光学系制御手段に補正値を設定し、収差補正器16により収差補正を実行させる制御部56と、を備ええている。 (もっと読む)


【課題】収差の影響を回避した連続視野像を撮影することができる透過型電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】試料の所定の領域全体の電子線像を得るために、撮像装置の視野において収差の少ない領域を特定し、この領域を単位に試料ステージを移動しながら、前記領域全体を複数の連続する視野像として撮影する。 (もっと読む)


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