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国際特許分類[H01J37/30]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | 放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの (7,637) | 物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管 (1,896)

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【課題】加工物を加工するために使用されるガスクラスターイオンビームを制限するためのビーム制限装置および方法を提供すること。
【解決手段】ビーム制限装置(400、500、600)は、加工物(152)から離れる方向に第1の部材(402)から突出する第2の部材(412)と、第1および第2の部材(402、412)内で画成され、ガスクラスターイオンビームの少なくとも一部分を加工物(152)に送るような形状にされた開口(404)を含む。 (もっと読む)


【課題】電子部品などの大断面加工においても、加工精度を確保しつつ効率良く観察し、加工することが可能な集束イオンビーム装置、及び、試料の加工方法を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置1は、試料Mを載置する試料台2と、イオンビームI1、I2、I3となるイオンを発生させる複数のイオン源24、イオン源24との間に印加された電圧によってイオン源24からイオンビームI1、I2、I3を引き出す引出電極25、及び、引出電極25と複数のイオン源24のそれぞれとの間に独立して電圧を印加可能な電源部とを有するイオンビーム放出手段4と、イオンビーム放出手段4から放出された複数のイオンビームI1、I2、I3を試料M上で集束させることが可能なイオンビーム光学系5とを備える。 (もっと読む)


【課題】収差を軽減して試料に荷電粒子ビームを照射可能であるとともに、試料の表面にガスを導入する場合などでも、放電のおそれ無く荷電粒子ビームを照射することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置1は、荷電粒子ビームIを放出する荷電粒子源9と、荷電粒子ビームIを補正、偏向する補正・偏向手段19、及び、二つの外側電極16a、16bと、外側電極16a、16bに挟み込まれた少なくとも一つの中間電極16cとが、照射方向に配列して構成され、荷電粒子ビームIを集束させて試料Mに照射させる対物レンズ16を有する荷電粒子ビーム光学系11と、荷電粒子ビーム光学系11の対物レンズ16の中間電極16cに、外側電極16a、16bに対して正負いずれかの電位差が生じるように電圧を切り替えて印加することが可能な対物レンズ制御電源36とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、試料のマスク面側と搭載面とが非平行の場合に、平行に加工する必要が無く試料作製を容易に行うことができるイオンミリング装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、平面を有する試料を真空チャンバ内で試料ホルダユニットに固定してイオンビーム照射しミリング加工するイオンミリング装置において、前記試料ホルダユニットは、前記試料を前記イオンビームから遮蔽するマスクに接する前記平面に対してその裏面側の傾斜に沿って固定できる固定構造を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被露光材上に精度良く「抜け勾配」を持った形状を加工することのできるイオンビーム加工方法およびイオンビーム加工装置を提供する。
【解決手段】被露光材Wの材質および厚さd、イオンビームのイオン種ならびにイオンビームエネルギー値に基づいて被露光材におけるイオンの注入角度αを予測し、注入角度と目標注入角度とを比較してこれらが異なるときは注入角度が目標注入角度になるまでイオンビームエネルギー値を増減させて注入角度を予測し、注入角度が目標注入角度になったときのイオンビームエネルギー値により被露光材にイオンビームを照射する。 (もっと読む)


【課題】 電子ビーム加工で使用するためのチャンバ構造を提供する。
【解決手段】 ワークピースの真空電子ビーム溶接用のチャンバ構造100は、チャンバを画定しかつ少なくとも1つのロード/アンロード開口部30を有するチャンバハウジング26と、ロード/アンロード開口部30を囲みかつロード/アンロード開口部30に対して回転軸線を中心に回転可能であるようにチャンバハウジング26に支持されるリング2と、ロード/アンロード開口部30をシールして閉じるためにリング2に接続されかつロード/アンロード開口部30に対してリング2と共に回転可能であるチャンバ閉鎖部3とを備えること特徴とする。 (もっと読む)


【課題】イオンビームのドリフトを早期に視覚的に検出可能な集束イオンビーム装置の実現する。
【解決手段】加工位置決め画像52上に設定した加工領域53に対しイオンビーム8を照射することで試料9を加工していく。加工進捗画像54は偏向制御信号に同期してリアルタイムで表示されるため加工領域53の最表面の情報が常に表示される。加工位置決め画像52には試料9表面上の情報である形状55が表示され、加工進捗画像54には加工領域53の最表面上の情報である形状56が表示されている。加工位置決め画像52の形状55と加工進捗画像54の形状56の位置が互いに一致し意図した領域が加工されていることが判断できる。加工位置決め画像52の形状55と加工進捗画像54の形状56の位置が互いにずれていると意図した領域とは別の領域が加工されていることが判断できる。 (もっと読む)


【課題】電子ビームを高い位置精度で試料の所定の位置に照射して情報を記録することができる電子ビーム記録装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム記録装置10は、電子ビームを用いて試料の表面上に情報を記録するものであって、電子ビームbを放射する電子源と、電子ビームの照射軸線上に進入または退避可能に設けられ、照射軸線上における磁界情報を得る磁気検出器36と、この磁気検出器による磁界情報から、試料の表面に対する電子ビームの収束位置を補正するための補正量を求める収束位置制御部21と、電子ビームの試料表面に対する収束位置を調整する収束位置調整手段78とを有する。さらに、収束位置制御部は、補正量に基づいて、収束位置調整手段に電子ビームの試料表面に対する収束位置を調整させる。 (もっと読む)


【課題】 構成の簡単化、費用の低減化、試料作製時間の短縮化及び目的の試料観察に応じた試料の作製を実現する。
【解決手段】 イオン銃12、イオン銃12から放出されたイオンビームの照射を受ける試料素材11、試料素材11上にイオンビーム非照射面11bとその周囲にイオンビーム照射面11c,11dを形成するために試料素材11上に配置された遮蔽板8を備え、イオン銃12と遮蔽板8との間に、イオンビーム断面径可変器30、イオンビーム断面形状可変器40、試料素材11へのイオンビームの入射角をコントロールするための第1偏向レンズ50と第2偏向レンズ60を配置した。 (もっと読む)


【課題】温度変化によって膨張、収縮したとしても保持している試料の位置を変化させること無く、正確に位置決め、保持することが可能な試料保持機構、及び、この試料保持機構を備えた試料加工・観察装置に提供する。
【解決手段】試料加工・加工観察装置1は、試料保持機構20を備えている。試料保持機構20は、試料Sを保持する試料ホルダ21と、試料ホルダ21を着脱可能に支持するベース22とを備える。これらの間には、回転可能に支持する回転支持部27と、回転中心27aからX方向に向って摺動可能に支持するスライド支持部28と、X方向及びY方向に摺動可能に支持する当接支持部とが、着脱可能に設けられている。上面21aには、回転中心27aからY方向及びX方向に沿って配置され、試料Sの一辺S1及び他辺S2に当接するX方向位置決めピン31及びY方向位置決めピン32が設けられている。 (もっと読む)


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