【課題】ビームを正確に計測するのに有利なビーム計測装置を提供する。
【解決手段】ビーム計測装置は、エッジを有する遮蔽部材２２と、該遮蔽部材２２で遮蔽されなかったビーム２４を検出する検出器とを含む検出部と、エッジをビーム２４が横切るように遮蔽部材２２とビーム２４との間の相対移動を生じさせる相対移動機構と、制御部とを有する。ここで、制御部は、検出部と相対移動機構とを制御して、エッジ上の複数の箇所それぞれに関し、エッジをビーム２４に横切らせて検出器で信号列を得、複数の箇所でそれぞれ得られた複数の信号列から、相対移動における相対位置が対応する信号どうしを加算して、加算信号列を得、加算信号列からビーム２４の強度分布を求める。 （もっと読む）

【課題】照明光の照度均一性を向上できる照明装置、照明方法、露光装置、および電子デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】光入射端面２０ｉｎと、光出射端面２０ｏｕｔを備えたロッドインテグレータと、複数の光束を光入射端面２０ｉｎに入射させる光導入部１０Ａと、を備え、光出射端面２０ｏｕｔから出射した光を照明光として用いる照明装置１Ａであって、光導入部１０Ａは、複数の光束ＬＢ２を、光入射端面２０ｉｎの長手方向の中心が対称中心となるように長手方向に沿った位置に入射させるように設定した。 （もっと読む）

【課題】照明対象を照明する照明光を均一な照度に調整できるようにして、高品質な照明を実現すること。
【解決手段】照明光出射ユニット１１と、照明光導光ユニット３１と、を備える照明装置１０であって、照明光導光ユニットは、ロッドインテグレータ３２が照明光を入射されるように配置されており、照明光出射ユニットは、複数本の照明用分岐レーザ光Ｌｍ１、Ｌｍ２をロッドインテグレータ３２に入射して照明領域の全体を照明するとともに、調整用分岐レーザ光Ｌｓ１をロッドインテグレータ３２に入射して照明用分岐レーザ光Ｌｍ１、Ｌｍ２による照明領域の一部を照明する。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を出力する。
【解決手段】レーザ装置は、それぞれシード光を出力する複数のマスタオシレータと、前記複数のマスタオシレータから出力された複数のシード光を再生増幅し得る再生増幅器と、前記複数のシード光を前記再生増幅器に入射し、且つ、前記複数のシード光のうち少なくとも１つを他のシード光と異なる入射角度で前記再生増幅器に入射する光学系と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 パッシブガスフローシステムを含む第１の方向に移動するコンポーネントを有するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】 パッシブガスフローシステムは、コンポーネントが第１の方向に移動するときにパッシブガスフローシステム内へガスを動かすガス入口と、ガス管路によってガス入口に接続され、パッシブガスフローシステム内へ動かされるガスを方向に誘導するガス出口とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パラメータの変動に対して非常に感度が高く、従って複数のフィーチャを有するターゲット設計を結像するために使用されるリソグラフィプロセスの較正におけるランダムで反復的な測定誤差に対して頑健であるゲージパターンを設計する方法及びシステムに関する。
【解決手段】該方法は、最も感度が高い線幅／ピッチと、最適のアシストフィーチャ配置と、の組合せを識別することを含むことができ、これは波面収差パラメータの変動などのリソグラフィプロセスパラメータの変動に対して最も感度が高いＣＤ（又は他のリソグラフィ応答パラメータ）の変化につながる。該方法は、波面関連の又は他のリソグラフィプロセスのパラメータに対して特定の応答を生成するためにゲージの組合せ応答を調整できるように、複数のテストパターンを有するゲージを設計することも含むことができる。パラメータの変動に対するこの感度は、ランダム測定誤差及び／又は他のいかなる測定誤差に対しても頑健な性能につながる。 （もっと読む）

【課題】泡混入の可能性を少なくとも低減できるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、本流体ハンドリング構造は、液浸流体を入れるよう構成された空間から本流体ハンドリング構造の外部の領域への境界において、空間からの半径方向外向きの液浸流体の通過に抵抗するメニスカス固定特徴部と、線形アレイ状の複数のガス供給開口と、を備える。複数のガス供給開口はひとつ以上のメニスカス固定特徴部を少なくとも部分的に囲み、複数のガス供給開口はメニスカス固定特徴部の半径方向外側に設けられる。線形アレイ状の複数のガス供給開口は、同様のまたは同じサイズを有する。 （もっと読む）

【課題】泡混入の可能性を少なくとも低減できるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、本流体ハンドリング構造は、液浸流体を入れるよう構成された空間から本流体ハンドリング構造の外部の領域への境界において、空間からの半径方向外向きの液浸流体の通過に抵抗するメニスカス固定特徴部と、線形アレイ状の複数のガス供給開口と、線形アレイ状の複数のガス供給開口の半径方向外側に設けられた少なくともひとつのガスリカバリ開口と、を備える。複数のガス供給開口はメニスカス固定特徴部を少なくとも部分的に囲み、複数のガス供給開口はメニスカス固定特徴部の半径方向外側に設けられる。 （もっと読む）

【課題】複数種類のフォトレジスト層がそれぞれ設けられた複数の基板に対して、液浸露光を円滑に行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、記憶装置に記憶された液浸条件の中から基板上の液体接触面に形成される膜部材に最適なものを選択する。 （もっと読む）

【課題】ケイ素含有膜を調製するための方法を提供する。
【解決手段】ケイ素、酸化物そして任意選択で窒素、炭素、水素およびホウ素を含む誘電体膜を形成する方法が提供される。さらに、例えば半導体ウェハーなどの加工対象物の上に誘電体膜またはコーティングを形成するための方法が提供される。 （もっと読む）