国際特許分類［H01L21/027］の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置，他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 半導体装置またはその部品の製造または処理 (125,986) | その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので，グループ２１／１８または２１／３４に分類されないもの (23,597)
国際特許分類［H01L21/027］の下位に属する分類
無機物層からなるもの
国際特許分類［H01L21/027］に分類される特許
23,591 - 23,597 / 23,597
マスク保持装置
半導体ウェハの生産管理方法および半導体ウェハ
パタ―ン形成方法
塗布装置
パターン形成方法
基板の冷却装置
物体を均一加熱する装置
物体（Ｏ）を均一加熱する装置でこの物体（Ｏ）を支持する支持表面（２）と、この支持表面（２）上に配された加熱層（３）とを備える。加熱層（３）は、エネルギー源（４）から受けたエネルギーを少なくとも部分的に吸収し、こうして吸収したエネルギーを支持表面（２）に支持された物体（Ｏ）に少なくとも部分的に発する。また、加熱層（３）は、層（３）が吸収したエネルギーが自己調整式に層（３）の表面沿いに均等に分布するような材料からできている。加熱装置は、簡単でコンパクトな装置を形成し、均一の温度まで物体（Ｏ）を急速に加熱するのに使用される。 （もっと読む）
23,591 - 23,597 / 23,597
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