国際特許分類[H01L21/027]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 半導体装置またはその部品の製造または処理 (125,986) | その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの (23,597)
国際特許分類[H01L21/027]の下位に属する分類
無機物層からなるもの
国際特許分類[H01L21/027]に分類される特許
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ナノインプリントリソグラフィ装置及びナノインプリントリソグラフィ方法
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荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法
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ゾルゲル法を用いた凹凸基板の製造方法、それに用いるゾル溶液、及びそれを用いた有機EL素子の製造方法並びにそれから得られた有機EL素子
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塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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感光性樹脂組成物
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感光性樹脂組成物及びエッチング方法
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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微細パターン形成方法、及びパターン微細化用被覆形成剤
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微細パターン形成方法、及びパターン微細化用被覆形成剤
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カラーフィルタ用青色感光性樹脂組成物及びその使用
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