国際特許分類[H01L21/027]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 半導体装置またはその部品の製造または処理 (125,986) | その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの (23,597)
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無機物層からなるもの
国際特許分類[H01L21/027]に分類される特許
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樹脂部材の製造方法、転写用型及び転写装置
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ローラー式インプリントシステム
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レジスト保護膜材料及びパターン形成方法
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スピンレスコーティング用レジストの製造方法
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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パターン決定方法およびパターン決定装置ならびにプログラム
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ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法
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感光性樹脂組成物の製造方法、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品
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EUVリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法およびEUVリソグラフィ用反射型マスクの製造方法
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導電層付ガラス基板の製造方法及び膜の形成方法
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