国際特許分類［H01L21/30］の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置，他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 半導体装置またはその部品の製造または処理 (125,986) | 少なくとも一つの電位障壁または表面障壁，例．ＰＮ接合，空乏層，キャリア集中層，を有する装置 (97,574) | 不純物，例．ドーピング材料，を含むまたは含まない周期律表第ＩＶ族の元素またはＡ↓Ｉ↓Ｉ↓ＩＢ↓Ｖ化合物から成る半導体本体を有する装置 (83,040) | ２１／２０〜２１／２６に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理 (43,387)
国際特許分類［H01L21/30］の下位に属する分類
半導体本体を別個の部品に細分割するため，例．分離する (3,878)
表面の物理的性質または形状を変換するため，例．エッチング，ポリシング，切断 (21,268)
半導体本体上への絶縁層の形成，例．マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの；これらの層の後処理；これらの層のための材料の選択 (16,787)
半導体本体の内部性質の改変，例．内部不完全性の形成 (657)
半導体本体の性質を改変するための熱処理，例．アニーリング，シンタリング (792)
電流または電界の付加，例．エレクトロフォーミング用 (1)
国際特許分類［H01L21/30］に分類される特許
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改良型フォトレジスト組成物
【目的】 本発明の目的は、化学的に増感されたフォトレジスト組成物を改良することにある。
【構成】 本発明のフォトレジスト組成物は、（i）感光性酸発生体と、（ii）重合体であって、（ア）ヒドロキシスチレンと、（イ）アクリレート、メタクリレート、またはアクリレートとメタクリレートの混合物との反応生成物を含む上記重合体とを含む。
【効果】 本発明によれば、熱安定性が改良され、空気中の汚染物質の影響を受けにくいフォトレジスト組成物が得られる。
（もっと読む）
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