国際特許分類[H01L21/304]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 半導体装置またはその部品の製造または処理 (125,986) | 少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置 (97,574) | 不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置 (83,040) | 21/20〜21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理 (43,387) | 表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断 (21,268) | 機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断 (11,020)
国際特許分類[H01L21/304]に分類される特許
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研削装置
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シリカ系複合粒子およびその製造方法
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ポリッシング装置
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電子デバイス用洗浄液組成物
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半導体装置の製造方法
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ワーク貼着方法およびワーク貼着装置
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窒化物半導体基板の製造方法
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ウエハ加工用粘着シート、該シートを用いた半導体ウエハの加工方法
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CMP用研磨液及びこの研磨液を用いた研磨方法
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剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
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