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国際特許分類[H01L21/673]の内容

国際特許分類[H01L21/673]に分類される特許

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【課題】転写マスクが高い位置精度でマスクホルダーに収容された転写マスク収容体を提供する。
【解決手段】マスクホルダー30は、転写マスク20を収容するための凹状収容部33と、該凹状収容部33に形成された内部面34とを有する。転写マスク20は、開口パターン3が形成された薄膜2と、前記薄膜2を支持する、シリコンからなる支持枠1とを有し、前記薄膜2の端部5には、開口パターン3の形成と同時にエッチング加工された、マスクホルダー30内における転写マスクの移動を規制するガイド面が形成されている。転写マスクのガイド面が、マスクホルダーの凹状収容部33に形成された内部面34と対向して、マスクホルダー30に収容されている。 (もっと読む)


【課題】耐発塵性、耐熱性、非帯電性、フラット製などを改善し、半導体の搬送に適したトレーを、安価に提供すること。
【解決手段】 半導体デバイスを含む面実装電子部品をその製造工程または検査工程に搬送するために使用される面実装電子部品の搬送用トレーであって、導電性および〔100〕℃以上の耐熱性の少なくとも何れかの特性を具備する材料からなるプレート部と、当該プレート部の少なくとも一方の面上にリブ状に設けられ、各面実装電子部品を収容する複数の空間を区画する樹脂製の仕切り部とからなり、当該プレート部と仕切り部とが一体化されている面実装電子部品の搬送用トレーとする。 (もっと読む)


【課題】フォトマスクへの塵の付着を抑制しつつ、フォトマスク表面に付着した有機化合物を除去可能なマスクケースを提供する。
【解決手段】内部空間にフォトマスクが収納されるケースである。前記フォトマスクに対向する底面に真空紫外光透過部(5)を有し、前記内部空間と連通したガス流入孔(7)およびガス流出孔(8)が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】平面ディスプレイ装置用基板の引き入れまたは引き出し方向を選択的に変更できる基板搭載用カセットを提供すること。
【解決手段】上下に離隔して配置される上部フレームと下部フレーム及び内側に基板を支持する複数の第1支持バーが形成されて、上部フレームと下部フレームの両側に垂直方向に配置されるサイドフレームによってボックスを形成し、内側に基板を収納するカセット本体と、内側に基板を支持する複数の第2支持バーが形成されて、上部フレームと下部フレームの前方または後方に垂直方向に配置されるセンターフレームと、該センターフレームとカセット本体との間に設けられて、センターフレームをカセット本体に脱着可能に接続する接続部材と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】吸着力を高めたプラズマ処理用トレイ及びこのようなトレイを備えたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマ処理用トレイ10は、化合物半導体から成る被処理基板を、静電気力を用いて載置部に静電吸着させてプラズマ処理するプラズマ処理装置10において用いられるものであり、体積抵抗率が107〜1013Ω・cmのトレイからなる。トレイは導電材料を分散させた窒化アルミニウム材料から成ることが好ましい。通常の窒化アルミニウムの体積抵抗率は1014Ω・cm程度であり、本発明のトレイは、通常の窒化アルミニウム等に炭化チタンや炭素繊維等の導電材料を含有させることで得ることができる。この場合、導電材料の含有量を調整することにより、窒化アルミニウム材料の体積抵抗率を調整することができる。 (もっと読む)


【課題】ウエハの運搬時、容器中でウエハとウエハ保護シートとが接触によるウエハ保護シートの有機物のウエハへの転写を防止したウエハ保護シートを提供する。
【解決手段】ウエハ保護シート1は、厚さ80〜130μmの合成樹脂製シートの表裏面にそれぞれ、凸部および凹部が数多く賦形されたシートであり、前記多数の凸部と前記多数の凹部はそれぞれ、その各部が格子縞の交点に位置するようにかつ各々交互に配置され、また表面の凸部には裏面の凹部が、表面の凹部には裏面の凸部がそれぞれ対応するような波状断面を有し、そしてシートの剛軟度が60〜120mmであるウエハ保護シートにおいて、前記合成樹脂製シートが直鎖状低密度ポリエチレン樹脂を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウエハーを安全且つ容易に収納、運搬、取り出しができ、搬送時の振動や衝撃から保護し破損を防止することができる半導体ウエハーの収納容器を提供する。
【解決手段】 容器部本体と蓋部からなる半導体ウエハーの収納容器であって、容器部本体が半導体ウエハーと当接する底面と該底面から立ち上がる側壁からなり、側壁が柔構造を有する内側壁及び外側壁の2重構造に形成され、容器部本体の外側壁と蓋部の外側壁内側が各々嵌合して密閉状態を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 フォトマスク用ガラス基板等の表面の品質及び収納ケースの内部に異物が存在するかを容易に検査することができる収納ケースを提供する。
【解決手段】 フォトマスク用基板17を収納する収納ケース11は、蓋12とケース本体13とから主に構成されている。蓋12とケース本体13とは金属材料からなる。蓋12がケース本体13に接合されると、収納ケース11の内部に基板収容室51が形成される。基板収容室51を画成する内面52,53には黒色皮膜が形成されている。 (もっと読む)


【課題】発塵、発熱を伴うことなく基板を高速で出し入れ可能なワイヤ式の基板カセットを提案すること。
【解決手段】同一平面上に平行に架け渡した複数本のワイヤ9によって基板収納棚10が形成され、当該基板収納棚10が多段に配列されている基板カセット1において、ワイヤ9には、当該ワイヤ9の軸線方向に沿って一定の間隔で、転がり軸受11が取り付けられている。転がり軸受11の内輪22はワイヤ9に固定され、外輪21によってガラス基板Wを載せる基板載置面が規定されている。ガラス基板Wの出し入れの際には、ガラス基板Wの移動に伴って外輪21が回転する。搬送に伴うガラス基板支持部分からの発塵、発熱が起きないので、ガラス基板Wを高速搬送でき作業効率を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウエハの撓みを抑制する支持具であって、支持具に半導体ウエハが取り付けられた状態で半導体ウエハに対して加工を行うことができるとともに、半導体ウエハの破損を防止しながら半導体ウエハを搬送することができる支持具を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハを支持する支持具10であって、枠体12と、枠体12に設けられており、枠体12の内孔14の中心に向かう方向に進退動可能であり、内孔14の中心軸回りに均等角度間隔で設けられた少なくとも3つの可動部30を有しており、各可動部30は、枠体12の内孔14の中心軸が伸びる方向に隙間30dを空けて配置された一対の支持部を有している。 (もっと読む)


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