本発明は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイデバイスを製造するための方法であって、該方法は次のステップを有している：
導光性の基板を設け、
該導光性の基板に少なくとも１つの透明な電極を配置し、該透明な電極は導光性の導電膜から成っており、
サブアッセンブリに少なくとも１つ有機層を形成し、該少なくとも１つ有機層は有機エレクトロルミネッセンス媒体から成っていて、該少なくとも１つ有機層は前記電極を被覆しており、
前記少なくとも１つ有機層の全面に導電膜を形成し、かつ
該導電膜の少なくとも一部分を照射法を使用して除去して、相互に電気的に絶縁されておりかつ透明な電極に対して垂直である方向に延在しているストライプライクな電極が生成されるようにする
方法を開示している。
（もっと読む）

OLEDデバイスであって、発光画素アレイを含み、各画素が、光を生成する1つ以上の発光層を含む有機層と、離間した電極とを有するサブ画素を含み、そして、色ガモットを画定する色を生成する3つ以上のガモット・サブ画素と、該ガモット・サブ画素によって生成される色ガモット内の光を生成する1つ以上のサブ画素とがあり；そして該ガモット・サブ画素のうちの1つ以上が、マイクロキャビティを形成する機能を発揮するリフレクターと半透明リフレクターとを含む、OLEDデバイス。
（もっと読む）

偏光を放射する反射性電極または反射性裏打ち材、直線偏光子および／または帯域フィルタを含む有機発光装置（ＯＬＥＤ）は、ＯＬＥＤからの実質的にすべての光を偏光子および／または帯域フィルタを通過させ、周辺光を実質的に吸収するように組み合わされる。着色された直線偏光子は直線偏光子と帯域フィルタの機能を提供する。光分散要素も含めることができる。
（もっと読む）

封止構造（３）と安定化層（５）とを含むディスプレイ装置のための封入構造が開示されている。封止構造（３）は、環境的に敏感な部分（２）とディスプレイ装置上の突出部（４）とを被覆する本質的に水／酸素不透過性膜である。安定化層（５）はディスプレイ装置、ディスプレイ装置上の突出部（４）、及び、耐引掻性を有する保護層を備えた封止構造（３）を被覆し、その結果、水／酸素不透過性及び耐引掻性を有する封入構造が得られる。
（もっと読む）

表示装置や照明装置に使用される有機ＥＬ発光素子の発光膜を構成する電子輸送層あるいは電子注入層として、従来使用されていたアルカリ金属をドープした有機材料は、アルカリ金属が、反応性が高く水酸化物になり易く、厳密なプロセス管理が必要で、発光素子、又は発光装置の封止を完全なものにしなければならず、また発光素子の寿命が十分長くならないという問題があった。 有機ＥＬ発光素子の発光膜を構成する電子輸送層あるいは電子注入層として、アルカリ金属内包フラーレン、またはアルカリ金属内包フラーレンをドープした有機材料を使用することにした。アルカリ金属内包フラーレン、またはアルカリ金属内包フラーレンをドープした有機材料は、大気中の水分や他の不純物との反応性が低く、プロセス管理が容易で、また、簡易な封止構造を使用しても、発光素子の寿命を十分長くできる。 （もっと読む）

基板（１０）上に固相アレイを形成するように、化学物質を空間選択的に堆積することによってマイクロメートル規模及びナノメートル規模で製作又は製造する方法であって、静電気的潜像の形成のように、基板上の少なくとも一つの領域に基板の他の領域の電荷とは異なる静電荷を形成することによって、少なくとも一つの領域（１５）を定義する工程と、基板にエマルジョンを塗布する工程とを含む方法。エマルジョン（１６）は、帯電した不連続相及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる選択的に堆積されるべき成分を有している。このエマルジョンの不連続層は、当該領域上の静電荷により引寄せられることによって予め選択された領域に引寄せられ、反応を伴って又は伴わずに堆積が得られる。光導電体の使用によって、静電画像を形成することができる。形成されるアレイは、フラットスクリーンディスプレーパネルのためのものであってよく、ＤＮＡチップ、印刷回路、半導体チップ、ナノテクノロジー、ミクロ電気機械的システム、可撓性印刷回路等を製造するためのものであってよい。 （もっと読む）

両方とも駆動回路（３）に接続可能であり、下方から電気的にアクセス可能である下部電極層（１０）と上部電極層（２）とを有するエレクトロルミネッセンス装置（１）について開示している。１つ又はそれ以上の機能層（５）が、エレクトロルミネッセンス領域を形成するように電極層（２、１０）間に配置されている。その装置（１）は正に傾斜した絶縁性リブ（７）を有するレリーフパターンを有し、それらのリブ間に井戸（１３）が形成されている。上部電極層（２）は少なくとも１つの正に傾斜したリブ（７）を覆う延長部を有し、井戸（１３）は第１側面（７´）に備えられ、接触表面（４）は正に傾斜した絶縁性リブ（７）の第２側面（７´´）に備えられている。上部電極層（２）の延長部は前記上部電極層（２）により覆われている前記接触表面の少なくとも一部を備えている。それ故、上部電極層（２）は接触表面（４）において下方からアクセス可能になる。装置（１）は、アクティブマトリクスディスプレイにおける構造化陰極のために及び／又は透明／半透明陰極におけるシート抵抗を減少させるために用いられることが可能である。

（もっと読む）