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国際特許分類[H01L31/04]の内容

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【課題】軽量で可撓性を有する光電変換素子を提供する。
【解決手段】光電変換素子1は、蓄電部10と、受光部20と、半導体層40と、膨張黒鉛シート3とを備える。蓄電部10は、正極2、負極4、及び電解質6を有する。電解質6は、正極2と負極4との間に配されている。受光部20は、正極2の上に配されている。受光部20は、第1の半導体からなる。半導体層40は、負極4の上に配されている。半導体層40は、第2の半導体からなる。膨張黒鉛シート3は、蓄電部10の正極2と電解質6との間に配されている。 (もっと読む)


【課題】裏面パッシベーション型の光電変換素子において、裏面電極のまわりに均質にBSFを形成し、変換効率を向上させる。
【解決手段】光電変換素子1は、片面にn型拡散層11が形成され、前記片面と反対側の面に凹部10bを有するp型結晶シリコン基板10と、p型結晶シリコン基板10の前記片面と反対側の面に接して形成され、凹部10bと対応する位置に開口部30aを有するパッシベーション膜30と、開口部30aを介して凹部10bと接するように形成されたアルミニウム電極41とを備える。p型結晶シリコン基板10は、p型結晶シリコン基板10よりもドーパント濃度の高い高濃度p型拡散層12を凹部10bに有する。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で大面積の積層基板を高速で高精度に検査できる検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板K0上にモリブデン層K1が形成されると共にモリブデン層K1上に薄膜K2,K3が形成された基板Kの、薄膜K2,K3側から形成されたパターニングを検査する検査装置1であって、移送中の基板Kのガラス基板K0側に光を照射する下部照明10と、移送中の基板Kの薄膜K2,K3側に光を照射する上部照明20とを設けると共に、基板Kを透過する下部照明10の光軸P上で且つ基板Kで乱反射する上部照明20の光軸D上に配置された第1ラインセンサカメラ11と、基板Kで正反射する上部照明20の光軸S上に配置された第2ラインセンサカメラ21とを設け、ラインセンサカメラ11,21で検知した光の状態に基づいてパターニングの良否を判断する突き抜け検査用パソコン12及び擦れ検査用パソコン22を具備する。 (もっと読む)


【課題】高い光電変換効率を有するCZTS系薄膜太陽電池を提供する。
【解決手段】CZTS系薄膜太陽電池は、基板1と、基板1上に形成した金属裏面電極層2と、金属裏面電極層2上に形成したp型CZTS系光吸収層3と、p型CZTS系光吸収層3上に形成したn型透明導電膜5と、を備え、p型CZTS系光吸収層3と金属裏面電極層2との界面に、ZnS系小粒子の分散層30を有する。 (もっと読む)


【課題】 搬送ワークの搬送中に生じるヨーイングを搬送しながら補正できるヨーイング補正機構を提供すること。
【解決手段】 搬送ワーク5の側部を保持する保持装置3と、レール6に沿って保持装置3をワーク送り方向Xに搬送する走行装置2と、保持装置3を走行装置2のワーク送り方向前部及び後部で支持する支持機構31,32とを備え、支持機構31,32は、走行装置2に設けた駆動軸の軸線O1 ,O2 に対して所定の偏心量eで前部又は後部の一方がワーク送り方向Xに偏心した位置で、他方がワーク送り方向Xと交差する方向に偏心した位置で保持装置3と係合する軸線O3 を具備した偏心軸38を有し、搬送ワーク5のヨーイングを、偏心軸38の軸線O3 を駆動軸36,37の軸線O1 ,O2 を中心に回動させることで保持装置3と走行装置2との位置を相対移動させて補正する。 (もっと読む)


【課題】 高い導電性を実現できるとともに、基材上に形成された導体パターンの線幅の太りを低減することができる加熱硬化型導電性ペースト組成物を低コストで提供する。
【解決手段】 本発明に係る加熱硬化型導電性ペースト組成物は、(A)銀粉末と、(B)加熱硬化性成分と、(C)硬化剤と、(D)溶剤と、必要に応じて(E)添加剤とを含有しており、さらに、レオメータで測定した貯蔵弾性率が100Pa〜400Paとなっている。これにより、高い導電性を実現しつつ高精細な導体パターンを低コストで形成することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】光劣化率を低減可能な光電変換素子を提供する。
【解決手段】光電変換素子10は、光電変換部3を備える。光電変換部3は、p型非晶質半導体層31、バッファ層32、シリコン薄膜33、i型非晶質半導体層34およびn型非晶質半導体層35を積層した構造からなる。バッファ層32における炭素原子の含有量は、基準値よりも少なく、基準値は、3×1014(個/cm)〜1.2×1016(個/cm)の範囲、または3×1014(個/cm)〜1.4×1016(個/cm)の範囲からなる。また、シリコン薄膜33は、バッファ層32とi型非晶質半導体層34との間に配置され、バッファ層32の光学バンドギャップとi型非晶質半導体層34の光学バンドギャップとの間の光学バンドギャップを有する。 (もっと読む)


【課題】耐硫化性及び導電性に優れた耐硫化性電極材料及びこれを用いた耐硫化性電極を提供すること。
【解決手段】Mo−X合金からなる耐硫化性電極材料。但し、前記Xは、Moと合金を形成し、Moより室温での硫化物生成自由エネルギーが負に大きく、かつ、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、希土類金属元素、及び、Tlより元素番号の大きな元素以外の金属元素。前記Xの含有量は、1at%以上20at%以下が好ましい。少なくとも表面から50nmまでの領域が本発明に係るMo−X合金からなる耐硫化性電極。元素Xは、Al及びGaからなる群から選ばれるいずれか1以上の金属元素が好ましい。 (もっと読む)


【課題】本発明は、太陽光の吸収率が高く且つ光電変換効率が高い太陽電池及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の太陽電池は、順に配列し且つ互いに接触する第一電極と、P型シリコン層と、N型シリコン層と、第二電極と、反射素子と、を含む。第一電極とP型シリコン層とN型シリコン層と第二電極とが一つの直線上に設置されて全体構造を有する一つの電池ユニットを形成し、該電池ユニットは、前記直線に平行し、互いに対向する第一表面及び第二表面を含み、前記第一表面は、太陽電池の太陽光を直接的に吸収する光入射面であり、前記反射素子は、前記第二表面に設置される。 (もっと読む)


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