説明

国際特許分類[H01L33/04]の内容

国際特許分類[H01L33/04]の下位に属する分類

国際特許分類[H01L33/04]に分類される特許

1 - 10 / 23


【課題】水平方向への電流の拡散(分散)が改善されて発光効率が向上できる窒化物半導体発光素子を提供する。
【解決手段】本発明による窒化物半導体発光素子は、n型窒化物半導体層と、上記n型窒化物半導体層上に形成された活性層と、上記活性層上に形成されたp型窒化物半導体層と、上記n型窒化物半導体層の内部及び表面のうち少なくとも一つの位置に形成され、上記n型窒化物半導体層をなす物質との界面に2次元電子ガス層が形成されるように上記n型窒化物半導体層をなす物質よりバンドギャップエネルギーが大きい物質からなる複数の電流拡散層と、を含む。 (もっと読む)


【課題】高輝度の半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁性の成長基板130上に形成された第1型の窒化物系クラッド層30と、第1型の窒化物系クラッド層上に形成された多重量子井戸窒化物系活性層40及び多重量子井戸窒化物系活性層上に形成された第1型と異なる第2型の窒化物系クラッド層50と、を含む半導体装置において、第1型の窒化物系クラッド層の下部及び前記第2型の窒化物系クラッド層の上部のうち、少なくとも一つには、トンネルジャンクション層60、70が形成される。 (もっと読む)


【課題】半導体発光装置、例えば高出力の端面出射型スーパールミネッセントダイオードを効率良く得られるようにする。
【解決手段】半導体発光装置は、基板101と、基板101の上に形成され、光ガイド層120を含む複数の半導体層からなる積層構造体とを備えている。積層構造体は、上部に選択的に形成されたストライプ状の光導波路113と、積層構造体の端面からなる光出射端面115とを有している。光ガイド層120における積層面と光出射端面115とがなす角度θは、θ≠90°である。 (もっと読む)


【課題】効率が改善されたオプトエレクトロニクス半導体チップを提供する。
【解決手段】半導体チップの成長方向において、以下の順序で複数の領域を有する、すなわち、アクティブ領域に対するpドープされたバリア層と、電磁放射の生成に適しており、六方晶系の化合物半導体をベースとするアクティブ領域と、アクティブ領域に対するnドープされたバリア層とを有し、前記アクティブ領域は放射生成のために設けられている量子井戸構造を含み、成長方向において、前記放射生成のために設けられている量子井戸構造の前段には、放射生成のためには設けられていない少なくとも1つの量子井戸構造が配置されている。 (もっと読む)


【課題】 光半導体層の結晶性を向上させつつ、発光効率の低下を招きにくくすることが可能な発光素子を提供する。
【解決手段】 本発明の発光素子は、n型窒化ガリウム系半導体層3と、n型窒化ガリウム系半導体層3上に設けられた、窒化ガリウム系半導体を含む発光層4と、発光層4上に設けられた、発光層4と接するブロック層5を持つp型窒化ガリウム系半導体層6とを有し、ブロック層5は、マグネシウムを含有した電子ブロック層5aと、電子ブロック層5aよりもマグネシウムの含有量が小さい、厚みが3nm以下の正孔トンネル層5bとが積層されている。このような正孔トンネル層5bをブロック層5が有していることから、光半導体層7の結晶性を向上させつつ、発光効率の低下を招きにくくすることができる。 (もっと読む)


【課題】互いに対向する導電体層のエッジ同士の間に量子ドットなどのナノ要素を正確にかつ容易に挟むことができる量子装置の製造方法を提供する。
【解決手段】導電体層と誘電体層との周期構造体からなる第1の薄片の一導電体層のエッジ上に複数のナノ要素を導入した後、この面に対し、導電体層と誘電体層との周期構造体からなる第2の薄片の一方の面を、第1の薄片の導電体層と第2の薄片の導電体層とが互いに交差するように、かつ第1の薄片の面に対して平行に保って接近させる。第1の薄片の導電体層17と第2の薄片の導電体層17との間に電圧を印加することで発生する電場により、交差部で互いに対向する第1の薄片の導電体層17のエッジと第2の薄片の導電体層17のエッジとの間にナノ要素を引き込む。第1の薄片と第2の薄片との間隔を狭めて交差部における第1の薄片の導電体層のエッジと第2の薄片の導電体層のエッジとの間にナノ要素19を挟む。 (もっと読む)


【課題】バイアス方向によって発光波長を変えることができる半導体発光素子において、波長分離性を向上させること。
【解決手段】半導体発光素子はサファイア基板10を有し、サファイア基板10上に、n−GaN層11、n+ −GaN層12、p+ −GaN層13、第1発光層14、第2発光層15、p+ −GaN層16、n+ −GaN層17、n−GaN層18が順に積層されている。n−GaN層18上には第1電極19が形成されている。また、n−GaN層18表面の一部領域はn−GaN層11に達する深さの溝が形成されていて、その溝により露出したn−GaN層11上に第2電極20が形成されている。さらに、第1発光層14と第2発光層15との間には、第1発光層14および第2発光層15よりもバンドギャップの大きな波長分離層21が設けられている。 (もっと読む)


【課題】クラックの発生を抑制しつつ厚膜化され、且つ導電性を有する窒化物半導体層を有する半導体ウェハ及び半導体装置を提供する。
【解決手段】ノンドープの第1の窒化物半導体層とその第1の窒化物半導体層よりも格子定数が大きいノンドープの第2の窒化物半導体層とが交互に積層された構造を有する多層膜と、多層膜上に配置された、第1の窒化物半導体層よりも格子定数が大きいノンドープの第3の窒化物半導体層とを備え、膜厚方向に導電性を有する。 (もっと読む)


【課題】内部量子効率が高く、光取り出し効率が高い半導体発光素子を提供する。
【解決手段】窒化物半導体を含むn型半導体層10と、窒化物半導体を含むp型半導体層20と、n型半導体層とp型半導体層との間に設けられ、交互に積層された、複数の障壁層31と、複数の井戸層32と、を有する発光部30と、を備えた半導体発光素子が提供される。wn及びwpは、bn及びbpよりも大きい。p型半導体層に最も近い井戸層及び障壁層におけるp側端平均In組成比は、n型半導体層に最も近い井戸層及び障壁層におけるn側端平均In組成比よりも大きく、n側端平均In組成比の5倍以下である。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造によって、局在プラズモン共鳴現象により所望のスペクトル特性を得ることが可能となる半導体発光素子等を提供する。
【解決手段】基板上に、電流注入により発光する活性層を含む複数の半導体層が積層された半導体発光素子であって、
前記活性層の近傍に、金属ドット層を備え、
前記金属ドット層は、所定の波長に対して局在プラズモン共鳴する大きさのドット径を有する複数の金属ドットが、前記基板と平行に配列されて構成されている。 (もっと読む)


1 - 10 / 23