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国際特許分類[H05B33/02]の内容

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【課題】酸化物半導体を用いたトランジスタを有する信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板上に設けられたボトムゲート構造のスタガ型トランジスタを有する半導体装置において、ゲート電極層上に組成を異なる第1のゲート絶縁膜及び第2のゲート絶縁膜が順に積層されたゲート絶縁膜を設ける。又は、ボトムゲート構造のスタガ型トランジスタにおいて、ガラス基板とゲート電極層との間に保護絶縁膜を設ける。第1のゲート絶縁膜と第2のゲート絶縁膜との界面、又はゲート電極層とゲート絶縁膜との界面における、ガラス基板中に含まれる金属元素の濃度を、5×1018atoms/cm以下(好ましくは1×1018atoms/cm以下)とする。 (もっと読む)


【課題】表示装置用部材に有用な、薄膜且つ高偏光性能の偏光膜などを提供すること。
【解決手段】波長400〜800nmの範囲に吸収を有し、下記一般式(1)で表されるポリアゾ系色素材料の少なくとも1種と、
重合性スメクチック液晶化合物とを含有する組成物から形成される偏光膜、該偏光膜を備えた液晶表示装置などの提供。


[式(1)中、
Arは下記に示す基から選ばれる。



前記重合性スメクチック液晶化合物は、高次のスメクチック相の液晶状態を示す化合物であると好ましい。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子から光を効率よく取り出すことができ、かつエネルギー効率が高い有機EL装置の提供を目的とする。
【解決手段】透明基板10と、透明基板10の一方の面に設けられた有機EL素子20と、有機EL素子20における透明基板10と反対側に設けられた裏側基板30と、を有し、有機EL素子20が、透明基板10側から透明電極層21、正孔注入層22、正孔輸送層23、発光層24、電子輸送層25、電子注入層26及び反射電極層27が順次積層された積層体であり、電子輸送層25の厚みが30〜70nmである有機EL装置1。 (もっと読む)


【課題】光学表示デバイスの生産システムに用いられる光学表示部品の吸着装置において、吸着パッドの発塵を抑えて生産システムの歩留まりの低下を抑える。
【解決手段】液晶パネルPを吸着するべく液晶パネルP側に延びるリップ(第三傾斜部26e)を有する吸着パッド26と、吸着パッド26内に保持されるPEEK製のアタッチメント27とを備え、アタッチメント27が、吸着パッド26のリップの先端と液晶パネルPとの間に介在するパッド接触制限部27bを有する。 (もっと読む)


【課題】透光性基板、散乱層、被覆層、透光性電極層が積層された電子デバイス用基板であり、散乱層界面での全反射を抑制することによって、光取り出し効率を高めることを目的とする
【解決手段】透光性基板、散乱層、被覆層、透光性電極層が積層された電子デバイス用基板の製造方法であって、
(a)透光性基板上に、散乱層の原料と、前記散乱層の原料の焼成温度で消失する球状樹脂との混合物を配置、焼成して散乱層を形成する工程、
(b)前記(a)工程で形成した前記散乱層上に被覆層の原料を配置、焼成して被覆層を形成する工程、
を有しており、前記透光性基板の屈折率が最も低く、散乱層、被覆層、透光性電極層の順に屈折率が高くなるように各層が構成されていることを特徴とする電子デバイス用基板の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】高アスペクト比、高精細の障壁を備えた蛍光体基板を提供する。
【解決手段】本発明の蛍光体基板1は、基板2と、基板2上に設けられ、入射された励起光により発光する蛍光体層3R,3G,3Bと、蛍光体層の側面を囲む障壁4と、を備え、蛍光体層3R,3G,3Bと障壁4とを有する第1の領域M1と、第1の領域M1の外側に位置する第2の領域M2と、を備え、第2の領域M2には、第1の領域M1に形成された障壁4を構成する全ての部材あるいは一部の部材で形成された構造物5が設けられ、障壁4と構造物5の少なくとも一部とが連続体をなしている。 (もっと読む)


【課題】粘着剤層に基づく視認性に係るムラの問題を低減することができる粘着型光学フィルムを提供すること。
【解決手段】光学フィルムと、前記光学フィルムに設けられた粘着剤層を有する粘着型光学フィルムの製造方法であって、前記光学フィルムに、粘度Y(P)の水系または水分散系粘着剤塗工液を塗工厚みX(μm)で塗工する工程(1A)、および、塗工された粘着剤塗工液を乾燥して、粘着剤層を形成する工程(2A)を有し、かつ、前記粘着剤塗工液の粘度Yと塗工厚みXが、0.8X−Y≦68、を満足することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】額縁の領域をより狭くすることを可能とした表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表示装置は、配列された複数の表示素子(120)と外周側に電源の配線層(107)とを有する基板(100)と、表示素子の相互間を分離するバンク層(113)と、複数の表示素子とバンク層とを覆う電極層(123)と、基板の外周部分と外周を一周する封止部(202)において接着剤などの接合手段(301)を介して接合して電極層を更に覆う封止基板(200)と、を備え、封止基板の外周を基板の外周の内側に位置し、電極層の外周部を封止基板の封止部(b+c)内にて電源の配線(107)と接続する。それにより、電極(123)と配線(107)との接続領域(c)を基板と封止基板との接合領域(b+c)として活用し、ガスバリア等のために所要の接合幅を確保しつつ表示装置の額縁の構成要素となる部分を減らす。 (もっと読む)


【課題】十分に高い基材密着性を発現でき、被着体との間への気泡の巻きこみを低減でき、十分に高い濡れ性を発現できる、新規な表面保護フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の表面保護フィルムは、基材層と粘着剤層を有する表面保護フィルムであって、該粘着剤層がシランカップリング剤を含有し、該基材層の該粘着剤層側にコロナ処理が施されている。 (もっと読む)


【課題】燐光発光を利用した有機EL素子の光の取出し効率を向上させることが可能な有機EL素子を提供する。
【解決手段】透明支持基板10、第一の凹凸が形成されている凹凸層からなる回折格子11、並びに、第一の凹凸の形状が維持されるようにして、回折格子11上に順次積層された透明電極12、少なくとも発光層131を備える有機層13、及び、金属電極14を備える有機EL素子であって、(A)第一の凹凸の形状のフーリエ変換像が、円状又は円環状の模様を示しており、且つ、該模様が波数の絶対値が10μm−1以下の範囲内となる領域内に存在する、(B)第一の凹凸と、金属電極の有機層に対向する面の表面に形成された第二の凹凸とがいずれも、凹凸の深さ分布の標準偏差が15〜50nmとなる、(C)第一の凹凸の深さ分布の標準偏差に対する第二の凹凸の深さ分布の標準偏差の変化率が+15%〜−15%である、ことを満たしている有機EL素子。 (もっと読む)


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