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国際特許分類[H05B33/22]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | 電気加熱;他に分類されない電気照明 (50,146) | エレクトロルミネッセンス光源 (27,371) | 実質的に2次元放射面をもつ光源 (12,071) | 補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの (3,135)

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【課題】成膜プロセスにおけるディストーションに起因して生じる画質劣化を抑制することが可能な有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】有機EL表示装置は、駆動基板上に複数の画素を含む発光領域を備え、複数の画素はそれぞれ、駆動基板側から順に、画素毎に設けられた第1電極と、少なくとも有機電界発光層を含む機能層と、第2電極とを有し、機能層は、画素毎に塗り分けられた印刷パターン層を含む。駆動基板上には、印刷パターン層と駆動基板との間に設けられたいずれの層よりも突出した突部が設けられている。例えば有機電界発光層等の機能層のうちの少なくとも1層(印刷パターン層)を、画素毎に塗り分けて形成する際、発光領域内でのディストーションの発生が抑制される。 (もっと読む)


【課題】有機半導体層の電気的特性を確保することが可能な電子機器を提供する。
【解決手段】電子機器は、光源と、有機半導体層を含む薄膜トランジスタと、光源から生じた光が有機半導体層に至る経路に配置され、その有機半導体層の光吸収波長域のうちの少なくとも一部を含む波長域の光を吸収すると共にそれ以外の波長域の光を透過する光吸収透過層とを備える。 (もっと読む)


【課題】低消費電力で、寿命の長い表示装置および電気器具を提供する。
【解決手段】基板101および第1電極102の上に、各画素110を囲むように絶縁体隔壁103を設け、さらに導電性ポリマー104を、全面に塗布する。その場合、導電性ポリマー104の厚さ形状は、絶縁体隔壁103の影響により、T2>T1>T3となる。したがって、T3部分における横方向の抵抗が高くなり、クロストークを防ぐことができる。導電性ポリマー104のバッファ層としての機能も加わり、消費電力を抑える結果につながる。さらに、T2部分が厚くなるため、画素部周辺の電界集中を緩和し、画素部周辺からの有機発光素子の劣化を防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】EL膜、陰極の断線を防止する技術を提供することを課題とする。陰極と陽極に
挟まれた部分で、EL膜の膜厚が局所的に薄くなることを抑えることができ、EL膜に局
所的に電界が集中することを防ぐことができる。
【解決手段】陽極100上に絶縁膜101を形成し、絶縁膜101上にEL膜102、陰
極103を形成したEL素子において、絶縁膜101の下端部、上端部を曲面形状とする
。また、絶縁膜101の中央部のテーパー角を35°以上70°以下とする。 (もっと読む)


【課題】特性の良い半導体素子を有する半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】基板上に、ゲート電極として機能する第1の導電層を形成する工程と、第1
の導電層を覆うように第1の絶縁層を形成する工程と、第1の導電層と一部が重畳するよ
うに、第1の絶縁層上に半導体層を形成する工程と、半導体層と電気的に接続されるよう
に第2の導電層を形成する工程と、半導体層および第2の導電層を覆う第2の絶縁層を形
成する工程と、第2の導電層と電気的に接続される第3の導電層を形成する工程と、半導
体層を形成する工程の後、第2の絶縁層を形成する工程の前の第1の熱処理工程と、第2
の絶縁層を形成する工程の後の第2の熱処理工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】有機発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に配設された第1画素電極と、前記第1画素電極のエッジを覆うように形成され、前記第1画素電極の一部領域を露出させる第1開口部を有する第1バンクと、前記第1画素電極及び前記第1バンクの少なくとも一部領域を覆うように形成された第2画素電極と、前記第2画素電極を覆うように配設された有機発光層と、前記有機発光層を覆うように配設され、前記第1画素電極及び前記第2画素電極と対向するように形成される対向電極と、を備えることを特徴とする有機発光素子である。 (もっと読む)


【課題】金属配線の下層を加工または損傷させることなく、金属配線がショート不良となることを未然に防止できるレーザー修正工程を有する表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の画素を備えた表示部を有する表示装置の製造方法は、当該表示部が有するガラス基板11上に形成された駆動回路層12の表面を平坦化する平坦化膜13と、平坦化膜13上に積層された上部電極層14Pと、上部電極層14P上に形成され上部電極層14Pを画素形成領域ごとに配置された上部電極14として分離形成するためのパターニングされたレジスト20とを準備する第1工程と、隣接する画素形成領域の間の領域に残存するレジスト残り20Nに対し、266nmの波長を有するレーザーを照射することにより、レジスト残り20Nを除去する第2工程と、当該第2工程の完了後、全ての画素に対して、レジスト20をマスクとしてエッチングする第3工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】
ホログラムを用いたホログラムシートにおいて、その真正性を高めるために、照明光と同一の波長のホログラム再生像を再生するホログラムとは異なり、照明光とは異なる波長のホログラム再生をする新規なホログラムシートを提供する。
【解決手段】
透過型体積ホログラム形成層上にエレクトロルミネッセンス素子層を設け、所定の電界を印加することで、エレクトロルミネッセンス素子層を発光させ、可視光領域にある、その発光する光の色調による透過型ホログラム再生像を再生させ、目視にて判定可能とし、その偽造防止性を高めたホログラムシートとした。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式で基板上に有機EL材料を吐出、塗布し有機EL層を形成する有機EL装置の製造において、有効光学領域画素間および各画素内で有機EL薄膜の膜厚を均一にする。
【解決手段】表示に関係する表示画素が複数配置された有効光学領域と表示に関係しない第1ダミー領域とを含む有機エレクトロルミネッセンス装置形成領域が、複数の有効光学領域群を有する有機エレクトロルミネッセンス装置用基板を用いた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記有効光学領域群の周囲に、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス装置形成領域を囲むように第2ダミー領域を形成する工程と、前記第1ダミー領域、前記第2ダミー領域及び前記表示画素に、有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物を形成する工程と、を含む有機EL薄膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】AM−OLED等に比べて構成要素の膜厚管理を厳密に管理しなくても、高い発光効率と優れた光取り出し効率で駆動でき、幅広い発光波長で良好な駆動を期待できる自発光型表示装置を提供する。さらにLCDやPDPよりも軽量・薄型化でき、屋外での長時間使用にも耐えうる、高輝度で高画質を期待できる自発光型表示装置を提供する。
【解決手段】
基板2の上にTFT配線部3、パッシベーション膜4、第一蛍光体層6a、第一平坦化層7aを積層し、その上に透明アノード電極100、発光層101、透明カソード電極102を順次積層した発光体10を配設する。発光層101はZnO系またはGaN系等材料で構成し、発光面(上面)の面積に対する側面の総面積の割合を1/10以上に設定する。これにより表示装置1を得る。 (もっと読む)


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