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国際特許分類[H05B33/28]の内容

国際特許分類[H05B33/28]に分類される特許

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【課題】安価なフイルム基板上にロール成膜可能とされた、高透明性、高導電性を両立した有機電子デバイス用の透明導電フイルムを得る。
【解決手段】プラスチック支持体12上に、マスク蒸着された、膜厚が50nm以上500nm以下であり、平面視における線幅が0.3mm以上1mm以下の金属もしくは合金からなる導電性ライン14aが複数、間隔3mm以上20mm以下で配置されてなる導電ストライプ14と、プラスチック支持体12と導電ストライプ14を覆うように設けられた、比抵抗が4×10−3Ω・cm以下であり、膜厚20nm以上500nm以下である透明導電材料層18とから透明導電フィルムを構成する。 (もっと読む)


【課題】シート抵抗が低く、広い波長範囲で高い透過率を有する光透過型金属電極、電子装置及び光学素子を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、複数の第1金属線と、複数の第2金属線と、を含む光透過型金属電極が提供される。複数の第1金属線は、第1方向に沿って並ぶ。第1金属線は、第1方向と交差する第2方向に沿って延びる。複数の第2金属線は、第1方向と第2方向を含む平面に対して平行で第1方向と交差する第3方向に沿って並び、第1金属線と接触する。第2金属線は、その平面に対して平行で第3方向と交差する第4方向に沿って延びる。複数の第1金属線の第1方向における中心どうしの第1距離は、可視光を含む波長帯の最短の波長以下である。複数の第2金属線の第3方向における中心どうしの第2距離は、波長帯の最長の波長を超える。第1金属線と第2金属線の厚さは、最短の波長以下である。 (もっと読む)


【課題】EL層の劣化を抑制し、陽極などの電極のエッジ部における電界集中の影響を抑制させた軽量な発光装置。
【解決手段】基板上に薄膜トランジスタを有し、薄膜トランジスタ上に絶縁膜を有する。絶縁膜はコンタクトホールを有し、コンタクトホールを介して、陽極が薄膜トランジスタと電気的に接続されている。当該コンタクトホール内には、陽極及び別の絶縁膜を有し、当該陽極はコンタクトホール内で凹形状となる。別の絶縁膜は、樹脂を有することができ、凹形状を埋めることができる。 (もっと読む)


【課題】 低抵抗かつ高反射率の特性と共に表面粗さが小さく、高い耐硫化性及び耐塩化性を兼ね備えた導電性膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 導電性膜が、Cu:0.1〜2.5原子%、Sb:0.1〜1.5原子%、Ga:0.5〜3原子%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成を有した銀合金で構成されている。この導電性膜は、表面に有機EL素子の透明導電膜が積層され、さらにその上に有機EL層を含む電界発光層が積層される有機EL素子用の反射電極膜として好適である。 (もっと読む)


【課題】有機膜上に、光透過性、導電性が従来より高い透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法を提供する。
【解決手段】
有機膜上に透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法であって、酸素ガスを含まない雰囲気中に、金属酸化物の粒子を放出させ、有機膜上に到達させ、有機膜上に金属酸化物膜27を形成する金属酸化物膜形成工程と、金属酸化物膜27を酸化又は還元して第一の透明導電膜27’を形成する金属酸化物膜改質工程とを有している。成膜中に有機膜が酸素ガス又は酸素イオン、ラジカルで損傷することがない。また金属酸化物膜27を酸化又は還元させ、その酸素含有量を増減させることにより所望の膜質の透明導電膜27’が得られる。 (もっと読む)


【課題】透明性、導電性及び膜強度に優れると共に、高温、高湿度環境下においても透明性、導電性及び膜強度の劣化が少ない透明電極を提供する。
【解決手段】透明電極1は、透明な基板11と、基板11上に、パターン状に形成された金属材料からなる第1導電層12と、基板11上に形成されて第1導電層12と電気的に接続された、導電性ポリマー及び水系溶剤に分散可能なポリマーを含有する透明な第2導電層13と、を備え、第1導電層12は、金属粒子を用いて形成されており、第2導電層13に含有される水系溶剤に分散可能なポリマーは、解離性基含有自己分散型ポリマーであり、かつ、解離性基含有自己分散型ポリマーの解離性基の50%以上がアンモニウム塩又は炭素数6以下のアミン塩として中和されている。 (もっと読む)


【課題】熱処理による特性変動を抑制した酸化物半導体を用いた表示装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、絶縁層と、絶縁層上のゲート電極と、ゲート電極上にゲート絶縁膜を介して設けられ酸化物層より形成された半導体層と、半導体層の上において、ゲート電極を挟むように離間して設けられたソース電極及びドレイン電極と、を含む薄膜トランジスタと、ソース電極及びドレイン電極のいずれかに接続され、前記酸化物層より形成され前記半導体層よりも電気抵抗が低い画素電極と、画素電極に与えられる電気信号によって光学特性の変化と発光との少なくともいずれかを生ずる光学素子と、画素電極の下に設けられゲート絶縁膜と同じ材料で形成された膜と、を備え、ゲート電極の上のゲート絶縁膜の半導体層の側の表面は、画素電極の下に設けられた膜の画素電極の側の表面よりも平滑性が高い表示装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】表示画像の視認性を低下せることなく、小型化および高精細化を実現可能な有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】有機EL表示装置は、駆動基板上の表示領域に設けられた第1電極が、第1導電膜(反射膜)の下層に、これよりも低反射率の第2導電膜を有する積層膜からなる。周辺領域には、第2電極に接続される電極パッドが設けられ、この電極パッドが、第1電極を構成する積層膜のうちの少なくとも第2導電膜と同一材料よりなる導電膜を含む。第1電極では、積層膜のうちの反射膜としての第1導電膜の機能が発揮され、電極パッドでは、低反射率の第2導電膜と同一材料よりなる導電膜により、外光反射が抑えられる。 (もっと読む)


【課題】簡易な製造プロセスで低消費電力化を実現することが可能な有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】有機EL表示装置は、基板上に設けられた第1電極と、第1電極と電気的に絶縁して設けられた補助電極と、第1電極に対向して第1開口、補助電極の少なくとも一部に対向して第2開口をそれぞれ有する画素間絶縁膜と、画素間絶縁膜上の全域にわたって形成され、発光層を含む有機層と、有機層上に設けられた第2電極とを備える。画素間絶縁膜の第2開口は、基板面に対し鈍角をなして傾斜する順テーパ部と、基板面に対し鋭角をなして傾斜する逆テーパ部とを有する。蒸着用マスクや塗布法を用いた塗り分け工程、あるいはレーザー照射工程を経ることなく、第2開口内の逆テーパ部に対向する領域において、第2電極と補助電極との電気的接続が確保される。 (もっと読む)


【課題】光取り出し側の電極にシート抵抗の低い金属膜を用いた上で、該金属膜による共振効果を抑制した白色発光の有機EL素子を提供する。
【解決手段】金属膜からなる光取り出し側電極4と封止膜6との間に、可視光における透過率を向上させる光学調整層5を配置し、該光学調整層5の光路長を特定の範囲に設定することにより、光取り出し側電極4における共振効果を抑制する。 (もっと読む)


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