【課題】光学素子の光学特性を安定させる。
【解決手段】ホルダ装置は、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型の光学素子を保持可能なホルダ装置であって、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して低圧側の空間に配される第１部と、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して高圧側の空間に配される第２部とを含むホルダ部と、前記第２部と前記光学素子の間を封止する第１封止部材と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】面状放電を１対の同軸状電極間の管状放電に繋ぎ換えてプラズマを封じ込める磁場（磁気ビン）を形成するプラズマ光源において、面状放電から管状放電への繋ぎ換えを容易にする。
【解決手段】対向配置された第１及び第２の同軸状電極１０、１０´と、第１及び第２の同軸状電極１０、１０´内のプラズマ媒体をプラズマ発生に適した温度及び圧力に保持するチャンバー２０と、第１及び第２の同軸状電極１０、１０´に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０と、を備え、第１及び第２の同軸状電極１０、１０´間に管状放電４３を形成してプラズマ３を軸方向に封じ込めるプラズマ光源であって、対向するガイド電極の先端を互いに電気的に接続する接続部材１９を有し、該接続部材１９は、その中点Ｍにおいて、接地されるとともに、１対の同軸状電極１０に、それぞれ対応する電圧印加装置３０の経路を介して接続される。 （もっと読む）

【課題】安定してＥＵＶ光を生成する。
【解決手段】チャンバ装置は、ＥＵＶ光の生成が内部の所定の領域で行われるチャンバと、前記チャンバ内に配置され、前記所定の領域で生成されたＥＵＶ光を集光する集光ミラーと、前記集光ミラーに付着したデブリのエッチングが可能なエッチングガスを供給する少なくとも１つのエッチングガス供給部と、を備えてもよい。前記集光ミラーは、該集光ミラーのミラー面の中央部から外れた領域で該集光ミラーを貫通するように開口する少なくとも１つの第１貫通孔を含んでもよい。前記集光ミラーは、前記少なくとも１つの第１貫通孔が前記オブスキュレーション領域に実質的に対応する領域内に位置するように前記チャンバ内に固定されてもよい。前記エッチングガス供給部は、前記第１貫通孔の少なくとも１つに配置されてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定してＥＵＶ光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質にレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であって、前記ターゲット物質に照射する前記レーザ光を出力するレーザ装置と、前記レーザ光の波面を調節する波面調節器と、前記ターゲット物質で反射された前記レーザ光を結像させる結像光学系と、結像された像を撮像する像検出器と、前記像に基づいて前記波面調節器を制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】プラズマから放射された高エネルギ放射線のビーム束における特性の調整用の方法および機構を提供する。
【解決手段】集光光学系によって合焦されるビーム束内において、放射線の強度分布が、中間焦点１６の前の光軸１３に垂直な測定面１５２における収束ビーム束１５の断面にわたって取得され、かつ強度値が、光軸１３と同心の異なる半径を備えて整列された測定装置２の複数の受信領域用の画定されたセクタにおいて記録され、かつ測定量および制御変数が、集光光学系１４を整列させるために、異なるセクタの強度値の比較から決定される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源（２０）の内部部品（３０）を、プラズマ形成位置（２８）で生成され、最初は内部部品（３０）に向けられたイオン（２０６ａ、２０６ｂ）から保護するシステムを提供する。
【解決手段】内部部品（３０）とプラズマ形成位置（２８）との間に挿入され、プラズマ形成位置（２８）から内部部品（３０）へと延びる線に実質的に沿って位置合わせされた表面を有する少なくとも１つの箔板（１８０）と、イオン（２０６ａ、２０６ｂ）を箔板表面（２０８ａ、２０８ｂ）内へと偏向させる磁場（Ｂ２）を発生させる磁気源（２００ａ、２００ｂ）とを備える。 （もっと読む）

【課題】安定したパルスレーザ光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質に第１レーザ光を照射する第１レーザ装置と、前記第１レーザ光の照射によって拡散した前記ターゲット物質に第２レーザ光を照射して極端紫外光を生成する第２レーザ装置と、前記第１レーザ光の照射後、前記第２レーザ光の照射前に、該第２レーザ光よりもエネルギーの低い第３レーザ光を照射する第３レーザ装置とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光を放射するプラズマを生成するための理想的な面状放電を発生させることが可能なプラズマ光源を提供する。
【解決手段】プラズマ光源であって、互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極１０と、各同軸状電極１０に対して極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備え、各同軸状電極１０は、単一の軸線Ｚ−Ｚ上に延びる棒状の中心電極１２と、中心電極１２の中心軸Ｚに対して軸対称な面上に設けられた複数の外部電極１４と、中心電極１２及び各外部電極１４の間を絶縁する絶縁体１６とを有し、中心電極１２と各外部電極１４との間隔Ｇは、相手の同軸状電極１０に面する側からその反対側に向かうに連れて増加している。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光を放射するプラズマを生成するための理想的な面状放電を発生させることが可能なプラズマ光源を提供する。
【解決手段】プラズマ光源であって、互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極１０と、各同軸状電極１０に対して極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備え、各同軸状電極１０は、単一の軸線Ｚ−Ｚ上に延びる棒状の中心電極１２と、中心電極１２と一定の間隔を隔て、且つ中心電極１２の周方向に配置された複数の外部電極１４と、中心電極１２及び複数の外部電極１４を絶縁する絶縁体１６とを有する。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内を移動するデブリがＥＵＶ集光ミラー等の光学素子の反射率又は透過率を低下させることを防止して、長期間安定に極端紫外光を発生することができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、チャンバ内のプラズマ発光点に供給されたターゲットにレーザ光を照射して第１のプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内にガスを供給するガス供給装置と、プラズマ発光点が中心となるように配置されたＲＦアンテナを含み、ガス及び電気的に中性のターゲット物質を励起して、電気的に中性のデブリを帯電させる第２のプラズマを生成する高周波励起装置と、帯電したデブリの移動方向を制限する磁場を発生する磁場発生装置と、チャンバ内を排気することにより、第１のプラズマから放出され第２のプラズマにおいてガス化されたデブリをチャンバ外に排出する排気装置とを具備する。 （もっと読む）