国際特許分類[H05H1/00]の内容
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国際特許分類[H05H1/00]の下位に属する分類
電界または磁界あるいはそれらによってプラズマを閉じ込めるための装置;プラズマを加熱するための装置 (41)
プラズマの発生 (4,176)
プラズマの加速 (45)
国際特許分類[H05H1/00]に分類される特許
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プラズマトーチスペクトロメータ
スペクトロメータはプラズマトーチ(12)と、トーチ内部に正常なプラズマ(P)を発生するための誘導コイル(40)とを有している。トーチ(12)は外管(20)及び内管(22)を有している。プラズマ(50)が正常プラズマ状態からトロイダル状又は不完全なプラズマ形状(52)にくずれると、フォトダイオード(70)が形状の変化を検出するので、プラズマトーチは、プラズマ形状(52)がトーチの外管(20)を溶融することを防止するべく停止することができる。
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アーク放電識別装置
プラズマプロセスにおけるアーク放電の識別のためのアーク放電識別装置(1)はアーク放電識別信号を送出する比較器(4)を有し、この比較器(4)には信号及び基準値が供給され、基準値は調整装置(6)によって極値検出装置(5)により予め設定された期間に求められた信号の極値から形成され、比較器(4)は、基準信号と信号の瞬時値との比較の結果アーク放電が生じた場合に、アーク放電識別信号の状態を変化させる。
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分光測定診断用電子回路及び付属の計数チェーン
本発明は、検出されたパルスに対応するデジタルデータの検出手段及び振幅測定手段を備えることにより、測定された振幅を検出されたパルス(24)に関連付ける分光測定診断用電子回路に関する。本発明は、検出されたデジタルデータから、パルス幅閾値(tc)を超える幅を有するパルスと、プログラムされた時間間隔(T3)の間において当該プログラムされた時間間隔の第1パルスが検出された後の新規パルス全てとを拒絶するために用いられるパルス拒絶手段を備えることを特徴とする。本発明は核反応連鎖中の粒子の計数に適している。
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高周波電力供給システム
高周波電力供給システムは、高周波電源1の出力端Aから負荷L側の回路で発生する異常を検出する異常検出装置3を備える。異常検出装置3は高周波の進行波の電圧値Vfを検出する第1検波部21と、高周波の反射波の電圧値Vrを検出する第2検波部22と、進行波電圧値Vfと反射波電圧値Vrとから反射係数の微分値dΓ/dtを演算する反射係数演算部23及び微分演算部24と、反射係数の微分値dΓ/dtに基づいて異常発生の有無を判定する異常判定部25とで構成される。異常検出装置3から高周波電源1に異常検出信号が出力されると、高周波電源1の電力出力動作は停止させる。
(選択図 図1)
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プラズマインピーダンスを決定するための方法及び装置
プラズマインピーダンスを測定するためのプラズマプロセスシステム、方法及びコンピュータにより読み込み可能な媒体。このシステムは、プラズマを中に有するように構成され、内部の領域の中にチャックを有しているチャンバと、支持面及び底面を有するチャックと、チャンバの外部でチャンバと電源との間のRF伝送線に位置している第1の位置の第1の電圧―電流プローブとを有している。このシステムは、また、第1の電圧―電流プローブに接続され、この第1の電圧―電流プローブから伝送された測定値に基づいて、第1の位置とチャンバの中に位置している第2の位置との間のRF伝送線のRFモデルを解くように構成されている、シミュレーションモジュールを有している。
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プラズマ処理システム
処理システム(100)は、基板ホルダ(130)と電極(125)とを有する処理チャンバ(120)を含む。処理システムは、圧力制御システムとガス供給系とモニタ装置(160)とを含む。電極(125)には、単一可変素子を有する整合回路(115)を介して、マルチ周波数RF電源(110)が接続される。マルチ周波数RF電源は、プラズマを点火するように第1の周波数に設定され、プラズマを維持するように第2の周波数に設定される。 (もっと読む)
スパッタ処理システムにおけるプラズマ遷移の制御
物質処理に使用されるプラズマを制御するための方法および装置は、プラズマ容器および電源に連結された、共振回路およびスイッチ部の共同作用を特徴とする。プラズマ容器にあるプラズマの状態に関連する信号を取得するためのセンサーは、前記スイッチ部のクローズドループ制御に対応している。共振回路を短絡するためにスイッチ部を閉じることにより、前記センサーによって検出されたプラズマの好ましくない状態を取り除くことができる。 (もっと読む)
プラズマプロセス環境におけるプラズマ特性測定用センサアレイ
プラズマプロセスシステムは、プラズマ特性のその場測定を行う診断装置を備える。この診断装置は、通常、プラズマプロセスチャンバ内に配置された非侵襲性センサアレイと、このセンサを刺激する電気回路と、プラズマプロセスをモニタまたは制御するために、センサの測定値を記録して通信する手段とを備える。一実施形態では、このセンサは、入射荷電粒子電流と電子温度とを、プロセスシステム内のプラズマ境界近傍で測定する動的にパルス化したデュアルフローティング・ラングミュアプローブである。このプラズマ測定値を用いて、プロセス用プラズマの状態をモニタしてもよいし、プラズマプロセスを制御するのに用いるために、このプラズマ測定値をプロセスシステムコントローラに提供してもよい。 (もっと読む)
プラズマ源装置
本発明の高密度RFプラズマ源は、13.56MHzなどの周波数の波を送り出すために特殊なアンテナ構成を使用する。アンテナは、共通軸の周りに軸に沿って相互に間隔を置いて配置される数個の伝導性ループを含む。ループは、軸方向伝導性セグメントによって電気的に接続され、各ループは複数の直列接続された容量性素子を含む。このアンテナはチューニング可能なので、半導体製造のプラズマ加工において見られる発生プラズマにRFエネルギー(10)を能動的に結合させるのに適する。このプラズマ源は以下の用途に使用することができる:プラズマ・エッチング、蒸着、スパッタリング・システム、宇宙推進、プラズマに基づく滅菌、プラズマ切削システム。別の実施態様において、プラズマ源は、1つまたはそれ以上の加工チャンバと組み合わされ、プロセス・チャンバは磁石アレイ(14)及びRFコイル(15、16)を含む。これらの素子は、フィードバック制御法によってプラズマの閉じ込めまたは能動的プラズマ制御(プラズマ回転)のために使用することができ、一方、水分などの現場NMRモニタリングまたは分析のために使用することができる。
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波長変調分光器
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