【課題】可変コンデンサの調整処理を高速に行うことができるインピーダンス整合装置を提供すること。
【解決手段】 高周波電源Ａと負荷Ｂとの間に接続された第１及び第２可変コンデンサＣ１，Ｃ２と、負荷側Ｂの反射係数ρの実部Ｚの大きさに応じた第１検出値（Ｚ’値）と虚部φの大きさに応じた第２検出値（φ値）とを検出する検出部１２と、この検出部１２で検出した第１検出値に基づいて第１可変コンデンサＣ１の静電容量値を調整し、第２検出値に基づいて第２可変コンデンサＣ２の静電容量値を調整する制御部とを備えており、検出部１２は、負荷側Ｂの反射係数ρの実部Ｚの大きさに応じた値に反射係数ρの大きさに応じた値を加算した値を第１検出値（Ｚ’値）として検出する。 （もっと読む）

【課題】可変コンデンサの調整処理を高速に行うことができるインピーダンス整合装置及びそれを備えたプラズマ発生装置を提供すること。
【解決手段】高周波電源Ａと負荷Ｂとの間に接続された複数の可変コンデンサＣ１，Ｃ２と、負荷Ｂ側の反射係数の実部に応じた値と虚部に応じた値とを検出する検出部１２と、この検出部１２で検出した反射係数の実部に応じたＺ値と虚部に応じたφ値とに基づいて、複数の可変コンデンサＣ１，Ｃ２の調整速度を多段階に変更する制御部１３とを備える。そして、制御部１３は、Ｚ値及びφ値のいずれか一方のみが所定範囲に至ったときの当該所定範囲に至ったＺ値及びφ値に対応する可変コンデンサＣ１，Ｃ２の調整速度を、Ｚ値及びφ値の大きさが共に所定範囲に至ったときの調整速度よりも遅くする。 （もっと読む）

【課題】監視したり人手を要したりすることなく、容易にかつ確実にプラズマを点火したり再点火したりすることが可能なプラズマ点火技術を提供する。
【解決手段】所定の高周波信号ＨＳを発生しプラズマ発生させるための負荷電極１１４に供給する高周波電源装置１０１、高周波電源装置側と負荷電極側とのインピーダンスを整合させる整合装置１０５、高周波信号ＨＳの進行波および反射波を検出する進行波・反射波検出装置１０２、所定の高電圧ＨＶを発生する高電圧発生装置１０３、反射波の進行波に対する比率が第１のしきい値より大きい場合に高電圧ＨＶを高周波信号ＨＳに重畳する制御装置１００を備える。 （もっと読む）

【課題】負荷インピーダンス測定回路の測定誤差や実プロセス中の高周波の波形ひずみ等に起因する負荷インピーダンス測定精度の低下を補償すること。
【解決手段】この整合ポイント補正のためのオートラーニングにおいては、実際の加工対象ではないダミーの半導体ウエハをチャンバ内に搬入し、実プロセスと同じ条件でプラズマプロセスを実行して、基準インピーダンスＺ_sの下で整合器にオートマッチングを行わせ、反射波測定回路で得られた反射波電力の測定値を取り込んでメモリに格納する。そして、ロギング終了後に、メモリに取り込んである全ての反射波電力測定値の中で最小のものを最小値決定処理で決定し、この反射波電力最小値が得られたときの基準インピーダンスを当該実プロセスに対応する整合ポイントとして登録する。 （もっと読む）

【課題】プラズマプロセスの外部条件を容易に最適化する。
【解決手段】本発明によれば、小型のプラズマ発生装置を用い、例えば４．Ａに示されるようにプラズマ密度が位置によって異なり、４．Ｂに示されるようにラジカル密度が位置によって異なる状態を形成できる。そこでこのような小型のプラズマ発生装置に、プラズマプロセスの被処理物や材料形成基板を配置し、当該被処理物等の表面でプラズマ密度やラジカル密度を測定しながらプラズマプロセスを実行する。プラズマプロセスの結果物を位置ごとに評価し、最も評価の高くなる位置でのプラズマ密度やラジカル密度を決定する。この上で、他の、大型或いは一括処理形のプラズマプロセスにおいて、当該最適なプラズマ密度やラジカル密度が生成できるように外部条件を調整する。この調整の際には、被処理物等をプラズマ処理等する必要がない。 （もっと読む）

【課題】 スプラッシュやパーティクルの発生に直結するアーク放電発生時の電流上昇を効果的に制限しつつ、アーク処理終了時に放電電圧が過大となることを防止し得る電源装置を提供する。
【解決手段】 本発明の電源装置Ｅは、プラズマＰに接触するターゲットＴに直流電圧を印加する直流電源部２と、この直流電源部からの正負の出力５ａ、５ｂにて電極に発生するアーク放電を検出すると共に、そのアーク放電の消孤処理をし得るアーク処理部３とを備える。アーク処理部によりアーク放電の発生が検知され、消孤処理が開始されたときに前記電極への出力が定電流特性を有し、その消孤処理の終了までに前記電極への出力が定電圧特性を有するように、前記出力を切り換える出力特性切換回路６、ＳＷ２を備える。 （もっと読む）

【解決手段】データセンタのエレメントの非標準動作をシミュレートするためのコンピュータ実行方法及びデータセンタ管理装置が提供される。方法は、データセンタエレメントによって影響される１つのデータセンタリソースを決定する行為と、データセンタリソース及びデータセンタエレメントに基づいて複数のシミュレータから１つのシミュレータを選択する行為と、当該シミュレータを使用してデータセンタエレメントの非標準動作のインパクト分析を生成する行為とを含む。データセンタ管理装置は、ネットワークインターフェースと、メモリと、ネットワークインターフェース及びメモリにつながれたコントローラとを含む。コントローラは、データセンタエレメントによって影響される１つのデータセンタリソースを決定するように、データセンタリソース及びデータセンタエレメントに基づいて複数のシミュレータから１つのシミュレータを選択するように、並びに第１のシミュレータを使用してデータセンタエレメントの非標準動作のインパクト分析を生成するように構成される。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ監視用プローブ、プラズマ監視装置及びプラズマ処理装置に関し、従来のプラズマモニターでは検出できなかったより微弱のプラズマの変化を精度良く検出する。
【解決手段】 プラズマに対向する面の少なくとも一部に開口部が設けられた導電性支持部材の開口部に誘電体部材を設置し、前記誘電体部材の前記プラズマに対向する面と反対側の面にプローブ電極を設けるとともに、前記誘電体部材の前記プラズマに対向する前面にエネルギーフィルターを設ける。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】容量結合ＲＦ駆動プラズマ処理チャンバ内でプラズマ閉じ込めの状態の変化を検出するための方法およびシステムが開示されている。１または複数の実施形態において、プラズマ非閉じ込め検出方法は、静電チャック（ＥＳＣ）の形態の電力供給された電極におけるＲＦ電圧と、ＥＳＣへのウエハの固定に関与する電源（ＰＳＵ）の開ループ応答とを能動的にポーリングできるアナログまたはデジタル回路を用いる。その回路は、ＥＳＣに供給されるＲＦ電圧の変化およびＰＳＵの開ループ応答の変化の両方を検出する手段を提供する。これらの電気信号を同時に監視することにより、開示されているアルゴリズムは、閉じ込め状態から非閉じ込め状態へプラズマが変化した時点を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマを利用して基板等に所定の処理を施す処理装置において、プラズマの状態にアーク放電のような異常放電がある場合に小電力環境でラジカルやイオンを消滅させることなく異常放電を解消することで、動作信頼性に優れ処理効率の良いプラズマ処理を実現する高周波プラズマ処理方法及び高周波プラズマ処理装置を得る。
【解決手段】 二つの電極６１，６２が所定の間隔あけて対向配置された真空容器５内に所定のガスを導入し、処理対象物７を前記二つの電極６１，６２の電極間に配置した状態で、真空容器５内が通常放電状態のときは高周波電源１からの高周波信号を、異常放電状態のときは前記高周波信号と前記高周波信号よりも周波数の低い中間周波数信号とで振幅変調したものを出力し、その出力の最大振幅レベルを所定の振幅に増幅させて前記電極間に印加することにより、放電を発生させてプラズマ１４を形成し前記処理対象物７に所定の処理を施す。 （もっと読む）