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国際特許分類[H05H1/00]の内容

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【課題】紫外線の膜へのダメージ量の正確な予測が行えるようにするシミュレーション方法を提供する。
【解決手段】可視領域の発光スペクトルに関連付けした、紫外領域の各波長の発光強度の予測式を、多変量解析によって算出し、算出した予測式と、実際に検出された可視領域の発光スペクトルと、を用いて、紫外領域の発光スペクトルを予測し、予測した紫外領域の発光スペクトルから、半導体装置の製造における、紫外線によるダメージ量を予測するシミュレーション方法を実行する。 (もっと読む)


【課題】様々な位置からのパラメータの測定結果を同期または時間相関させることができる計測システムおよび監視方法を提供する。
【解決手段】回路内の複数の位置の内の1つにおける高周波電力の電気的特性に基づいて出力信号をそれぞれ発生する複数のセンサチャネルであって、各センサチャネルが、高周波電力の電気的特性に基づいて第1の信号を発生するプローブ20と、周期信号を発生する発振器62と、センサチャネルのための出力信号を発生するために、前記第1の信号と前記周期信号とを混合するミキサ64とを含む複数のセンサチャネルと、センサチャネルからの複数の出力信号に基づいて第2の出力信号を発生する高周波結合器70,72とを含む。 (もっと読む)


【課題】表面波プラズマ発生用アンテナから出力される電力やアンテナ直下のプラズマ状態を、プラズマ生成するための電界分布を乱すことなく直接検出することができるマイクロ波放射機構を提供すること。
【解決手段】マイクロ波放射機構41は、表面波プラズマ発生用アンテナ81と、誘電体からなる遅波材82と、アンテナ81から放射されたマイクロ波により表面波プラズマを生成するための電界が形成される誘電体部材83と、電界センサ112またはプラズマ発光センサ113と、遅波材82および表面波プラズマ発生用アンテナ81を貫通するように設けられたセンサ挿入孔110とを具備し、センサ挿入孔110は、スロット内側に対応する領域に、同一の円周上にスロットの1以上の整数倍の個数が均等に形成されており、電界センサ112またはプラズマ発光センサ113は、センサ挿入孔110の少なくとも一つに挿入されている。 (もっと読む)


【課題】送風用ファンのような機械的駆動部分がなく、従来に比べてより簡単な構造で効率よく高温ガスを吐出させることができる高温ガス用ポンプを提供する。
【解決手段】高温ガス用ポンプは、環状内部空間を備えるポンプ容器と、前記環状内部空間の一部分から循環する高温ガスを吐出させる吐出ノズルと、前記環状内部空間の壁面の周上の異なる位置に設けられる複数の電極対を有するアクチュエータであり、前記電極対のそれぞれは第1電極及び第2電極からなり、前記電極対のそれぞれの前記第1電極は前記壁から露出し、前記第2電極は前記誘電体内に埋め込まれ、前記第1電極と前記第2電極の間に電圧が印加されて前記第1電極と前記第2電極の間にプラズマを生成することにより、高温ガスの流れを形成するアクチュエータと、前記電極対に電圧を印加する電源と、を有する。前記第2電極はいずれも前記第1電極を基準にして周方向の同じ側に設けられる。 (もっと読む)


【課題】真空チャンバ内に導入するべき導入ガスの流量値が大きくても、その流量値の近傍の狭い区間で流量を高速制御でき、例えば、真空チャンバ内のプラズマを所望の状態で保ち続けて、成膜等に最適な状態を維持することが可能なプラズマ制御装置及び流量制御装置を提供する。
【解決手段】前記真空チャンバVC内に導入される導入ガスが流れる第1流路L1上に設けられた第1バルブ11と、前記第1バルブ11を経由して前記真空チャンバVC内に導入される前記導入ガスの流量が第1流量となるように当該第1バルブ11の開度を制御する第1バルブ制御部12と、プラズマモニタ3と、前記導入ガスが流れる第2流路L2上に設けられた第2バルブ21と、前記プラズマモニタ3で測定される測定プラズマ強度と、予め設定された設定プラズマ強度との偏差に基づいて前記第2バルブ21の開度を制御する第2バルブ制御部22と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】 小径のビア用開口内の樹脂残渣を除去し、接続信頼性の高いビア導体を形成できる環境調和型の多層プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 2炭素間の2重結合およびフルオロアルキルエーテル基を有するフルオロビニルエーテル系のガスを混合したプロセスガスを用いて、電子密度の高い大気圧プラズマ処理を行なうと、ビア導体用の開口の底の樹脂残渣を化学的反応により除去するFラジカル、CFラジカル、CF2ラジカル、CF3ラジカルが、低い混合比で潤沢に得られ化学的除去が効率的に進み、プラズマ中の粒子による物理的除去との相乗効果によりビアの樹脂残渣が除去される。 (もっと読む)


【課題】複数の半導体処理装置或いはリアクタ同士の間での処理室内部或いはプラズマの状態の差を低減することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】リアクタ101内部の処理室120内の試料台108内に配置された電極に高周波電源125からの電力が整合器124を介して供給しつつ前記プラズマを用いてウエハ107が処理されるプラズマ処理装置であって、前記処理中に前記電界の電力を複数の値に変動させて検出された前記電力の値の変化に対する前記プラズマの発光の強度、前記プラズマの発光の強度の時間変動の大きさ、前記整合器の整合位置及び前記電極に供給される前記高周波電力の電圧の値の変化を含む特性データのうち少なくとも2つ種類のデータの値の遷移点の前記電力の特定の値が、別のリアクタにおいて前記ウエハと同じ種類のウエハの前記処理中に検出された前記特性データを用いて検出された前記特定の値に合わせる。 (もっと読む)


【課題】効率的な誘導結合によるトロイダルプラズマ発生と金属含有フッ素ガス処理装置を提供する。
【解決手段】金属含有フッ素ガスを減少させるための装置は、金属含有フッ素ガスを閉じ込めるプラズマチャンバ20と、プラズマチャンバ20の一部分を取り囲む一次巻線18および磁心16を有する変圧器12を備え、一次巻線18に結合されたスイッチング電源26がトロイダルプラズマを直接生成し、トロイダルプラズマが、変圧器12の二次回路を完成させ、金属含有フッ素ガスと反応し、固体金属材料、固体金属酸化物材料又は固体金属窒化物材料の少なくとも1つを生成する。さらに、生成材料をプラズマチャンバから出力する出口と、出口と流体連通し収集するための交換可能な構成要素とを構成要素とを備える。 (もっと読む)


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