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国際特許分類[H05H1/24]の内容

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【課題】金属および金属化合物のターゲットを主原料とすることで、有機金属ガス等の有害なガスを使用する必要がなくなり、大気圧プラズマを反応場として利用すると共に、熱源としても利用することで高融点材であるシリコンやセラミックス等の基板上へ密着性の良好な金属またはその酸化物若しくは窒化物等の金属化合物薄膜の形成方法及びその形成装置を提供する。
【解決手段】マイクロプラズマ法による薄膜作製方法において、全体に亘って内径が均一である細管1内に薄膜形成用の原料ワイヤー3を設置し、細管1に不活性ガスを導入すると共に高周波電圧を印加して細管1内部に高周波プラズマを発生させ、1又は複数の細管1内部のプラズマガスの流速及びプラズマガス温度を高温に維持しながら原料を加熱・蒸発させ、蒸発した材料を細管1から噴出させて基板上に照射し、プラズマガスにより基板を加熱すると共に、照射した材料を大気圧下で基板上に堆積させる。 (もっと読む)


【課題】誘電体の欠陥の発生を抑え、誘電体材料の物性から期待される性能を発揮し得る誘電体バリア放電電極の製造方法を提供する。
【解決手段】粉状の誘電体粒子を成形処理して所定形状の成形体を得る第1工程と、成形体を加熱処理して誘電体からなる基板基材を得る第2工程と、基板基材もしくは基板基材から得られる板状基板4の一方の面の全体に導電性の電極膜5が形成された放電電極構造体7を得る第3工程と、放電電極構造体7の表裏面に渡って多数の貫通孔6を得る第4工程と、一対の放電電極構造体7を用い、放電電極構造体7の基板露出面8を対向させた状態で、一対の対向面間で、基板露出面8の外周周縁部に位置され、基板露出面8の中央側に開口を有する環状絶縁体9を挟持して、一体化する第5工程からなる誘電体バリア放電電極10。 (もっと読む)


【課題】液体収容部から気体収容部に液体が流入するのを防止し、気体通路の目詰まり及び気体収容部側に設けた電極への液体の付着により発生する不安定放電現象を防止することのできるプラズマ発生装置を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置1は、水を含む液体6を収容する液体収容部3と、気体を収容する気体収容部4と、気体収容部中の気体を液体収容部へ導く気体通路5aが形成され、液体収容部と気体収容部とを隔てる隔壁部3を有している。また、気体収容部に配設された第1電極10と、液体収容部中の液体と接触するように配設した第2電極11とを備えている。更に、気体を気体収容部に供給する気体供給部9と、プラズマ電源部13と、気体通路を介して液体収容部から気体収容部に液体が流入するのを防止する液体流入防止手段(制御部14)とを有している。 (もっと読む)


【課題】高湿度状態となることがある空間において良好に除菌を行える除菌装置及び除菌方法を提供することにある。
【解決手段】送風手段3の働きにより、除菌対象空間1内の気体を処理空間4に吸引して除菌対象空間1に戻す送風路5と、処理空間4に設けられたマイクロプラズマ発生手段6と、気体を加熱し結露を防止する結露防止手段7と、を備え、マイクロプラズマ発生手段6が、互いに略平行に配置される一対の電極板8と、電圧印加装置とを備えて構成されるとともに、一対の電極板8の夫々に、複数の貫通孔を電極板の厚み方向に形成して構成され、一対の電極板8の対向する表面の少なくとも一方に誘電体層が形成されるとともに、結露防止手段7が、処理空間4内若しくは送風路5において、気体の流れ方向においてマイクロプラズマ発生手段6の上流側に設けられた除菌装置。 (もっと読む)


【課題】放電発生終了後の気体通路の目詰まりを防止し、目詰まりによる不安定放電現象を防止することのできるプラズマ発生装置を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置1は、水を含む液体6を収容する液体収容部3と、気体を収容する気体収容部4と、気体収容部中の気体を液体収容部へ導く気体通路5aが形成され、液体収容部と気体収容部とを隔てる隔壁部3を有している。また、気体収容部に配設された第1電極10と、液体収容部中の液体と接触するように配設した第2電極11とを備えている。更に、気体を気体収容部に供給する気体供給部9と、プラズマ電源部13と、液体収容部内の液体を排水後に、気体通路に液体が残らないようにする排水促進手段である突起形状部14と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】長尺な導波管を用いて均一なラインプラズマを生成し、被処理体に対し均一な処理が可能な大気圧方式のプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置20は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置21と、マイクロ波発生装置21に接続され、その一部分としてアンテナ部40が設けられた矩形導波管22と、矩形導波管22に接続されてその内部へ処理ガスを供給するガス供給装置23と、アンテナ部40内のガス及び必要に応じて処理容器10内を排気するための排気装置24と、矩形導波管22内で定在波の位相を変化させる位相シフト装置25Aとを備えている。アンテナ部40は、スロット孔41を有しており、大気圧状態の矩形導波管22内に供給された処理ガスをマイクロ波によってプラズマ化し、スロット孔41から外部の被処理体へ向けて放出する。 (もっと読む)


【課題】エスカレータのハンドレールの殺菌と洗浄を行う。
【解決手段】ハンドレールと、ハンドレールに対してイオン、またはラジカル、またはUV光を照射するためのプラズマ源と、プラズマ源を収納するための筐体と、プラズマを生成するための電源と、筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、ラジカルや、除去した菌やウイルスや手あかなどの有機物を除去するためのフィルタユニットと、前記筐体のハンドレール移動方向の前後に、前記ハンドレールに沿ってフィルタプレートを有するプラズマ殺菌・洗浄装置。 (もっと読む)


【課題】装置構成が簡易で、水が流通している場合にのみプラズマによる滅菌作用を発現して流水中の雑菌を死滅させることができると共に、高いエネルギー効率を実現することができる水滅菌装置を提供する。
【解決手段】水の流路21内に配置され、水流によって回転する水車22の運動エネルギーを電気エネルギーに変換する発電装置23と、該発電装置23によって発電された電力を用いてプラズマを生成するプラズマ発生装置24とを有し、プラズマ発生装置24で生成したOラジカル及びOHラジカル又はその一方を用いて被処理水25に含まれている雑菌を死滅させる。 (もっと読む)


【課題】被処理物を異なる寸法のものに変更する際、反応ガスノズルの交換作業を省略する。
【解決手段】被処理物9を、表面処理装置1の支持部10の円筒ロール11,12によって支持する。反応ガスノズル20と円筒ロール11の周面(支持面)との間の処理空間90に、反応ガスノズル20の吹出し口29から重合性モノマーを含有する反応ガスを吹き出す。反応ガスノズル20の端部分の好ましくは側部に希薄化ノズル30を設ける。希薄化ノズル30を排気手段3又は希釈ガスの供給手段4に接続する。被処理物9の処理幅方向の幅寸法に応じて希薄化ノズル30を操作し、処理空間90における端側空間部92の反応ガスを中央空間部91より希薄にする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、少量から大量の粉体を均一に大気圧グロープラズマ処理して、その表面に有用な官能基を付与するプラズマ処理装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極2と、中心電極2と所定の空隙部5を介して配置された筒状の周辺電極3とを有する放電容器1と、中心電極2及び周辺電極3との間に連設された複数の仕切部16と、中心電極2表面若しくは周辺電極3表面の少なくとも一方に設けられた誘電体4と、放電容器1の一端側に設けられ、空隙部5に流体を注入可能に構成された流体注入手段と、放電容器1の他端側に設けられ、空隙部5から流体を排出可能に構成された流体排出手段と、中心電極2と周辺電極3との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、中心電極を回転中心として放電容器を回転せしめる回転手段とを備える。 (もっと読む)


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