【課題】細い荷電粒子ビームを安定して発生させること。
【解決手段】イオンビーム生成装置１は、ガス流を発生させるガス源７と、基端部２１がガス源７に接続され、先端部２５がテーパー状に形成されたキャピラリーチューブ９と、キャピラリーチューブ９の側面３５を外側から囲むように設けられた板状電極１９と、板状電極１９にパルス電圧を印加するパルス電圧源１１と、イオンビームの照射対象のターゲットＴに負の直流バイアスを印加するバイアス電圧源１３とを備え、キャピラリーチューブ９の側面３６には複数の側孔３７ａ，３７ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】誘電体バリア放電による気流誘起現象により、自由空間に気流を噴出することができる気流発生装置を提供する。
【解決手段】実施形態の気流発生装置１０は、表面が誘電体６２で被覆された棒状の導電体６１からなる第１の電極６０と、第１の電極６０と平行に配設され、第１の電極６０の導電体６１と断面形状が異なる棒状の導電体３１からなる第２の電極３０と、第１の電極６０と第２の電極３０との間に電圧を印加可能な放電用電源４０とを備える。第１の電極６０と第２の電極３０との間における誘電体バリア放電により、所定の方向に気流を噴出し、第１の電極６０および第２の電極３０のうち、気流の噴出方向側に位置する電極の断面が、気流の噴出方向に長軸を有する楕円形状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】電子バンチを容易に制御可能な電子源を提供する。
【解決手段】本発明による電子源（１００）は、パルスレーザ光（Ｌ１）を用いて発生させたレーザ航跡場によって加速された電子バンチを生成する電子バンチ生成部（１０）と、パルスレーザ光（Ｌ２）を用いて発生させたレーザ航跡場によって電子バンチを制御する電子バンチ制御部（２０）とを備える。このような電子源（１００）は、電子バンチ伸張器（１１０）および電子バンチ圧縮器（１２０）と組み合わせて好適に用いられる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生領域の体積を大きくしたプラズマ発生装置の提供。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置１００であって、長手方向に伸び、プラズマを発生する柱状のプラズマ化領域Ｐを内包する絶縁体から成る筐体１０と、プラズマ化領域Ｐにプラズマ発生ガスを前記長手方向に対して垂直な方向から長手方向に一様に供給するガス導入部１２と、プラズマ化領域Ｐにおいて、前記長手方向に離間して配置された１対の電極２ａ，２ｂと、プラズマ化領域Ｐに接続され、そのプラズマ化領域Ｐで生成された前記プラズマを排出し、プラズマ化領域Ｐの長手方向に沿って配列され、前記プラズマ発生ガスの流れる方向に長く伸びた多数の孔から成る排出部２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】長尺状の被処理物の表面に満遍なく均一に表面処理が可能なプラズマ処理方法およびこのプラズマ処理方法を用い、操作性に優れたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】第１筒状部２の長手方向に配設された複数個の円盤状のガイド部材５ａからなるガイド部が設けられている。ガイド部材５ａには、厚さ方向に貫通した少なくとも１つ以上の支持孔５ｃが形成されている。支持孔５ｃに長尺状の被処理物Ｗを通して支持し、プラズマの密度が高い領域、すなわち、第１筒状部２の内壁近傍へガイドするようにされている。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットＴにおいて、ソレノイドコイル３が、第一石英板４、第二石英板５、及び、複数の石英管６によって囲まれた長尺チャンバの周囲に配置され、最下部にプラズマ噴出口８が設けられる。石英管６の内部には冷却水が供給される。長尺チャンバ内部の空間７にガスを供給しつつ、ソレノイドコイル３に高周波電力を供給して、長尺チャンバ内部の空間７にプラズマを発生させ、基材２に照射する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマ発生装置において小型化と温度上昇に起因するマッチングのずれの防止を図る。
【解決手段】
プラズマ発生装置１はアンテナ１０の近傍に配置された放電管１１、アンテナ１０に高周波電力を供給する高周波電源１３、整合回路部１４、位相調整部１５を備える。位相調整部１５は、中空芯管２４の外周に形成された螺旋状の溝２４ｂに導線２５を収容することで中空芯管２４に導線２５を巻き付けてなるコイル２３Ａ，２３Ｂを備える、プラズマ発生装置。 （もっと読む）

【課題】殺滅速度が速くてコストの低い微生物の殺滅装置及び方法を提供する。
【解決手段】容器内にプラズマを導入する大気圧プラズマ生成手段を備えた微生物殺滅装置であって、前記大気圧プラズマ生成手段が、ＣＯ_２の含有率が５％以上のガスをプロセスガスとしてプラズマを生成するように構成した。 （もっと読む）

【課題】放射導体の先端から筒長方向に沿って延びる状態でプラズマを発生させる。
【解決手段】一方の端部が閉塞板１１ｂによって閉塞されると共に他方の端部に噴出口２５が形成された筒体１１ａを有する筐体１１と、閉塞板１１ｂの内面に筐体１１の筒長方向に沿って延出するように立設されると共に入力した高周波信号Ｓ１を放射する棒状の放射器１４とを備え、ガス供給部４によって筐体１１内に放電用ガスＧが供給され、かつ放射器１４が高周波信号Ｓ１を放射している状態において、放射器１４の先端近傍から噴出口２５を介して筐体１１の外方に延びるプラズマＰを発生させるプラズマ処理装置１であって、筐体１１の内面には、ガス供給部４から供給される放電用ガスＧを筐体１１内に互いに異なる方向で放出するガス放出口２２が複数形成されている。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットＴにおいて、スパイラルコイル３が第一石英板４に接合され、誘導結合型プラズマトーチユニットＴの最下部にプラズマ噴出口８が設けられる。第二石英板５及び第三石英板６に囲まれた長尺チャンバ内部の空間７にガスを供給しつつ、スパイラルコイル３に高周波電力を供給して、長尺チャンバ内部の空間７にプラズマを発生させ、基材２に照射する。 （もっと読む）