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国際特許分類[H05H1/24]の内容

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【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットTにおいて、スパイラルコイル3が第一石英板4に接合され、誘導結合型プラズマトーチユニットTの最下部にプラズマ噴出口8が設けられる。第二石英板5及び第三石英板6に囲まれた長尺チャンバ内部の空間7にガスを供給しつつ、スパイラルコイル3に高周波電力を供給して、長尺チャンバ内部の空間7にプラズマを発生させ、基材2に照射する。 (もっと読む)


【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットTにおいて、スパイラルコイル3が第一石英板4、第二石英板5、及び、冷媒ケース16によって囲まれた冷媒流路内に配置され、最下部にプラズマ噴出口8が設けられる。第二石英板5と冷媒ケース16とは、ボルト19をタップ18にねじ込むことにより、固定される。第二石英板5及び第三石英板6に囲まれた長尺チャンバ内部の空間7にガスを供給しつつ、スパイラルコイル3に高周波電力を供給して、長尺チャンバ内部の空間7にプラズマを発生させ、基材2に照射する。 (もっと読む)


【課題】対象物に対する最適なプラズマの照射状態を得ることができるプラズマ制御方法およびこの制御方法を用いてコストパフォーマンスに優れ、所望の照射条件で対象物に対して高精度で再現性よくプラズマ照射することができるプラズマ制御装置を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマを対象物に対して照射する場合に、前記プラズマの状態を制御するプラズマ制御方法において、前記対象物の状態を検出して前記対象物の状態の情報を取得し、前記対象物の状態の情報をフィードバックするとともに、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマの状態を制御するプラズマ制御方法およびこれを用いたプラズマ制御装置。 (もっと読む)


【課題】本発明は、プラズマを用いてシランガスを効果的に分解するための手段を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、プラズマを用いたシランガス除去装置に関する。本発明の一実施形態によるシランガス除去装置は、既設定された周波数の電磁波を発振する電磁波供給部と、前記電磁波供給部から供給された前記電磁波及び渦流ガスからプラズマを発生させる放電管と、前記放電管に前記渦流ガスを供給する渦流ガス供給部と、前記放電管で発生された前記プラズマとシランガスとの反応により二酸化珪素及び水が生成される反応炉と、前記放電管内に前記プラズマの発生のための初期電子を供給する点火部と、前記反応炉の上端に形成され、前記反応炉内部の前記プラズマに前記シランガスを供給するシランガス供給部と、前記反応炉で生成された前記二酸化珪素及び水を排出するガス排出部とを備える。 (もっと読む)


【課題】 プラズマ放電部を複数並べて任意の大きさの試料に対応できるように放電面積を拡大する場合であっても、単位あたりの電力コストを増加することなく、均一なプラズマ生成が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波信号回路13及び高周波電力回路11を有する高周波電源と筐体21と放電電極2とを備えたプラズマ処理装置において、筐体21内に設置された放電電極2と高周波電力回路11とでプラズマモジュールを構成し、複数個並列接続されたプラズマモジュールに高周波信号回路13からの周波数信号を入力する。 (もっと読む)


【課題】誘電体バリア放電方式で被処理体に効率良くプラズマを照射する。
【解決手段】複数のアンテナ電極2と複数のアース電極3とを電極軸の径方向に誘電体4を介して交互に配置して形成されるプラズマ電極1と、前記アンテナ電極に電圧を印加する高周波印加電源5とを備え、前記プラズマ電極と対向するように配置された導電性の被処理体7にプラズマを照射するプラズマ処理装置において、前記アース電極はアースに接続されると共に前記被処理体と電気的に接続され、前記被処理体と前記アースとの間の抵抗がプラズマの浮遊電位に基づき定められる値よりも小さいことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】放電空間におけるプラズマの分布及び流れを好適化できるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】誘電体3の貫通孔9は、放電空間9aと、放電空間9aとは反対側を拡径させる傾斜面3eを内周面の一部とする導入空間9bとを含む。第1対向電極5Aは、z方向の正側から放電空間9aに面し、放電空間9a側が誘電体3により覆われている。第2対向電極5Bは、第1対向電極5Aと放電空間9aを挟んで対向している。第1イオン風用電極7Aは、第1対向電極5A側の傾斜面3eに位置している。プラズマ発生体1は、第1対向電極5A及び第2対向電極5Bの間に電圧が印加されることにより放電空間9aにプラズマを発生可能であり、第1対向電極5A及び第1イオン風用電極7Aの間に電圧が印加されることにより導入空間9bから放電空間9aへ流れるイオン風を発生可能である。 (もっと読む)


【課題】被窒化処理物が持つ靭性等の特性を維持しつつ、表面の硬度を高めることができるとともに、耐久性を向上させることができる窒化処理方法を提供する。
【解決手段】窒化処理方法は、被窒化処理物16の表面に窒素プラズマを照射して窒化処理を行い、被窒化処理物16の表面に窒素原子の薄い拡散層を形成するものである。例えば、アルゴンプラズマ21から電子ビームを引き出し、該電子ビームにより窒素ガスから窒素プラズマ24を生成させ、該窒素プラズマ24により被窒化処理物16の表面から内部へ窒素原子を拡散させ、厚さが10μm以下の窒素原子の拡散層を形成する。窒化処理の温度は350〜600℃であることが好ましく、窒化処理の時間は1〜8時間であることが好ましい。また、被窒化処理物16に印加されるバイアス電圧は−50V〜−5Vであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】放電空間におけるプラズマの分布及び流れを好適化できるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】プラズマ発生体1は、共用電極5と、共用電極5と放電空間11を挟んで対向するプラズマ用電極7と、放電空間11に対して共用電極5側に位置するイオン風用電極9とを有する。共用電極5は、イオン風用電極9に対して共用電極5とプラズマ用電極7との対向方向に交差する方向の一方側(x方向の正側)に位置する。プラズマ発生体1は、共用電極5及びプラズマ用電極7の間に電圧が印加されることにより放電空間11にプラズマを発生可能であり、共用電極5及びイオン風用電極9の間に電圧が印加されることによりx方向の正側へ流れるイオン風を発生可能である。 (もっと読む)


【課題】効率よく排ガスを処理し、長期間安定してCOを供給する装置を提供することを目的とする。
【解決手段】処理対象のガスが流れる流路と、前記流路内に配置される、第1の電極と第2の電極と誘電体とを少なくとも備え、前記第1の電極と前記第2の電極の間に電圧を印加して放電を発生させることによりプラズマを発生させるプラズマ発生部と、前記処理対象のガスの反応を促進する触媒であって、前記流路内において前記プラズマ発生部によって発生したプラズマが存在する位置に配置され、無機材料上に固定された金粒子を含む触媒を有する触媒部と、を備えることを特徴とする燃焼排ガス処理ユニット。 (もっと読む)


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